CN108940715A - 一种反光材料的涂胶设备及涂胶工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种反光材料的涂胶设备，包括：涂胶系统，涂胶系统包括底辊、带胶辊和料槽，底辊与带胶辊之间设置有涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；带胶辊设置在料槽内部并与料槽内部的胶水接触；一供胶系统，供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口；以及一溢流系统，溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口。还公开了涂胶工艺。该反光材料的涂胶设备，通过控制底辊速度与带胶辊之间有一定的速差及两辊之间的间距，利用非接触式涂胶方式，从而实现了均匀涂胶，解决了因涂胶不均匀从而导致反光材料外观颜色及面状均匀性差的问题。
Description
技术领域
本发明涉及反光材料制作设备技术领域，特别涉及一种反光材料的涂胶设备及涂胶工艺。
背景技术
亮银产品植珠过程为了保证：①在后续涂胶复合生产加工过程珠子不易掉落影响表观面状；②为了保证产品的水洗及亮度性能；需在单层排布在某种基材上的珠子面涂一层均匀且非常薄的胶以固定珠子和保证水洗及亮度性能。
一般的接触式涂布方式（如三棍转移涂胶、网线辊转移涂胶、线棒涂胶）在珠子面上薄胶的时容易出现：①珠子被刮掉或压合时发生脱落；②掉落的珠子在计量辊上积聚后导致刮伤，上胶不均匀。而逗号刮刀虽为非接触式上胶，但对于上胶量要求非常小的所需的涂胶间隙需要调的很小，会导致珠子被刮掉同时刮落的珠子容易卡在刮刀口影响产品面状。
生产过程发现由于涂胶量的多少对于产品外观颜色及面状均匀性有很大的影响，会导致同一大轴纵向和宽幅方向颜色不一致。导致涂胶不均匀的原因主要与料槽中胶水固含量高低、固含量均匀性、涂胶间隙、带胶辊与植珠膜之间的速差有很大关系。
中国专利文献（公告日：2015年11月25，公告号：CN204799492U）公开了一种用于反光膜生产线的涂胶装置，用于将胶液涂覆在输送中的基材表面，包括储胶槽、相互平行且由低到高依次布置的带胶辊、计量辊和上胶辊、驱动带胶辊、计量辊和上胶辊转动的驱动机构，带胶辊和上胶辊均可相对计量辊移动调节，带胶辊下段浸泡在储胶槽的胶液中，工作时上胶辊与基材贴合，本实用新型可精确控制上胶辊表面的胶液厚度，从而精确控制基材的上胶量，并保证涂布宽幅的稳定，成型的反光膜没有气泡、针孔和暗纹等缺陷，有效提高产品质量。
上述技术方案通过设置计量辊移动调节机构来地带胶辊与上胶辊之间间隙的调整，从而实现上胶量的调整，这样的调整方式虽然能够实现上胶量的调整，但是该技术方案仅能够解决反光膜生产过程中产生气泡、针孔和暗纹等缺陷，而不能够解决同一大轴纵向和宽幅方向颜色不一致等问题。
发明内容
本发明的目的是为了解决涂胶量的多少对于产品外观颜色及面状均匀性有的影响，从而导致同一大轴纵向和宽幅方向颜色不一致等问题，而提供一种能够有效解决涂胶不均匀的问题，非接触式涂胶方式的反光材料的涂胶设备及涂胶工艺。
本发明实现其第一个技术目的所采用的技术方案是：一种反光材料的涂胶设备，包括：
涂胶系统，用于对反光材料珠子表面涂覆均匀薄胶层的系统；所述的涂胶系统包括底辊、带胶辊和料槽，所述的底辊与带胶辊之间设置有涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；所述的带胶辊设置在料槽内部并与料槽内部的胶水接触；
一供胶系统，用于为带胶辊定量提供胶水的系统；所述的供胶系统中设置有若干均匀分布在料槽上方的下胶口；
以及一溢流系统，用于实现料槽内部胶水的溢流并保持料槽内部胶水固含量稳定的系统；所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口。
该反光材料的涂胶设备，是通过在长期实践对于影响涂胶不均匀原因的排查设计，从而将导致涂胶不均匀的主要因素进行整合，通过定量供胶系统和溢流系统来控制单位时间内加入料槽的胶水量，定量供胶系统单位时间加入料槽的胶水量为100g/min～400g/min，使料槽中胶水有一定量的溢流，保障料槽中胶水固含量的稳定，并通过监控溢流口胶水的固含量调整单位时间内加胶量使料槽胶水稳定在所需固含量；通过下胶口多口均匀进胶和溢流口多口均匀溢流保障料槽中不同部位胶水固含量的均匀性；关键是通过在底辊与带胶辊之间设置涂胶间距，实现了反光材料的非接触式涂胶，并通过控制底辊速度与带胶辊之间有一定的速差，从而实现了均匀涂胶，解决了因涂胶不均匀从而导致反光材料外观颜色及面状均匀性差的问题，保证了同一在轴纵向和宽幅方向颜色一致，有效提高了亮银产品的水洗及亮度性能。
