CN108950474B - 掩模板及掩模组件 - Google Patents

掩模板及掩模组件 Download PDF

Info

Publication number
CN108950474B
CN108950474B CN201810823724.4A CN201810823724A CN108950474B CN 108950474 B CN108950474 B CN 108950474B CN 201810823724 A CN201810823724 A CN 201810823724A CN 108950474 B CN108950474 B CN 108950474B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
effective
area
reinforcing
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810823724.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108950474A (zh
Inventor
肖志慧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201810823724.4A priority Critical patent/CN108950474B/zh
Publication of CN108950474A publication Critical patent/CN108950474A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108950474B publication Critical patent/CN108950474B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供了一种掩模板及掩模组件，属于显示技术领域。所述掩模板上设置有掩模图案，掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域，以及包围有效掩模区域的周边区域；周边区域的掩模图案包括：位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条。本发明解决了在拉伸掩模板的过程中，掩模板中的掩模图案会发生较大形变，从而使得掩模组件无法正常使用的问题。本发明用于制备显示面板。

Description

掩模板及掩模组件
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩模板及掩模组件。
背景技术
随着科技的发展，显示面板的应用越来越广泛，在制造显示面板的过程中通常需要使用掩模组件在基板上形成图案。
掩模组件包括掩模框架，以及设置在掩模框架上的掩模板。掩模板上设置有网状的掩模图案。在组装掩模组件的过程中，需先对掩模板进行拉伸，以使掩模板绷直，之后将绷直的掩模板焊接在掩模框架上以形成掩模组件。
然而，相关技术中在拉伸掩模板的过程中，掩模板中的掩模图案会发生较大形变，从而使得掩模组件无法正常使用。
发明内容
本申请提供了一种掩模板及掩模组件，可以解决相关技术中掩模组件无法正常使用的问题，所述技术方案如下：
一方面，提供了一种掩模板，所述掩模板上设置有掩模图案，所述掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域，以及包围所述有效掩模区域的周边区域；所述周边区域的所述掩模图案包括：位于所述有效掩模区域在垂直于所述掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条。
可选的，所述掩模图案包括：n个有效掩模区域，所述周边区域的所述掩模图案包括：至少一组加固条，n≥1，每组加固条包括多个加固条，且所述多个加固条位于所述n个有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。
可选的，所述周边区域的所述掩模图案包括：与所述n个有效掩模区域一一对应的n组加固条，所述多个加固条位于所述每组加固条对应的有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。
可选的，所述每组加固条中每个加固条在参考面上的正投影为第一正投影，所述每组加固条对应的有效掩模区域在所述参考面上的正投影为第二正投影，所述第二正投影位于所述第一正投影内，所述参考面垂直于所述掩模板，且平行于所述待绷直方向。
可选的，所述周边区域的所述掩模图案包括：一组加固条，且所述一组加固条包括两个加固条。
可选的，所述n个有效掩模区域在参考面上的正投影位于每个加固条在所述参考面上的正投影内，所述参考面垂直于所述掩模板，且平行于所述待绷直方向。
可选的，所述加固条平行于所述待绷直方向。
可选的，所述周边区域的所述掩模图案还包括：位于所述有效掩模区域在所述待绷直方向上的至少一侧的加固条。
可选的，所述加固条位于所述周边区域中靠近所述有效掩模区域的部分区域。
另一方面，提供一种掩模组件，所述掩模组件包括上述掩模板。
本申请提供的技术方案带来的有益效果是：该掩模板上的掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域，以及包围该有效掩模区域的周边区域。由于周边区域的掩模图案包括位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条，且该加固条能够加固该有效掩模区域，使得在沿着该掩模板的待绷直方向拉伸该掩模板的过程中，加固条能够减小有效掩模区域的变形程度，避免了掩模板和掩膜组件无法正常使用。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种掩模板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种掩模板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的再一种掩模板的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的再一种掩模板的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的再一种掩模板的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的一种掩模组件的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的一种掩模板与遮挡板的位置关系示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
