CN110004407B - 掩膜版组件及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种掩膜版组件及其制备方法，掩膜版组件包括框形架、主掩膜版和辅助掩膜版。主掩膜版和辅助掩膜版层叠设置，主掩膜版的外周区域和辅助掩膜版的外周区域，分别与框形架的内周区域连接。主掩膜版设置有多个工艺孔，辅助掩膜版设置有至少一个避让孔，工艺孔与对应的避让孔中一部分区域正对。辅助掩膜版与框形架之间的拉伸力，大于主掩膜版与框形架之间的拉伸力。框形架与辅助掩膜版预先形成的是一个不易再次变形且具有较高强度的组件，主掩膜版再连接至第一状态的框形架后，第一状态的框形架不会再次发生较明显的变形，使得主掩膜版的平坦度误差较小，主掩膜版的工艺孔形状精度以及相对于框形架的位置精度较高。

Description

掩膜版组件及其制备方法

技术领域

本申请涉及掩膜版的技术领域，具体而言，本申请涉及一种掩膜版组件及其制备方法。

背景技术

在显示面板制备过程中，需通过掩膜版组件实现对发光材料的蒸镀。掩膜版组件通常包括框形架和掩膜版，掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接，掩膜版设置有多个工艺孔，发光材料透过工艺孔镀在显示面板上的预设位置。

在掩膜版组件中，掩膜版的平坦度以及掩膜版中工艺孔相对于框形架的位置精度是两项重要的指标。为了保证掩膜版的平坦度，通常需要对掩膜版进行拉伸后再连接于框形架。然而，拉伸后的掩膜版与框形架之间存在拉伸力，这会导致掩膜版和框形架变形，使得掩膜版中工艺孔相对于框形架的实际位置偏离期望位置；另外，工艺孔自身的形状也会发生变形。

为了制备更大尺寸的显示面板(如折叠屏设备的面板或平板电脑的面板)，需要相应地增加掩膜版组件的尺寸。对于较大尺寸的掩膜版组件，由于掩膜版的拉伸而造成的工艺孔位置偏移和形状改变的问题更加严重，导致具有大尺寸显示面板的显示设备的窄边框技术难以实现。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩膜版组件及其制备方法，用以解决现有技术存在的技术问题。

第一方面，本申请实施例提供了一种掩膜版组件，包括框形架、主掩膜版和辅助掩膜版；主掩膜版和辅助掩膜版层叠设置，主掩膜版的外周区域和辅助掩膜版的外周区域，分别与框形架的内周区域连接；主掩膜版设置有多个工艺孔，辅助掩膜版设置有至少一个避让孔，工艺孔与对应的避让孔中一部分区域正对；辅助掩膜版与框形架之间的拉伸力，大于主掩膜版与框形架之间的拉伸力。

第二方面，本申请实施例提供了一种掩膜版组件的制备方法，用于本申请实施例第一方面提供的掩膜版组件的制备，包括：以第一拉伸力对辅助掩膜版进行拉伸和对位后，将辅助掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接；将主掩膜版移至辅助掩膜版上方，以第二拉伸力对主掩膜版进行拉伸和对位后，将主掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接；第一拉伸力大于第二拉伸力。

本申请实施例提供的技术方案，至少具有如下有益效果：

在本申请实施例提供的掩膜版组件中，由于主掩膜版的工艺孔与辅助掩膜版中对应的避让孔中一部分区域正对，也就是说，工艺孔的边缘完全在对应的避让孔的边缘之内，因此，在利用该掩膜版组件进行蒸镀时，工艺孔的位置和形状直接决定了发光材料层的位置和形状。这就要求主掩膜版平坦度误差较小，同时工艺孔也需要具备较高的位置精度和形状精度。

为了达到上述目的，在制备掩膜版组件时，以较大的拉伸力对辅助掩膜版进行拉伸和对位后，将辅助掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接；以较小的拉伸力对主掩膜版进行拉伸和对位后，将主掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接。这样可以保证辅助掩膜版与框形架之间的拉伸力，大于主掩膜版与框形架之间的拉伸力。