作为优选，所述的涂胶间距小于等于1mm大于等于0.2mm；所述的涂胶间距大小的调整是通过一移动调整机构来实现的。涂胶间距优选小于等于1mm大于等于0.2mm，在满足非接触式涂胶要求的前提下，能够保证足够的上胶量，从而来调整反光材料的带胶量，这种非接触式涂胶方式能够有效避免在涂胶过程中反光材料上的珠子被刮掉，即便有个别珠子掉落也可通过带胶辊在经过料槽胶水是将粘在带胶辊上的珠子洗落到料槽，从而有效避免了上胶不均匀现象的发生。移动调整机构的设置能够很方便地根据需要调整涂胶间距。
作为优选，所述的底辊与带胶辊之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%；当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%。通过设置底辊与带胶辊之间的速差来控制上胶量，带胶辊速度取决于底辊速度，底辊速度取决于生产线线速度，底辊速度同线速度，这样的设置使用得整上胶能够得到有效控制。
作为优选，所述的定量供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并与下胶口连通。
作为优选，所述的料槽、储料装置和带胶辊上设置有冷却装置，所述的冷却装置为夹套水冷却；所述的储料装置通过输胶管与下胶口连通。料槽和储料装置上设置冷却装置，通过夹套水冷却的降温方式，以降低料槽及植珠胶储料装置中胶水的温度，控制胶液温度，从而控制溶剂挥发速率。
作为优选，溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通，所述的溢流口处设置有定量监测装置。料槽中的胶水有一部分通过溢流口和溢流管溢流后收集到溢流罐中，收集满之后经搅拌均匀测试固含量后补加溶剂，然后搅拌均匀后再回流到储料装置内部进行正常使用；而定量监测装置的设置是为了通过监控溢流口胶水的固含量从而调整单位时间内的加胶量以使料槽胶水稳定在所需固含量，从而保证上胶的均匀性。
本发明实现其第二个发明目的所采用的技术方案是：一种反光材料的涂胶工艺，包括以下步骤：
S1：所述的反光材料为前道工序中由基材和在基材上单层排布的反光珠形成的反光布或反光膜；
S2：所述的反光材料通过一底辊旋转带动进行移动，并通过一设置在料槽同内部并与料槽内胶水接触的带胶辊旋转进行非接触式上胶，所述的底辊与带胶辊之间设置有小于等于1mm大于等于0.2mm的涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；
S3：通过一定量上胶系统向带胶辊提供胶水并通过一溢流系统实现胶水固含量稳定，所述的胶液温度大于等于-15℃小于等于25℃，，所述的胶水固含量为0.5%～20%，胶水粘度为5～100mPa.s；
S4：在≤30℃的区域环境下，带胶辊带动胶水并将胶水均匀涂覆到反光材料上，完成反光材料的涂胶。
该反光材料的涂胶工艺，通过对导致涂胶不均匀的原因主要的分析，将影响涂胶不均匀的因素一一解决，在涂胶工艺中分别对料槽中胶水固含量、固含量均匀性、涂胶间隙、带胶辊与植珠膜之间的速差等进行了综合设计，制定了该上胶工艺：通过控制单位时间内加入料槽的胶水量（单位时间加入料槽的胶水量为100g/min～400g/min环境温度越高单位时间需要加入的量越大）使料槽中胶水有一定量的溢流，保障料槽中胶水固含量的稳定，使胶水固含量保护在0.5%～20%，胶水粘度为5～100mPa.s，并通过监控溢流系统中溢流口胶水的固含量调整单位时间内加胶量，使料槽胶水稳定在所需固含量。通过控制底辊与带胶辊之间的涂胶间距以及速差，实现反光材料的非接触性涂胶，避免珠子被刮掉而导致了涂胶不均匀；通过控制涂胶区域环境温度≤30℃减少带胶辊离开料槽胶面至涂胶间距这一段辊面胶水溶剂量的挥发；通过控制胶液温度≤25℃，来控制溶剂挥发速率。通过该上胶工艺完成的反光材料，上胶均匀性能好，不会导致同一大轴纵向和宽幅方向颜色不致，保证了产品的外观颜色及面状的均匀性。
