CN108920000A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制作方法，所述显示面板包括：基板；纳米金属线层，包括多根纳米金属线，设置于所述基板上；以及走线层，设置于至少部分所述纳米金属线层上，且所述纳米金属线层中的纳米金属线熔融焊接在所述走线层上。在本发明所提供的显示面板及其制作方法中，纳米金属线层中的纳米金属线熔融焊接在走线层上，增大了单根纳米金属线与走线层的接触面积，增强了单根纳米金属线与走线层之间接触点的导电效果，使得走线层只需要连接较少的纳米金属线就可以导通，便于实现走线层尺寸的缩减，有利于实现窄边框的设计。

Description

显示面板及其制作方法

技术领域

本发明涉及触控技术领域，尤其是涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

触控面板(英文全称为Touch Panel)，又称触控屏、触摸屏，是一种形成在 图像显示装置显示面上，利用人体或电容笔等导体进行指令输入的装置，可代 替鼠标、键盘等外接输入装置以及机械式输入按键等输入设备，可有效简化电 脑、手机等电子产品结构，具有非常广阔的应用前景。

触控面板包括基板以及形成于基板上的触控结构，通过触控结构的电容变 化来感应触控位置，所述触控结构包括两对触控电极，也就是通常所说的TX(发 射信号电极)和RX(接收信号电极)，还包括设置其中间的隔离层。其中，TX 或者RX包括层叠设置的若干金属走线和透明电极，而常用的透明电极为ITO (氧化铟锡)，随着柔性显示产品的普及，ITO的缺点也逐渐暴露：由于其电阻 大、成本高、抗损伤性能差的问题，限制了触控屏向柔性化发展。

基于上述因素，近年来，以在导电性、透光性以及弯曲性等性能方面表现 突出的纳米金属线如纳米银线替换ITO已经成为一种趋势，但纳米银线本身仍 然存在亟待解决的技术问题，如每根纳米银线与后续走线层中走线的接触面积 小，需要更大尺寸的走线才能确保足够多的纳米银线接触到走线并使其导通， 而过大的走线尺寸不利于窄边框的设计。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示面板结构，以强化单根纳米银线与走线层 中走线的接触效果，进而减小走线尺寸。

为了达到上述目的，本发明提供了一种显示面板，包括：

基板；

纳米金属线层，包括多根纳米金属线，设置于所述基板上；以及

走线层，设置于至少部分所述纳米金属线层上，且所述纳米金属线层中的 纳米金属线熔融焊接在所述走线层上。

可选的，所述基板包括功能区及包围所述功能区的走线区，所述纳米金属 线层设置于所述功能区以及走线区上，所述走线层设置于所述走线区的纳米金 属线层上。

可选的，所述纳米金属线层还包括基质，所述多根纳米金属线嵌入所述基 质中，多根所述纳米金属线之间通过分子力搭接以形成导电网络。

可选的，所述纳米金属线层为纳米银线层。

可选的，所述走线层包括多条并排设置的走线，所述走线与所述纳米金属 线层中的纳米金属线焊接在一起。

可选的，所述走线与所述纳米金属线的焊接连接处涂有胶水。

为了达到上述目的，本发明还提供了一种显示面板的制作方法，包括：

提供基板；

在所述基板上形成纳米金属线层，所述纳米金属线层包括多根纳米金属 线；

在至少部分所述纳米金属线层上形成走线层；以及

对所述纳米金属线层与所述走线层的连接处进行熔融焊接，将所述纳米金 属线层中的纳米金属线焊接在所述走线层上。

可选的，在所述纳米金属线层上形成走线层的步骤包括：

在所述纳米金属线层上形成走线材料层；

对所述走线材料层进行图案化处理，形成所述走线层，所述走线层包括多 条并排设置的走线。

可选的，采用激光或者电子束焊接方式对所述纳米金属线层与所述走线层 的连接处进行熔融焊接，将所述纳米金属线层中的纳米金属线焊接在所述走线 层中的走线上。

可选的，在对所述纳米金属线层与所述走线层的连接处进行熔融焊接，将 所述纳米金属线层中的纳米金属线焊接在所述走线层中的走线上之后，所述显 示面板制作方法还包括：

对所述纳米金属线与所述走线的焊接接触点涂布胶水。

在本发明所提供的显示面板及其制作方法中，纳米金属线层中的纳米金属 线熔融焊接在走线层上，增大了单根纳米金属线与走线层的接触面积，增强了 单根纳米金属线与走线层之间接触点的导电效果，使得走线层只需要连接较少 的纳米金属线就可以导通，便于实现走线层尺寸的缩减，有利于实现窄边框的 设计。

附图说明

图1为本发明实施例中显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例中基板的俯视图；

图3为本发明实施例中显示面板制作方法的步骤示意图；

图中，1-基板，2-纳米金属线层，21-基质，22-纳米金属线，3-走线层，A- 走线区，B-功能区。

具体实施方式

在背景技术中已经提及，尽管金属氧化物如ITO具有优异的透光率及导电 性，但由于其存在电阻大、成本高、抗损伤性能差的问题，不适于制备柔性器 件。因而，业界尝试开发替代ITO的材料比如导电高分子、碳纳米管、石墨烯、 纳米银线等，其中纳米银线(Silver Nano Wires，SNW)由于纳米级别的尺寸效 应，其制备的透明导电薄膜表面平整、耐弯折，并且具有较好的导电性，被认 为是首选的金属氧化物的替代材料。