在安装主掩膜版之前，辅助掩膜版与框形架之间已具有较大的拉伸力，框形架已变形至第一状态，此时框形架与辅助掩膜版形成的是一个不易再次变形且具有较高强度的组件，因此主掩膜版被较小的拉伸力拉伸并连接至第一状态的框形架后，第一状态的框形架不会再次发生较明显的变形，这就保证了主掩膜版的工艺孔相对于第一状态的框形架的位置精度。另外，以较小的拉伸力对主掩膜版进行拉伸，既可以保证主掩膜版的平坦度误差较小，又可以避免主掩膜版中工艺孔发生较大程度的变形，保证工艺孔的形状精度。

即使本申请实施例提供的掩膜版组件的具有较大的尺寸，也能够保证主掩膜版的平坦度较小、且工艺孔的位置精度和形状精度较高，应用该较大尺寸的掩膜版组件可以为大尺寸显示面板进行蒸镀，使得具有的大尺寸显示面板显示设备的窄边框技术得以实现。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本申请实施例提供的一种掩膜版组件的结构示意图；

图2是本申请实施例提供的一种掩膜版组件的拆解示意图；

图3是本申请实施例提供的框形架和辅助掩膜版的装配示意图；

图4是本申请实施例提供的一种辅助掩膜版的结构示意图；

图5是本申请实施例提供的一种工艺孔和避让孔的数量对应关系示意图；

图6是本申请实施例提供的又一种辅助掩膜版的结构示意图；

图7是本申请实施例提供的又一种工艺孔和避让孔的数量对应关系示意图；

图8是本申请实施例提供的第一膜片中，工艺孔周边区域的结构示意图；

图9是本申请实施例提供的一种掩膜版组件的制备方法的流程示意图。

其中，附图标号的说明如下：

1-框形架；

2-主掩膜版；21-第一膜片；22-第一连接片；23-工艺孔；

24-第一凹槽；25-第二凹槽；

3-辅助掩膜版；31-第二膜片；32-第二连接片；33-避让孔。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

在显示面板制备过程中，需通过掩膜版组件实现对发光材料的蒸镀。发光材料透过掩膜版的工艺孔镀在显示面板上的预设位置，形成与工艺孔形状一致的发光材料层。因此，掩膜版的平坦度、工艺孔的位置精度和形状精度会直接影响发光材料层的成型质量。然而，利用拉伸掩膜版的来提高掩膜版的平坦度的方式，却会对工艺孔的位置精度和形状精度产生不良影响，这导致掩膜版的平坦度、工艺孔的位置精度和形状精度无法同时达到较佳的状态。

基于上述原因，本申请实施例提供了一种掩膜版组件，如图1和图2所示，包括框形架1、主掩膜版2和辅助掩膜版3。主掩膜版2和辅助掩膜版3层叠设置，主掩膜版2的外周区域和辅助掩膜版3的外周区域，分别与框形架1的内周区域连接。主掩膜版2设置有多个工艺孔23，辅助掩膜版3设置有至少一个避让孔33，工艺孔23与对应的避让孔33中一部分区域正对。辅助掩膜版3与框形架1之间的拉伸力，大于主掩膜版2与框形架1之间的拉伸力。

在本申请实施例提供的掩膜版组件中，由于主掩膜版2的工艺孔23与辅助掩膜版3中对应的避让孔33中一部分区域正对，也就是说，工艺孔23的边缘完全在对应的避让孔33的边缘之内，因此，在利用该掩膜版组件进行蒸镀时，工艺孔23的位置和形状直接决定了发光材料层的位置和形状。这就要求主掩膜版2平坦度误差较小，同时工艺孔23也需要具备较高的位置精度和形状精度。

为了达到上述目的，在制备掩膜版组件时，以较大的拉伸力对辅助掩膜版3进行拉伸和对位后，将辅助掩膜版3的外周区域与框形架1的内周区域连接；以较小的拉伸力对主掩膜版2进行拉伸和对位后，将主掩膜版2的外周区域与框形架1的内周区域连接。这样可以保证辅助掩膜版3与框形架1之间的拉伸力，大于主掩膜版2与框形架1之间的拉伸力。