作为优选，步骤S3中带胶辊的带胶量等于反光材料带走的胶量加上带胶辊回复量，所述的反光材料带走的胶量通过调整底辊与胶辊之间的涂胶间距、带胶辊的转速及表面粗糙度来进行控制。
作为优选，所述的带胶辊的直径为Φ160mm～200mm，粗糙度控制在0.03～0.06。
作为优选，所述的底辊与带胶辊之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%；当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%。
作为优选，所述的供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口。
作为优选，所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口，所述的溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通。
本发明的有益效果是：该反光材料的涂胶设备，实现了反光材料的非接触式涂胶，并通过控制底辊速度与带胶辊之间有一定的速差，从而实现了均匀涂胶，解决了因涂胶不均匀从而导致反光材料外观颜色及面状均匀性差的问题，保证了同一在轴纵向和宽幅方向颜色一致，有效提高了亮银产品的水洗及亮度性能。该反光材料的涂胶工艺，工艺更合理，上胶均匀性能好，保证了产品的外观颜色及面状的均匀性。
附图说明
图1是本发明反光材料的涂胶设备一种结构示意图；
图2是本发明反光材料的涂胶设备的一种主视图；
图3是本发明中上胶结构的局部放大图；
图4是本发明中移动调整机构（正转）的一种结构示意图；
图5是本发明中反光材料的涂胶设备的反转的一种结构示意图；
图中：1、涂胶系统，2、定量供胶系统，3、溢流系统，4、底辊，5、带胶辊，6、料槽，H、涂胶间距，8、储料装置，9、计量装置，10、下胶装置，11、下胶口，12、溢流口，13、冷却装置，14、输胶管，15、溢流罐，16、溢流管，17、定量监测装置，18、反光材料，19、胶水，20、移动调整机构，C、带胶量，D、反光材料带走的胶量，E、带胶辊回程量，21、固定支架，22、活动支架，23、螺杆，24、调节螺母，25、支撑杆，26、气缸。
具体实施方式
下面通过具体实施例并结合附图对本发明的技术方案作进一步详细说明。实施例中所用原料均可市购或采用常规方法制备。带胶辊的转动方向不仅限于图示方向。
实施例1：
在图1、图2、图3所示的实施例中，一种反光材料的涂胶设备，包括：
涂胶系统1，用于对反光材料珠子表面涂覆均匀薄胶层的系统；涂胶系统1包括底辊4、带胶辊5和料槽6，底辊4与带胶辊5之间设置有涂胶间距H，底辊4与带胶辊5之间设置有速差；底辊4与带胶辊5之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%，带胶辊速度越快，植珠膜涂胶量越大，反之亦然；间隙越小，植珠膜涂胶量越大，反之亦然；当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%；带胶辊速度越快带胶量越大但植珠膜涂胶量取决于间隙大小；间隙越小，植珠膜涂胶量越小，反之亦然，但是如果带胶辊带胶厚度达不到间隙量则植珠膜无法涂上胶。本实施例中两辊为正转，带胶辊速度是底辊的150%；带胶辊5设置在料槽6内部并与料槽6内部的胶水接触；本实施例中涂胶间距等于1mm。涂胶间距H通过一移动调整机构20实现的，移动调整机构20包括固定底辊的固定支架21、带动带胶辊调节的活动支架22、连接固定支架21与活动支架22的螺杆23和调节螺母24，以及与活动支架22连接的支撑杆25、与支撑杆25连接的气缸26（见图4），通过气缸带动活动支架相对固定支架移动，并通过调节螺母调整固定支架与活动支架之间间距来实现涂胶间距的调整。
一定量供胶系统2，用于为带胶辊定量提供胶水的系统；定量供胶系统2包括相互连通的储料装置8、计量装置9和下胶装置10，下胶装置10设置在料槽6的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口11；本实施例中储料装置采用储料罐，计量装置9采用计量泵，而下胶装置10则采用多条下胶管；
以及一溢流系统3，用于实现料槽内部胶水的溢流并保持料槽内部胶水固含量稳定的系统；溢流系统3中设置有多个均匀分布在料槽6内部的溢流口12。