掩模组件包括掩模框架以及掩模板。相关技术中在组装掩模组件的过程中，掩模板中的掩模图案会在拉伸掩模板时发生较大形变，本发明实施例提供了一种能够减少该形变的掩膜板。
图1为本发明实施例提供的一种掩模板的结构示意图，如图1所示，该掩模板0上设置有掩模图案01，掩模图案01包括用于在衬底(图1中未示出)上形成图案的有效掩模区域011，以及包围有效掩模区域011的周边区域012，周边区域012的掩模图案01包括：位于有效掩模区域011在垂直于掩模板0的待绷直方向P1上的至少一侧的加固条013。
综上所述，在本发明实施例提供的掩模板中，该掩模板上的掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域，以及包围该有效掩模区域的周边区域。由于周边区域的掩模图案包括位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条，且该加固条能够加固该有效掩模区域，使得在沿着该掩模板的待绷直方向拉伸该掩模板的过程中，加固条能够减小有效掩模区域的变形程度，避免了掩模板和掩膜组件无法正常使用。
需要说明的是，在使用掩模组件制备显示面板的过程中，掩模组件中掩模板的有效掩模区域正对显示面板的有效显示区域，在有效掩模区域的变形程度较大时，该有效掩模区域与显示面板的有效显示区域的错位程度较大，导致该掩模组件制备的显示面板的显示效果较差。而本发明实施例提供的掩模板中有效掩模区域的变形程度较小，使用该掩模板所在掩模组件制备出的显示面板的显示效果较好。
另外，本发明实施例中仅以周边区域012的掩模图案01包括：位于有效掩模区域011在垂直于掩模板0的待绷直方向P1上的两侧的加固条013为例，可选的，周边区域012的掩模图案01还可以包括：位于有效掩模区域011在垂直于掩模板0的待绷直方向P1上的一侧的加固条013，本发明实施例对此不作限定。
可选的，请继续参考图1，加固条013可以位于周边区域012中靠近该有效掩模区域011的部分区域(图1中未标出)，也即加固条013未与周边区域012中远离有效掩模区域011的边沿接触。示例的，加固条013与周边区域012中远离有效掩模区域011的边沿(图1中未标出)的最短距离D1的范围可以为0.5～5毫米。可选的，该最短距离D1的范围还可以为其他范围(如0.4～6毫米)，本发明实施例对此不作限定。
可选的，加固条013的宽度W1的范围可以为0.2～3毫米。加固条013的宽度W1的范围还可以为其他范围(如0.1～4毫米)，本发明实施例对此不作限定。
可选的，加固条013可以平行于待绷直方向P1，以便于在沿着待绷直方向P1拉伸掩模板时，该加固条013有效的抵抗有效掩模区域011在垂直于待绷直方向P1上的形变，进一步减小了有效掩模区域011的变形程度。可选的，加固条013还可以与待绷直方向P1之间具有倾角，本发明实施例对此不作限定。
可选的，图2为本发明实施例提供的另一种掩模板的结构示意图，如图2所示，在图1的基础上，周边区域012的掩模图案01还可以包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的至少一侧的加固条014。且图2中仅以周边区域012的掩模图案01包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的相对两侧的加固条014为例，可选的，周边区域012的掩模图案01还可以包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的一侧的加固条014，本发明实施例对此不作限定。
可选的，图3为本发明实施例提供的又一种掩模板的结构示意图，如图3所示，在图1的基础上，掩模图案01可以包括：n个有效掩模区域011，周边区域012的掩模图案01可以包括：至少一组加固条013，n≥1，每组加固条013包括多个加固条013，且多个加固条013位于n个有效掩模区域011在垂直于待绷直方向P1上的相对两侧。
可选的，周边区域012的掩模图案01可以包括：与n个有效掩模区域011一一对应的n组加固条013，多个加固条013位于每组加固条013对应的有效掩模区域011在垂直于待绷直方向P1上的相对两侧。
可选的，每组加固条013中每个加固条013在参考面M1上的正投影为第一正投影Y1，每组加固条013对应的有效掩模区域011在参考面M1上的正投影为第二正投影Y2，第二正投影Y2位于第一正投影Y1内，参考面M1垂直于掩模板0，且平行于待绷直方向P1。
需要说明的是，本发明实施例中仅以第二正投影Y2位于第一正投影Y1内为例，可选的，第二正投影Y2还可以与第一正投影Y1重合，或第一正投影Y1可以位于第二正投影Y2内，本发明实施例对此不作限定。且在第二正投影Y2位于第一正投影Y1内，或第二正投影Y2与第一正投影Y1重合时，在沿着待绷直方向P1拉伸掩模板0的过程中，每组加固条013可以有效的抵抗其对应的有效掩模区域011在垂直于待绷直方向P1上的相对两侧的形变，进一步减小了有效掩模区域的变形程度。
可选的，每组加固条013包括两个加固条013。每组加固条013还可以包括其他个数(如四个)加固条013，本发明实施例对此不作限定。
可选的，n个有效掩模区域011可以沿平行于待绷直方向P1依次排布，且n＝2。n个有效掩模区域011还可以包括多行和多列有效掩模区域011，且n还可以可以为其他数值(如n＝4)，本发明实施例对此不作限定。
可选的，该掩模图案01还可以包括辅助掩模区域015，且该辅助掩模区域015可以位于有效掩模区域011和包围有效掩模区域011的周边区域012在平行于绷直方向P1上的至少一侧。该辅助掩模区域015的掩模图案01用于在沿着待绷直方向P1拉伸掩模板0时，减少由拉伸处传输至有效掩模区域011的应力。
可选的，图4为本发明实施例提供的再一种掩模板的结构示意图，如图4所示，在图3的基础上，周边区域012的掩模图案01还可以包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的至少一侧的加固条014。且图4中仅以周边区域012的掩模图案01包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的相对两侧的加固条014为例，可选的，周边区域012的掩模图案01还可以包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的一侧的加固条014，本发明实施例对此不作限定。
图5为本发明实施例提供的再一种掩模板的结构示意图，如图5所示，该掩模板0的掩模图案01包括：n个有效掩模区域011，n≥1，周边区域012的掩模图案01可以包括：一组加固条016，且该一组加固条016可以包括两个加固条016，且该两个加固条016位于n个有效掩模区域011在垂直于待绷直方向P1上的相对两侧。