在安装主掩膜版2之前，如图3所示，辅助掩膜版3与框形架1之间已具有较大的拉伸力，框形架1已变形至第一状态，此时框形架1与辅助掩膜版3形成的是一个不易再次变形且具有较高强度的组件。因此，主掩膜版2被较小的拉伸力拉伸后并连接至第一状态的框形架1后，第一状态的框形架1不会再次发生较明显的变形，这就保证了主掩膜版2的工艺孔23相对于第一状态的框形架1的位置精度。另外，以较小的拉伸力对主掩膜版2进行拉伸，既可以保证主掩膜版2的平坦度误差较小，又可以避免主掩膜版2中工艺孔23发生较大程度的变形，保证工艺孔23的形状精度。

即使本申请实施例提供的掩膜版组件的具有较大的尺寸，也能够保证主掩膜版2的平坦度较小、且工艺孔23的位置精度和形状精度较高，应用该较大尺寸的掩膜版组件可以为大尺寸显示面板进行蒸镀，使得具有的大尺寸显示面板显示设备的窄边框技术得以实现。

本领域的技术人员可以理解，被拉伸的辅助掩膜版3连接至框形架1后，导致框形架1变形至第一状态，主掩膜版2在辅助掩膜版3之后于框形架1连接，主掩膜版2的平坦度会受辅助掩膜版3的平坦度的影响，辅助掩膜版3的平坦度误差越小，则主掩膜版2的平坦度误差也就越小。

可选地，在本申请实施例提供的掩膜版组件中，辅助掩膜版3的平坦度误差包括辅助掩膜版3的顶面中任意两点之间的高度差，辅助掩膜版3的平坦度误差在120微米以下。也就是说，辅助掩膜版3的顶面中最高点和最低点之间的高度差在120微米以下，这可以保证主掩膜版2的平坦度误差较小。

可选地，在本申请实施例提供的掩膜版组件中，框形架1设置有至少一个定位标记(图中未示出)，主掩膜版2中工艺孔23相对于定位标记的位置的误差为±40微米。

例如，定位标记可以是设置在框形架1中的孔或附着物(如漆点)等，以定位标记为原点建立XY平面坐标系，工艺孔23的几何中心的期望坐标为(P，Q)，工艺孔23的几何中心的实际坐标为(P'，Q')。P与P'的差值在±40微米以内，且Q与Q'的差值在±40微米以内。或者，定位标记包括第一定位点和第二定位点，工艺孔23的几何中心的与第一定位点的期望距离为L，实际距离为L'；工艺孔23的几何中心的与第二定位点的期望距离为N，实际距离为N'；L与L'的差值在±40微米以内，且N与N'的差值在±40微米以内。

可选地，在本申请实施例提供的掩膜版组件中，如图2所示，主掩膜版2的中央区域包括第一膜片21，主掩膜版2的外周区域包括多个第一连接片22，工艺孔23设置在第一膜片21中，多个第一连接片22在第一膜片21的外周边缘沿周向间隔排列。每个第一连接片22的两端，分别与第一膜片21的外周边缘和框形架1的内周边缘连接。

以图2为例，框形架1的外周边缘呈圆角矩形，框形架1的内周边缘和第一膜片21的外周边缘都呈矩形。第一膜片21的四个边都连接有至少一个第一连接片22。第一连接片22的数量以及具体的设置位置可以根据实际需要而定，在图2中，第一膜片21的每个长边设置有5个间隔排列的第一连接片22，第一膜片21的每个短边设置有3个间隔排列的第一连接片22。

可选地，主掩膜版2中的第一膜片21和第一连接片22是一体成型的，例如对一个矩形膜片，利用切割或刻蚀等加工方法，形成第一连接片22以及工艺孔23。

可选地，在本申请实施例提供的掩膜版组件中，如图2、图4和图5所示，辅助掩膜版3的中央区域包括第二膜片31，辅助掩膜版3的外周区域包括多个第二连接片32，避让孔33设置在第二膜片31中，多个第二连接片32在第二膜片31的外周边缘沿周向间隔排列。每个第二连接片32的两端，分别与第二膜片31的外周边缘和框形架1的内周边缘连接。相邻的第一连接片22和第二连接片32，沿框形架1的内周边缘的延伸方向间隔预设距离。