料槽6、储料装置8和带胶辊上分别设置有冷却装置13，冷却装置13为夹套水冷却。料槽上的冷却装置包括设置料槽外部的冷却槽和设置在冷却槽与料槽之间的冷却腔，冷却腔内部通有循环冷却液；储料装置上的冷却装置包括设置在储料装置外部的冷却外壳和设置在冷却外壳与储料装置之间的冷却腔体，冷却腔体内部通有循环冷却液。带胶辊内部设置有冷却腔，冷却腔内部通有循环冷却液。
储料装置8通过输胶管14与下胶口11连通。储料装置通过输胶管将胶水输送到下胶口并通过下胶口均匀地加入到料槽内部，以保证料槽中不同部位胶水固含量的均匀性。
溢流系统3包括溢流罐15和溢流管16，溢流管16分别与溢流口12和溢流罐15连通，溢流口12处设置有定量监测装置17。溢流口12均匀分布在料槽的底部，多个溢流口均匀溢流，能够保障料槽中不同部位胶水固含量的均匀性。
一种反光材料的涂胶工艺，反光材料18通过底辊4旋转带动移动并通过一带胶辊5旋转进行非接触式上胶，具体上胶工艺包括以下步骤：
S1：所述的反光材料18为前道工序中由基材和在基材上单层排布的反光珠形成的反光布；
S2：所述的反光材料18通过底辊4旋转带动进行移动，并通过一设置在料槽6同内部并与料槽内胶水19接触的带胶辊5旋转进行非接触式上胶，所述的底辊4与带胶辊5之间设置有1mm涂胶间距H，所述的底辊4与带胶辊5之间设置有速差；两辊为正转，带胶辊速度是底辊的150%；
S3：通过一定量上胶系统2向带胶辊提供胶水并通过一溢流系统实现胶水固含量稳定，所述的胶液温度大于等于-15℃小于等于25℃，所述的胶水固含量为0.5%～20%，胶水粘度为5～100mPa.s； 本实施例中胶液温度控制为25℃，胶水固含量为20%，胶水粘度为100mPa.s；本实施例中单位时间加入料槽的胶水量为400g/min，环境温度越高单位时间需要加入的量越大；
S4：在≤30℃的区域环境下，带胶辊带动胶水并将胶水均匀涂覆到反光材料上，完成反光材料的涂胶。本实施例中是在30℃的区域环境下完成反光材料的涂覆的。
步骤S3中带胶辊的带胶量等于反光材料带走的胶量加上带胶辊回复量，所述的反光材料带走的量通过调整底辊与胶辊之间的间距、带胶辊的转速及表面粗糙度来进行控制。
带胶辊的带胶量C=反光材料带走的胶量D+带胶辊回程量E，反光材料带走的胶量D的调整通过以下几方面控制：底辊与带胶辊之间涂胶间距H的大小；带胶辊的转速；带胶辊的表面粗糙程度。
带胶辊的直径为Φ160mm～200mm，粗糙度控制在0.03～0.06。本实施例中带胶辊的直径为Φ200mm，粗糙度控制在0.06，圆度Φ0.006、圆柱度≤Φ0.006、全跳动≤0.006。
所述的定量供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口。
所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口，所述的溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通。
实施例2：
在实施例2中，一种反光材料的涂胶设备，包括：
涂胶系统1，用于对反光材料珠子表面涂覆均匀薄胶层的系统；涂胶系统1包括底辊4、带胶辊5和料槽6，底辊4与带胶辊5之间设置有涂胶间距H，底辊4与带胶辊5之间设置有速差；底辊4与带胶辊5之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%，带胶辊速度越快，植珠膜涂胶量越大，反之亦然；间隙越小，植珠膜涂胶量越大，反之亦然。当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%；带胶辊速度越快带胶量越大但植珠膜涂胶量取决于间隙大小；间隙越小，植珠膜涂胶量越小，反之亦然，但是如果带胶辊带胶厚度达不到间隙量则植珠膜无法涂上胶。本实施例中两辊为正转，带胶辊速度是底辊的110%；带胶辊5设置在料槽6内部并与料槽6内部的胶水接触；涂胶间距为0.2mm。涂胶间距H通过一设置在带胶辊上的移动调整机构20实现的，移动调整机构设置在带胶辊的轴承座上，移动调整机构为滑轨滑块调整机构，通过将带胶辊设置在移动滑块上并通过滑块与滑轨的相对移动实现涂胶间距的调整。
一定量供胶系统2，用于为带胶辊定量提供胶水的系统；定量供胶系统2包括相互连通的储料装置8、计量装置9和下胶装置10，下胶装置10设置在料槽6的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口11；