可选的，n个有效掩模图案011在参考面M1上的正投影Y3位于每个加固条016在参考面M1上的正投影Y4内，参考面M1垂直于掩模板0，且平行于待绷直方向P1。
需要说明的是，本发明实施例中仅以正投影Y3位于正投影Y4内为例，可选的，正投影Y3还可以与正投影Y4重合，或正投影Y4还可以位于正投影Y3内，本发明实施例对此不作限定。在正投影Y3位于正投影Y4内，或正投影Y3与正投影Y4重合时，在沿着待绷直方向P1拉伸掩模板0的过程中，两个加固条016可以有效的抵抗n个有效掩模区域011在垂直于待绷直方向P1上的两侧形变，进一步减小了有效掩模区域的变形程度。
可选的，图6为本发明实施例提供的再一种掩模板的结构示意图，如图6所示，在图5的基础上，周边区域012的掩模图案01还可以包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的至少一侧的加固条014。且图6中仅以周边区域012的掩模图案01包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的相对两侧的加固条014为例，可选的，周边区域012的掩模图案01还可以包括：位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的一侧的加固条014，本发明实施例对此不作限定。
综上所述，在本发明实施例提供的掩模板中，该掩模板上的掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域，以及包围该有效掩模区域的周边区域。由于周边区域的掩模图案包括位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条，且该加固条能够加固该有效掩模区域，使得在沿着该掩模板的待绷直方向拉伸该掩模板的过程中，加固条能够减小有效掩模区域的变形程度，避免了掩模板和掩膜组件无法正常使用。
图7为本发明实施例提供的一种掩模组件的结构示意图，该掩模组件A可以包括：图1至图6任一所示的掩模板0。且图7中以该掩模组件A包括图3所示的掩模板为例。
可选的，该掩模组件可以包括掩模框架1和多个掩模板0，且该多个掩模板0可以焊接在掩模框架1上。可选的，该掩模组件还可以包括遮挡板(图6中未示出)。
需要说明的是，掩模组件中的遮挡板用于对掩模组件中掩模板的有效掩模区域外的周边区域进行遮挡，以露出掩模板的有效掩模区域。如图8所示，在通过遮挡板2和遮挡板3遮挡掩模板0的过程中，可以将遮挡板2的边沿覆盖在加固条013上，即可遮挡周边区域012中该遮挡板2靠近加固条013的部分区域，避免了在遮挡掩模板0的过程中，需将遮挡板2的边沿与有效显示区域012的边沿重合，降低了遮挡掩膜板0的难度。
综上所述，在本发明实施例提供的掩模组件的掩模板中，该掩模板上的掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域，以及包围该有效掩模区域的周边区域。由于周边区域的掩模图案包括位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条，且该加固条能够加固该有效掩模区域，使得在沿着该掩模板的待绷直方向拉伸该掩模板的过程中，加固条能够减小有效掩模区域的变形程度，避免了掩模板和掩膜组件无法正常使用。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未发明的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种掩模板，其特征在于，所述掩模板上设置有掩模图案，所述掩膜板用于焊接在掩膜框架上；
所述掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域，以及包围所述有效掩模区域的周边区域；
所述周边区域的所述掩模图案包括：位于所述有效掩模区域在垂直于所述掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条。
2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模图案包括：n个有效掩模区域，所述周边区域的所述掩模图案包括：至少一组加固条，n≥1，
每组加固条包括多个加固条，且所述多个加固条位于所述n个有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。
3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述周边区域的所述掩模图案包括：与所述n个有效掩模区域一一对应的n组加固条，
所述多个加固条位于所述每组加固条对应的有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。
4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述每组加固条中每个加固条在参考面上的正投影为第一正投影，所述每组加固条对应的有效掩模区域在所述参考面上的正投影为第二正投影，所述第二正投影位于所述第一正投影内，所述参考面垂直于所述掩模板，且平行于所述待绷直方向。
5.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述周边区域的所述掩模图案包括：一组加固条，且所述一组加固条包括两个加固条。
6.根据权利要求5所述的掩模板，其特征在于，所述n个有效掩模区域在参考面上的正投影位于每个加固条在所述参考面上的正投影内，所述参考面垂直于所述掩模板，且平行于所述待绷直方向。
7.根据权利要求1至6任一所述的掩模板，其特征在于，所述加固条平行于所述待绷直方向。
8.根据权利要求1至6任一所述的掩模板，其特征在于，所述周边区域的所述掩模图案还包括：位于所述有效掩模区域在所述待绷直方向上的至少一侧的加固条。
9.根据权利要求1至6任一所述的掩模板，其特征在于，所述加固条位于所述周边区域中靠近所述有效掩模区域的部分区域。
10.一种掩模组件，其特征在于，所述掩模组件包括权利要求1至9任一所述的掩模板。
CN201810823724.4A 2018-07-25 2018-07-25 掩模板及掩模组件 Active CN108950474B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810823724.4A CN108950474B (zh) 2018-07-25 2018-07-25 掩模板及掩模组件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810823724.4A CN108950474B (zh) 2018-07-25 2018-07-25 掩模板及掩模组件