以图2为例，第二膜片31的外周边缘呈矩形，第二膜片31的四个边都连接有至少一个第二连接片32。第二连接片32的数量以及具体的设置位置可以根据实际需要而定，在图2中，第二膜片31的每个边都设置有4个间隔排列的第二连接片32。

可选地，主掩膜版2中的第二膜片31和第二连接片32是一体成型的，例如对一个矩形膜片，利用切割或刻蚀等加工方法，形成第二连接片32以及避让孔33。

可选地，第一连接片22和第二连接片32是交错排布的，在图1中，每两个第一连接片22之间都设置有一个第二连接片32，相邻的第一连接片22和第二连接片32，沿框形架1的内周边缘的延伸方向间隔预设距离，使得第一连接片22和第二连接片32之间形成缝隙，在清洗阶段，该缝隙有助于清洗药液导出。当然，第一连接片22和第二连接片32的排列方式不限于此，例如，某两个相邻的两个第一连接片22之间不设置第二连接片32，另外两个相邻的第一连接片22设置多个连接片。

在本申请实施例提供的掩膜版组件中，主掩膜版2中的工艺孔23的数量，与辅助掩膜版3中避让孔33的数量可以相同或不同，只要可以保证每个工艺孔23的边线完全在对应的避让孔33的边线之内即可。

可选地，工艺孔23与避让孔33一一对应，工艺孔23的边线位于对应的避让孔33的边线之内。如图1和图2所示，主掩膜版2中设置有8个工艺孔23，8个工艺孔23按照2排4列的方式排列；辅助掩膜版3中设置有8个避让孔33，避让孔33的排列方式与工艺孔23的排列方式一致。避让孔33的轮廓大于工艺孔23的轮廓，每个避让孔33内仅包含一个工艺孔23。

可选地，至少两个工艺孔23对应一个避让孔33，每个工艺孔23的边线位于对应避让孔33的边线之内。以图4和图5为例，主掩膜版2中设置有8个工艺孔23，8个工艺孔23按照2排4列的方式排列，辅助掩膜版3中设置有4个避让孔33。同一列的工艺孔23(即2个工艺孔23)对应一个避让孔33，避让孔33的轮廓大于两个工艺孔23的轮廓。以图6和图7为例，主掩膜版2中设置有8个工艺孔23，8个工艺孔23按照2排4列的方式排列，辅助掩膜版3中设置有2个避让孔33。两列工艺孔23(即4个工艺孔23)对应一个避让孔33，避让孔33的轮廓大于4个工艺孔23的轮廓。当然，工艺孔23与避让孔33的数量对应关系不限于此，可以根据实际需要设计其他形式的数量对应关系。

可选地，在本申请实施例提供的掩膜版组件中，主掩膜版2的外周区域与框形架1的内周区域之间、以及辅助掩膜版3的外周区域与框形架1的内周区域之间，可以采用如下至少一种连接方式：焊接、热融合连接、粘接、铆合连接。

以图1为例，主掩膜版2的第一连接片22中远离第一膜片21的一端，与框形架1的内周边缘连接，二者之间采用激光焊接方式进行连接。辅助掩膜版3的第二连接片32中远离第二膜片31的一端，与框形架1的内周边缘连接，二者之间采用激光焊接方式进行连接。

可选地，如图8所示，图8是第一膜片21的局部剖视图，剖切面平行于第一膜片21的厚度方向，且经过一个工艺孔23。工艺孔23采用刻蚀的方法加工而成，第一膜片21的顶面和底面中，靠近工艺孔23四周的区域分别为第一凹槽24和第二凹槽25。第一凹槽24和第二凹槽25中靠近工艺孔23的边缘，分别工艺孔23的侧壁的上边线和下边线。在图8中，A为第一凹槽24的最大深度，B为工艺孔23的侧壁的高度，C为第二凹槽25的锥度。A、B和C的具体数值可以根据实际需要而定。