以及一溢流系统3，用于实现料槽内部胶水的溢流并保持料槽内部胶水固含量稳定的系统；溢流系统3中设置有多个均匀分布在料槽6内部的溢流口12。
料槽6和储料装置8上设置有冷却装置13，冷却装置13为夹套水冷却。
储料装置8通过输胶管14与下胶口11连通。溢流系统3包括溢流罐15和溢流管16，溢流管16分别与溢流口12和溢流罐15连通，溢流口12处设置有定量监测装置17。
一种反光材料的涂胶工艺，反光材料通过底辊旋转带动移动并通过一带胶辊旋转进行非接触式上胶，具体上胶工艺包括以下步骤：
S1：所述的反光材料为前道工序中由基材和在基材上单层排布的反光珠形成的反光膜；
S2：所述的反光材料通过一底辊旋转带动进行移动，并通过一设置在料槽同内部并与料槽内胶水接触的带胶辊旋转进行非接触式上胶，所述的底辊与带胶辊之间设置有0.2mm涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；两辊为正转，带胶辊速度是底辊的110%；
S3：通过一上胶系统向带胶辊提供胶水并通过一溢流系统实现胶水固含量稳定，所述的胶液温度20℃，所述的胶水固含量为10%，胶水粘度为50mPa.s；本实施例中单位时间加入料槽的胶水量为200g/min，环境温度越高单位时间需要加入的量越大；
S4：在25℃的区域环境下，带胶辊带动胶水并将胶水均匀涂覆到反光材料上，完成反光材料的涂胶。
步骤S3中带胶辊的带胶量等于反光材料带走的量加上带胶辊回复量，所述的反光材料带走的量通过调整底辊与胶辊之间的间距、带胶辊的转速及表面粗糙度来实现进行控制。
带胶辊的带胶量C=反光材料带走的胶量D+带胶辊回程量E，反光材料带走的胶量D的调整通过以下几方面控制：底辊与带胶辊之间涂胶间距H的大小；带胶辊的转速；带胶辊的表面粗糙程度。
带胶辊的直径为Φ180mm，粗糙度控制在0.05，圆度Φ0.006、圆柱度≤Φ0.006、全跳动≤0.006。
所述的定量供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口。
所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口，所述的溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通。
实施例3：
在图5所示的实施例3中，一种反光材料的涂胶工艺，包括以下步骤：
S1：所述的反光材料为前道工序中由基材和在基材上单层排布的反光珠形成的反光布；
S2：所述的反光材料通过一底辊旋转带动进行移动，并通过一设置在料槽同内部并与料槽内胶水接触的带胶辊旋转进行非接触式上胶，所述的底辊与带胶辊之间设置有0. 5mm涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；两辊为反转，，带胶辊速度是底辊的50%；带胶辊速度越快带胶量越大但植珠膜涂胶量取决于间隙大小；间隙越小，植珠膜涂胶量越小，反之亦然；
S3：通过一定量上胶系统向带胶辊提供胶水并通过一溢流系统实现胶水固含量稳定，所述的胶液温度-15℃，所述的胶水固含量为20%，胶水粘度为100mPa.s；本实施例中单位时间加入料槽的胶水量为100g/min，环境温度越高单位时间需要加入的量越大；
S4：在-15℃的区域环境下，带胶辊带动胶水并将胶水均匀涂覆到反光材料上，完成反光材料的涂胶。
步骤S3中带胶辊的带胶量等于反光材料带走的量加上带胶辊回复量，所述的反光材料带走的量通过调整底辊与胶辊之间的间距、带胶辊的转速及表面粗糙度来实现进行控制。
带胶辊的带胶量C=反光材料带走的胶量D+带胶辊回程量E，反光材料带走的胶量D的调整通过以下几方面控制：底辊与带胶辊之间涂胶间距H的大小；带胶辊的转速；带胶辊的表面粗糙程度。
带胶辊的直径为Φ160mm，粗糙度控制在0.06，圆度Φ0.006、圆柱度≤Φ0.006、全跳动≤0.006。
所述的定量供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口。
所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口，所述的溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通。
实施例4：
在实施例4中，一种反光材料的涂胶工艺，包括以下步骤：
S1：所述的反光材料为前道工序中由基材和在基材上单层排布的反光珠形成的反光布；
S2：所述的反光材料通过一底辊旋转带动进行移动，并通过一设置在料槽同内部并与料槽内胶水接触的带胶辊旋转进行非接触式上胶，所述的底辊与带胶辊之间设置有0.7mm涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；两辊为反转，带胶辊速度是底辊的150%；带胶辊速度越快带胶量越大但植珠膜涂胶量取决于间隙大小；间隙越小，植珠膜涂胶量越小，反之亦然。
S3：通过一定量上胶系统向带胶辊提供胶水并通过一溢流系统实现胶水固含量稳定，所述的胶液温度0℃，所述的胶水固含量为10%，胶水粘度为50mPa.s；本实施例中单位时间加入料槽的胶水量为200g/min，环境温度越高单位时间需要加入的量越大；
S4：在0℃的区域环境下，带胶辊带动胶水并将胶水均匀涂覆到反光材料上，完成反光材料的涂胶。
步骤S3中带胶辊的带胶量等于反光材料带走的量加上带胶辊回复量，所述的反光材料带走的量通过调整底辊与胶辊之间的间距、带胶辊的转速及表面粗糙度来实现进行控制。
带胶辊的带胶量C=反光材料带走的胶量D+带胶辊回程量E，反光材料带走的胶量D的调整通过以下几方面控制：底辊与带胶辊之间涂胶间距H的大小；带胶辊的转速；带胶辊的表面粗糙程度。
带胶辊的直径为Φ180mm，粗糙度控制在0.05，圆度Φ0.006、圆柱度≤Φ0.006、全跳动≤0.006。
所述的定量供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口。
所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口，所述的溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通。
该反光材料的涂胶装置和涂胶工艺，通过控制①胶水固含量（0.5%～20%），胶水粘度（5～100mPa.s）；②两辊间的间距，设计时让两辊间涂胶间距（小于等于1mm大于等于0.2mm）足以避免珠子被刮掉，就算有少量珠子掉落也可通过带胶辊通过料槽胶水时将粘在带胶辊上的珠子洗落到料槽；③带胶辊的加工精度：粗糙度 、圆度Φ0.006、圆柱度≤Φ0.006、全跳动≤0.006；④控制底辊速度与带胶辊之间有一定的速差；两辊正转：带胶辊速度是底辊的110%～150%,两辊反转：带胶辊速度是底辊的50%～150%；带胶辊速度取决于底辊速度，底辊速度取决于生产线线速度，底辊速度同线速度；⑤带胶辊直径Φ160～200mm等措施控制上胶量。
生产过程发现由于涂胶量的多少对于产品外观颜色及面状均匀性有很大的影响，会导致同一大轴纵向和宽幅方向颜色不一致。导致涂胶不均匀的原因主要与料槽中胶水固含量高低、固含量均匀性、涂胶间隙、带胶辊与植珠膜之间的速差有很大关系，为了解决该问题：①通过控制单位时间内加入料槽的胶水量（单位时间加入料槽的胶水量为100g/min～400g/min环境温度越高单位时间需要加入的量越大。）使料槽中胶水有一定量的溢流，保障料槽中胶水固含量的稳定，并通过监控溢流口胶水的固含量调整单位时间内加胶量使料槽胶水稳定在所需固含量。②通过料槽上方的若干下胶口实现多口均匀进胶和通过料槽内部的若干溢流口实现多口均匀溢流保障料槽中不同部位胶水固含量的均匀性。③控制涂胶区域环境温度≤30℃减少带胶辊离开料槽胶面至涂胶间隙这一段辊面胶水溶剂量的挥发。④通过冷冻水夹套降温方式，降低料槽及植珠胶储料罐中胶水的温度，控制胶液温度≤25℃，胶液温度的下限控制在大于等于-15℃，控制溶剂挥发速率。下胶口通过输胶管与计量泵连接，植珠胶储料装置中胶水通过计量泵输送到料槽，可通过调整计量泵输送量的调整改变溢流量从而保障料槽中胶水的固含量；料槽中胶水溢流口的设置，料槽中胶水有一部分通过溢流口溢流后收集到储料罐，收集满之后搅拌均匀后测试固含量后补加溶剂搅拌均匀后正常使用。
该反光材料的涂胶设备，实现了反光材料的非接触式涂胶，并通过控制底辊速度与带胶辊之间有一定的速差，从而实现了均匀涂胶，解决了因涂胶不均匀从而导致反光材料外观颜色及面状均匀性差的问题，保证了同一在轴纵向和宽幅方向颜色一致，有效提高了亮银产品的水洗及亮度性能。该反光材料的涂胶工艺，工艺更合理，上胶均匀性能好，保证了产品的外观颜色及面状的均匀性。
Claims (10)
1.一种反光材料的涂胶设备，其特征在于包括：
涂胶系统（1），用于对反光材料珠子表面涂覆均匀薄胶层的系统；所述的涂胶系统（1）包括底辊（4）、带胶辊（5）和料槽（6），所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间设置有涂胶间距（H），所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间设置有速差；所述的带胶辊（5）设置在料槽（6）内部并与料槽（6）内部的胶水接触；
一定量供胶系统（2），用于为带胶辊定量提供胶水的系统；所述的定量供胶系统（2）上设置有若干均匀分布在料槽（6）上方的下胶口（11）；
以及一溢流系统（3），用于实现料槽内部胶水的溢流并保持料槽内部胶水固含量稳定的系统；所述的溢流系统（3）中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口（12）。
2.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的涂胶间距小于等于1mm大于等于0.2mm；所述的涂胶间距（H）大小的调整是通过一移动调整机构（20）来实现的。
3.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%；当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%。
4.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的定量供胶系统（2）包括相互连通的储料装置（8）、计量装置（9）和下胶装置（10），所述的下胶装置（10）设置在料槽（6）的上方并与下胶口（11）连通。
5.根据权利要求1所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：所述的料槽（6）、储料装置（8）和带胶辊（5）上分别设置有冷却装置（13），所述的冷却装置（13）为夹套水冷却；所述的储料装置（8）通过输胶管（14）与下胶口（11）连通。
6.根据权利要求1至5任意一项所述的一种反光材料的涂胶设备，其特征在于：溢流系统（3）包括溢流罐（15）和溢流管（16），所述的溢流管（16）分别与溢流口（12）和溢流罐（15）连通，所述的溢流口（12）处设置有定量监测装置（17）。
7.一种反光材料的涂胶工艺，其特征在于包括以下步骤：
S1：所述的反光材料为前道工序中由基材和在基材上单层排布的反光珠形成的反光布或反光膜；
S2：所述的反光材料通过底辊旋转带动进行移动，并通过一设置在料槽同内部并与料槽内胶水接触的带胶辊旋转进行非接触式上胶，所述的底辊与带胶辊之间设置有小于等于1mm大于等于0.2mm的涂胶间距，所述的底辊与带胶辊之间设置有速差；
S3：通过一定量上胶系统向带胶辊提供胶水并通过一溢流系统实现胶水固含量稳定，所述的胶液温度大于等于-15℃小于等于25℃，所述的胶水固含量为0.5%～20%，胶水粘度为5～100mPa.s；
S4：在≤30℃的区域环境下，带胶辊带动胶水并将胶水均匀涂覆到反光材料上，完成反光材料的涂胶。
8.根据权利要求7所述的一种反光材料的涂胶工艺，其特征在于：步骤S3中带胶辊的带胶量等于反光材料带走的胶量加上带胶辊回复量，所述的反光材料带走的胶量通过调整底辊与胶辊之间的涂胶间距、带胶辊的转速及表面粗糙度来进行控制。
9.根据权利要求7所述的一种反光材料的涂胶工艺，其特征在于：所述的带胶辊的直径为Φ160mm～200mm，粗糙度控制在0.03～0.06；所述的底辊（4）与带胶辊（5）之间的速差：当两辊正转时，带胶辊速度是底辊的110%～150%；当两辊反转时，带胶辊速度是底辊的50%～150%。
10.根据权利要求7或8或9所述的一种反光材料的涂胶工艺，其特征在于：所述的定量供胶系统包括相互连通的储料装置、计量装置和下胶装置，所述的下胶装置设置在料槽的上方并且设置有若干均匀分布的下胶口；所述的溢流系统中设置有多个均匀分布在料槽内部的溢流口，所述的溢流系统包括溢流罐和溢流管，所述的溢流管分别与溢流口和溢流罐连通。
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