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108950474A CN108950474A (zh) 2018-12-07
CN108950474B true CN108950474B (zh) 2020-06-23

Family

ID=64463449

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810823724.4A Active CN108950474B (zh) 2018-07-25 2018-07-25 掩模板及掩模组件

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108950474B (zh)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101693578B1 (ko) * 2011-03-24 2017-01-10 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크
CN103207518A (zh) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件
CN106048520B (zh) * 2016-05-27 2017-11-17 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板
CN105839052A (zh) * 2016-06-17 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板以及掩膜板的组装方法
CN106884140B (zh) * 2017-04-28 2019-04-30 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜组件及其组装方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN108950474A (zh) 2018-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3489755A1 (en) Mask plate and fabrication method therefor
US10662519B2 (en) Mask, method for manufacturing the same, and mask assembly
WO2021082754A1 (zh) 背板的加工工艺、背板及显示模组
CN108950474B (zh) 掩模板及掩模组件
CN210193986U (zh) 掩模板组件
JPS6233697B2 (zh)
CN110004407B (zh) 掩膜版组件及其制备方法
CN114613930A (zh) 一种掩膜组件及显示面板
US5030881A (en) Color picture tube with shadow mask having improved aperture border
WO2021027167A1 (zh) 显示面板及其制作方法
JP4030003B2 (ja) 中空パネル構造
JPH06243794A (ja) 陰極線管の内部磁気シールド
CN111769214A (zh) 掩膜板及其制作方法
CN111800955A (zh) 一种5g功放板薄板双面阻焊印刷的方法
JP2002197989A (ja) カラー受像管
US7301267B2 (en) Shadow mask having a slot structure that permits electron beams to enter at increased angles
CN114990478B (zh) 掩膜板支撑框架、掩膜板及其制作方法
CN110232867B (zh) 显示面板的母板曝光结构
KR100669452B1 (ko) 음극선관용 마스크 조립체
JP3257133B2 (ja) カラー陰極線管用色選別マスクの組立て法及びその装置
JP2002025458A (ja) カラー受像管
TWI789405B (zh) 光罩
US7170220B2 (en) Shadow mask with slots having a front side opening with an inclined from side edge
JP2003178692A (ja) カラー陰極線管
JP3847040B2 (ja) 陰極線管

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant