CN113457934A - 偏光片光电保护膜生产工艺及偏光片光电保护膜 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种偏光片光电保护膜生产工艺，包括步骤：S1、放卷；S2、涂胶；S3、烘干；S4、收卷；在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由自动供胶装置向胶槽中补充胶液。本发明的偏光片光电保护膜生产工艺，通过设置自动供胶装置向胶槽中补充胶液，可以降低劳动强度，可以准确控制补充的胶液量，也不容易导致空气进入胶液中，避免影响偏光片光电保护膜的良率。本发明还提供了一种偏光片光电保护膜。

Description

偏光片光电保护膜生产工艺及偏光片光电保护膜
技术领域
本发明属于保护膜生产技术领域，具体地说，本发明涉及一种偏光片光电保护膜生产工艺及偏光片光电保护膜。
背景技术
偏光光电保护膜的表面需要涂布胶液，起保护及增加光泽作用。涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆至基膜表面，当胶槽中的胶液减少后，需要及时向胶槽中补充胶液。现有的操作方式为人工将胶液倾倒至胶槽中，这种操作方式不仅增加劳动强度，而且容易导致空气进入胶液中，也不容易控制补充的胶液量，进入胶水中的空气受热膨胀会产生气泡，会影响保护膜涂胶效果，导致防静电偏光片光电保护膜良率的降低。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提供一种偏光片光电保护膜生产工艺，目的是降低劳动强度，避免影响偏光片光电保护膜的良率。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：偏光片光电保护膜生产工艺，包括步骤：
S1、放卷；
S2、涂胶；
S3、烘干；
S4、收卷；
在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由自动供胶装置向胶槽中补充胶液。
所述自动供胶装置包括储胶罐、设置在所述胶槽中的第一液位传感器和第二液位传感器以及与储胶罐和所述胶槽连接的胶液输送机构。
所述胶液输送机构包括与所述储胶罐连接的第一输送管、与第一输送管连接的供料泵、与供料泵连接的第二输送管、分配器和与分配器连接的进胶管，进胶管设置多个，进胶管与所述胶槽连接，各个进胶管分布在不同位置处。
所述分配器具有多个出胶口，各个所述进胶管的进胶口通过第三输送管与分配器的一个出胶口连接，进胶管的进胶口的高度大于进胶管的出胶口的高度，进胶管的出胶口与所述胶槽连接。
所述进胶管设置所述胶槽的四个侧壁上。
在所述步骤S2中，当所述第一液位传感器检测到所述胶槽中的液位高度达到第一设定值时，由所述胶液输送机构将所述储胶罐中的胶液输送至胶槽中；当所述第二液位传感器检测到所述胶槽中的液位高度达到第二设定值时，第二设定值大于第一设定值，胶液输送机构停止工作。
本发明还提供了一种根据偏光片光电保护膜生产工艺制备得到的偏光片光电保护膜。
本发明的偏光片光电保护膜生产工艺，通过设置自动供胶装置向胶槽中补充胶液，可以降低劳动强度，可以准确控制补充的胶液量，也不容易导致空气进入胶液中，避免影响偏光片光电保护膜的良率。
附图说明
本说明书包括以下附图，所示内容分别是：
图1是自动供胶装置的结构示意图；
图2是胶槽与进胶管的连接示意图；
图3是胶槽的俯视图；
图中标记为：
1、储胶罐；2、吸风罩；3、第一输送管；4、供料泵；5、第二输送管；6、分配器；7、胶槽；8、进胶管。
具体实施方式
下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明，目的是帮助本领域的技术人员对本发明的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解，并有助于其实施。
需要说明的是，在下述的实施方式中，所述的“第一”、“第二”和“第三”并不代表结构和/或功能上的绝对区分关系，也不代表先后的执行顺序，而仅仅是为了描述的方便。
本发明提供了一种偏光片光电保护膜生产工艺，包括如下的步骤：
S1、放卷；
S2、涂胶；
S3、烘干；
S4、收卷。
具体地说，在上述步骤S1中，通过放卷筒进行基膜放卷，通过导辊将放卷的基膜输送至涂胶设备。在上述步骤S2中，旋转的涂胶辊将胶液涂覆至基膜的表面上。在上述步骤S3中，涂胶后的保护膜通过导辊输送至烘干箱中进行烘干处理。在上述步骤S4中，烘干后的保护膜通过导辊输送至收卷筒处进行收卷。
在上述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由自动供胶装置向胶槽中补充胶液。涂胶装置包括胶槽和涂胶辊，涂胶辊用于将胶槽中的胶液涂覆在基膜的表面上，随着胶槽中胶液的减少，需要自动供胶装置向胶槽中补充胶液。通过设置自动供胶装置向胶槽中补充胶液，可以降低劳动强度，可以准确控制补充的胶液量，也不容易导致空气进入胶液中，避免影响偏光片光电保护膜的良率。
如图1和图2所示，自动供胶装置包括储胶罐1、设置在胶槽7中的第一液位传感器和第二液位传感器以及与储胶罐1和胶槽7连接的胶液输送机构。储胶罐1用于存储胶液，胶液输送机构包括与储胶罐1连接的第一输送管3、与第一输送管3连接的供料泵4、与供料泵4连接的第二输送管5、分配器6和与分配器6连接的进胶管8，进胶管8设置多个，进胶管8与胶槽7连接，各个进胶管8分布在不同位置处。第一输送管3的一端与储胶罐1的出胶口连接，第一输送管3的另一端与供料泵4的进胶口连接，供料泵4的出胶口与第二输送管5的一端连接，第二输送管5的另一端与分配器6的进胶口连接，供料泵4为电动隔膜泵，供料泵4与控制系统电连接，供料泵4由控制系统进行控制。分配器6具有多个出胶口，各个进胶管8的进胶口通过第三输送管与分配器6的一个出胶口连接，进胶管8的进胶口的高度大于进胶管8的出胶口的高度，进胶管8的出胶口与胶槽7连接，进胶管8的出胶口位于胶槽7内液面的下方。分配器6的进胶口设置一个，分配器6的进胶口与分配器6的所有出胶口连通，分配器6的进胶口处设置开关阀，开关阀用于控制分配器6的进胶口的开闭。
如图1和图2所示，胶槽7为矩形盒体结构，进胶管8设置胶槽7的四个侧壁上，进胶管8与胶槽7的侧壁的下端连接，胶槽7的侧壁为竖直设置，使得补充的胶液能够胶槽7的四个侧壁分别进入胶槽7中，形成多点分布式进胶，进胶均匀，减小胶液的流动距离，减少液面的波动。进胶管8的下端与胶槽7的侧壁固定连接，进胶管8的上端与第三输送管的一端连接，第三输送管的另一端与分配器6的出胶口连接。
第一液位传感器和第二液位传感器用于检测胶槽7中的液面高度，第一液位传感器和第二液位传感器与控制系统电连接，第一液位传感器和第二液位传感器将检测数据发送至控制系统，控制系统根据第一液位传感器和第二液位传感器的检测数据，控制供料泵4的工作状态。在上述步骤S2中，当第一液位传感器检测到胶槽7中的液位高度达到第一设定值时，说明液位高度较低，胶槽7中胶液减少，第一液位传感器将检测数据发送至控制系统，控制系统发送命令至供料泵4，供料泵4开始运转，开关阀开启，由胶液输送机构将储胶罐1中的胶液输送至胶槽7中。当第二液位传感器检测到胶槽7中的液位高度达到第二设定值时，第二设定值大于第一设定值，说明液位高度满足要求，胶槽7中胶液量足够，第二液位传感器将检测数据发送至控制系统，控制系统发送命令至供料泵4，供料泵4停止运转，开关阀关闭，胶液输送机构停止工作。
在上述步骤S2中，由抽气装置吸收从胶槽7内的胶液中溢出的有毒气体。气装置能够及时将有毒气体抽走，避免有毒气体散发到空气中，改善工作环境。如图3所示，抽气装置主要包括吸气罩2、与吸气罩2连接的输气管和用于向输气管中提供吸力的抽气风机，吸气罩2固定设置在胶槽7的上端。吸气罩2设置多个，所有吸气罩2围绕胶槽7的上端边缘进行布置。吸气罩2具有进气口和出气口，吸气罩2的进气口朝向下方的胶液吸气罩2的出气口与输气管的一端连接，输气管的另一端与毒气处理装置连接，抽气风机设置在输气管的出口端。抽气风机为鼓风机，抽气风机运转后，输气管和吸气罩2中产生吸力，胶液中溢出的有毒气体被抽吸，然后被输送至毒气处理装置中，由毒气处理装置进行收集和处理。
本发明还提供了一种根据偏光片光电保护膜生产工艺制备得到的偏光片光电保护膜。
以上结合附图对本发明进行了示例性描述。显然，本发明具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本发明的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.偏光片光电保护膜生产工艺，包括步骤：
S1、放卷；
S2、涂胶；
S3、烘干；
S4、收卷；
其特征在于，在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由自动供胶装置向胶槽中补充胶液。
2.根据权利要求1所述的偏光片光电保护膜生产工艺，其特征在于，所述自动供胶装置包括储胶罐、设置在所述胶槽中的第一液位传感器和第二液位传感器以及与储胶罐和所述胶槽连接的胶液输送机构。
3.根据权利要求2所述的偏光片光电保护膜生产工艺，其特征在于，所述胶液输送机构包括与所述储胶罐连接的第一输送管、与第一输送管连接的供料泵、与供料泵连接的第二输送管、分配器和与分配器连接的进胶管，进胶管设置多个，进胶管与所述胶槽连接，各个进胶管分布在不同位置处。
4.根据权利要求3所述的偏光片光电保护膜生产工艺，其特征在于，所述分配器具有多个出胶口，各个所述进胶管的进胶口通过第三输送管与分配器的一个出胶口连接，进胶管的进胶口的高度大于进胶管的出胶口的高度，进胶管的出胶口与所述胶槽连接。
5.根据权利要求2或3所述的偏光片光电保护膜生产工艺，其特征在于，所述进胶管设置所述胶槽的四个侧壁上。
6.根据权利要求2至4任一所述的偏光片光电保护膜生产工艺，其特征在于，在所述步骤S2中，当所述第一液位传感器检测到所述胶槽中的液位高度达到第一设定值时，由所述胶液输送机构将所述储胶罐中的胶液输送至胶槽中；当所述第二液位传感器检测到所述胶槽中的液位高度达到第二设定值时，第二设定值大于第一设定值，胶液输送机构停止工作。
7.根据权利要求1至6任一所述的偏光片光电保护膜生产工艺制备得到的偏光片光电保护膜。
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