基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种掩膜版组件的制备方法，用于本申请实施例提供的掩膜版组件的制备，该方法的流程示意图如图9所示，包括：

S1：以第一拉伸力对辅助掩膜版3进行拉伸和对位后，将辅助掩膜版3的外周区域与框形架1的内周区域连接。

可选地，以第一拉伸力对辅助掩膜版3进行拉伸，包括：将第一拉伸力沿向外的方向，都施加在辅助掩膜版3的外周区域的各位置，使得辅助掩膜版3的平坦度误差在120微米以内。

以辅助掩膜版3中各第二连接片32远离第二膜片31的一端作为第一拉伸力的施力点，沿向外的方向将辅助掩膜版3向四周拉伸，调整辅助掩膜版3相对于框形架1的位置；当辅助掩膜版3调整到预设位置后，将各第二连接片32中远离第二膜片31的一端，与框形架1的内周边缘焊接连接。

由于辅助掩膜版3是被拉伸后再与框形架1连接，因此辅助掩膜版3与框形架1之间的拉伸力，会使框形架1变形至第一状态，此时框形架1与辅助掩膜版3形成的是一个不易再次变形且具有较高强度的组件。

S2：将主掩膜版2移至辅助掩膜版3上方，以第二拉伸力对主掩膜版2进行拉伸和对位后，将主掩膜版2的外周区域与框形架1的内周区域连接；第一拉伸力大于第二拉伸力。

可选地，以第二拉伸力对所述主掩膜版3进行拉伸和对位，包括：将第二拉伸力沿向外的方向，都施加在主掩膜版2的外周区域的各位置，调整主掩膜版2位置，使得主掩膜版2中工艺孔23相对于定位标记的位置误差控制在±40微米以内。

以主掩膜版2中各第一连接片22远离第一膜片21的一端作为第二拉伸力的施力点，沿向外的方向将主掩膜版2向四周拉伸，调整主掩膜版2相对于框形架1的位置；当确认主掩膜版2中工艺孔23相对于定位标记的位置误差在±40微米以内时，将各第一连接片22中远离第一膜片21的一端，与框形架1的内周边缘焊接连接。

由于第二拉伸力小于第一拉伸力，主掩膜版2被第二拉伸力拉伸并连接至第一状态的框形架1后，第一状态的框形架1不会再次发生较明显的变形，这就保证了主掩膜版2的工艺孔23相对于第一状态的框形架1的位置精度。另外，以第二拉伸力对主掩膜版2进行拉伸，既可以保证主掩膜版2的平坦度误差较小，又可以避免主掩膜版2中工艺孔23发生较大程度的变形，保证工艺孔23的形状精度。

应用本申请实施例，至少具备如下技术效果：

在本申请实施例提供的掩膜版组件中，由于主掩膜版的工艺孔与辅助掩膜版中对应的避让孔中一部分区域正对，也就是说，工艺孔的边缘完全在对应的避让孔的边缘之内，因此，在利用该掩膜版组件进行蒸镀时，工艺孔的位置和形状直接决定了发光材料层的位置和形状。这就要求主掩膜版平坦度误差较小，同时工艺孔也需要具备较高的位置精度和形状精度。

为了达到上述目的，在制备掩膜版组件时，以较大的拉伸力对辅助掩膜版进行拉伸和对位后，将辅助掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接；以较小的拉伸力对主掩膜版进行拉伸和对位后，将主掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接。这样可以保证辅助掩膜版与框形架之间的拉伸力，大于主掩膜版与框形架之间的拉伸力。

在安装主掩膜版之前，辅助掩膜版与框形架之间已具有较大的拉伸力，框形架已变形至第一状态，此时框形架与辅助掩膜版形成的是一个不易再次变形且具有较高强度的组件，因此主掩膜版被较小的拉伸力拉伸并连接至第一状态的框形架后，第一状态的框形架不会再次发生较明显的变形，这就保证了主掩膜版的工艺孔相对于第一状态的框形架的位置精度。另外，以较小的拉伸力对主掩膜版进行拉伸，既可以保证主掩膜版的平坦度误差较小，又可以避免主掩膜版中工艺孔发生较大程度的变形，保证工艺孔的形状精度。

即使本申请实施例提供的掩膜版组件的具有较大的尺寸，也能够保证主掩膜版的平坦度较小、且工艺孔的位置精度和形状精度较高，应用该较大尺寸的掩膜版组件可以为大尺寸显示面板进行蒸镀，使得具有的大尺寸显示面板显示设备的窄边框技术得以实现。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，其执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

以上仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种掩膜版组件，其特征在于，包括框形架、主掩膜版和辅助掩膜版；所述主掩膜版和所述辅助掩膜版层叠设置，所述主掩膜版的外周区域和所述辅助掩膜版的外周区域，分别与所述框形架的内周区域连接；

所述框形架设置有至少一个定位标记；

所述主掩膜版设置有多个工艺孔，所述辅助掩膜版设置有至少一个避让孔，所述工艺孔与对应的所述避让孔中一部分区域正对；

所述辅助掩膜版与所述框形架之间的拉伸力，大于所述主掩膜版与所述框形架之间的拉伸力。

2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述辅助掩膜版的平坦度误差包括所述辅助掩膜版的顶面中任意两点之间的高度差；所述辅助掩膜版的平坦度误差在120微米以下。

3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述主掩膜版中所述工艺孔相对于所述定位标记的位置的误差为±40微米。

4.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述主掩膜版的中央区域包括第一膜片，所述主掩膜版的外周区域包括多个第一连接片，所述工艺孔设置在所述第一膜片中；

多个所述第一连接片在所述第一膜片的外周边缘沿周向间隔排列；每个所述第一连接片的两端，分别与所述第一膜片的外周边缘和所述框形架的内周边缘连接。

5.根据权利要求4所述的掩膜版组件，其特征在于，所述辅助掩膜版的中央区域包括第二膜片，所述辅助掩膜版的外周区域包括多个第二连接片，所述避让孔在所述第二膜片中阵列排布；

多个所述第二连接片在所述第二膜片的外周边缘沿周向间隔排列；每个所述第二连接片的两端，分别与所述第二膜片的外周边缘和所述框形架的内周边缘连接；相邻的所述第一连接片和所述第二连接片，沿所述框形架的内周边缘的延伸方向间隔预设距离。

6.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述工艺孔与所述避让孔一一对应，所述工艺孔的边线位于对应的所述避让孔的边线之内；

或者，至少两个所述工艺孔对应一个所述避让孔，每个所述工艺孔的边线位于对应的所述避让孔的边线之内。

7.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述主掩膜版的外周区域与所述框形架的内周区域之间、以及所述辅助掩膜版的外周区域与所述框形架的内周区域之间，采用如下至少一种连接方式：焊接、热融合连接、粘接、铆合连接。

8.一种掩膜版组件的制备方法，用于如权利要求1-7中任一项所述的掩膜版组件的制备，其特征在于，包括：

以第一拉伸力对所述辅助掩膜版进行拉伸和对位后，将所述辅助掩膜版的外周区域与所述框形架的内周区域连接；

将所述主掩膜版移至所述辅助掩膜版上方，以第二拉伸力对所述主掩膜版进行拉伸和对位后，将所述主掩膜版的外周区域与所述框形架的内周区域连接；

所述第一拉伸力大于所述第二拉伸力。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述以第一拉伸力对所述辅助掩膜版进行拉伸，包括：将所述第一拉伸力沿向外的方向，都施加在所述辅助掩膜版的外周区域的各位置，使得所述辅助掩膜版的平坦度误差在120微米以内。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述以第二拉伸力对所述主掩膜版进行拉伸和对位，包括：将第二拉伸力沿向外的方向，都施加在所述主掩膜版的外周区域的各位置，调整所述主掩膜版位置，使得所述主掩膜版中所述工艺孔相对于所述定位标记的位置误差控制在±40微米以内。

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