然而，纳米银线本身仍然存在亟待解决的技术问题，单根纳米银线直径很 小，这会导致其和走线接触的时候并不是面与面的接触，而是点与面的接触， 每根纳米银线与走线层中走线的接触面积有限，需要更大尺寸的走线才能确保 足够多的纳米银线接触到走线并使其导通，而过大的走线尺寸不利于窄边框的 设计。

基于此，如图1所示，本实施例提出了一种显示面板，包括：

基板1；

纳米金属线层2，纳米金属线层2包括多根纳米金属线22，纳米金属线层2 设置于基板1上；以及

走线层3，设置于至少部分纳米金属线层2上，且纳米金属线层2中的纳米 金属线22熔融焊接在走线层3上。

在所述显示面板中，纳米金属线层2中的纳米金属线22熔融焊接在走线层 3上，增大了单根纳米金属线22与走线层3的接触面积，增强了单根纳米金属 线22与走线层3之间接触点的导电效果，使得走线层3只需要连接较少的纳米 金属线22就可以导通，便于减小走线层3的尺寸，实现窄边框的设计。

其中，纳米金属线层2中的纳米金属线22可以是金(Au)、银(Ag)、铂 (Pt)、铜(Cu)、钴(Co)、钯(Pd)等的纳米线。由于银具有导电性和透光性 好等特点，纳米金属线22优选为银纳米线(即纳米银线)，则纳米金属线层2 优选为纳米银线层，所述纳米银线层中的纳米银线的线长可以在为10微米至300 微米之间，纳米银线的线径(或线宽)可以小于500纳米，且其长宽比(线长 与线径之比)可以大于10。

下面将结合图1-图3对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下 列描述和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采 用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发 明实施例的目的。

结合图1-图3，本实施例提出了一种显示面板的制作方法，包括如下步骤：

S1、提供基板1；

S2、在所述基板1上形成纳米金属线层2，所述纳米金属线层2包括多根纳 米金属线22；

S3、在至少部分所述纳米金属线层2上形成走线层3；以及

S4、对所述纳米金属线层2与所述走线层3的连接处进行熔融焊接，将所 述纳米金属线层2中的纳米金属线22焊接在所述走线层3上。

在步骤S1中，所述基板1可以是刚性的基板或者柔性的基板。所述柔性的 基板即采用柔性材料制作而成，如选用可绕性柔性材料制成，所述柔性材料是 指在工业上具有一定强度并具有一定可挠性的材料。所述基板1是刚性的基板 时，例如可以是钠玻璃、硼硅玻璃等碱玻璃、无碱玻璃、化学强化玻璃等玻璃 基板。基板1是柔性的基板时，其材质包含但不限于为压克力、聚甲基丙烯酸 甲酯(PMMA)、聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚酰胺(PA)、聚酰亚胺(PI)、 聚苯并咪唑聚丁烯(PB)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚碳酸酯(PC)、聚 醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚醚砜(PES)、聚乙烯(PE)、聚对苯二 甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯四氟乙烯(ETFE)、聚环氧乙烷、聚乙醇酸(PGA)、 聚甲基戊烯(PMP)、聚甲醛(POM)、聚苯醚(PPE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙 烯(PS)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、聚氟乙烯(PVF)、 聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或苯乙烯-丙烯腈(SAN)等。

具体实施时，可以在刚性基板如玻璃基板上涂布柔性材料，在所述柔性材 料上制作电极和其他元件，在全部制程完成之后，将所述柔性材料下方的玻璃 基板剥离从而形成柔性基板；也可以是在刚性基板如玻璃基板上涂布柔性材料， 然后将所述柔性材料下方的玻璃基板剥离从而形成柔性基板。

进一步的，如图1-2所示，所述基板1包括功能区B和走线区A，走线区A 例如是包围功能区B。所述功能区B也可以称之为可视区，所述基板1的可视 区通常用于透光显示；所述走线区A也可以称之为边框区，所述边框区通常不 透光。

在步骤S2中，如图1所示，在所述基板1上形成纳米金属线层2，所述纳 米金属线层2设置于所述功能区B以及走线区A上；所述纳米金属线层2包括 基质21及嵌入所述基质21中的纳米金属线22，多根所述纳米金属线22之间通 过分子力搭接以形成导电网络，所述基质21用于保护所述纳米金属线22不被 腐蚀、磨损等外界环境的影响。

具体的，步骤S2进一步包括：

S21、将纳米金属线溶液涂布在所述基板1上；

S22、去除所述纳米金属线溶液的溶剂，形成纳米金属线层2。

进一步的，在步骤S21中，通过印刷或旋转涂布等方式将所述纳米金属线 溶液涂布在所述基板1上。其中，所述纳米金属线溶液为纳米金属线溶在特定 的溶剂里而形成的悬浮溶液，该溶剂可以是水、水溶液、离子溶液、含盐溶液、 超临界流体、油或其混合物等，所述溶剂中还可以含有如分散剂、表面活性剂、 交联剂、稳定剂、润湿剂或增稠剂等添加剂。

进一步的，在步骤S22中，通过加热烘干的方式去除所述纳米金属线溶液 的溶剂，以对涂布的纳米金属线溶液进行固化，得到纳米金属线层2。

在步骤S3中，在所述纳米金属线层2位于所述走线区A上的部分上形成走 线层3，即在所述走线区A的纳米金属线层2上形成走线层3，以引出电极。

具体的，步骤S3进一步包括：

S31、在所述纳米金属线层2位于所述走线区A上的部分上形成一层走线材 料层；

S32、对所述走线材料层进行图案化处理，形成所述走线层3，所述走线层 3包括多条并排设置的走线。

其中，所述走线材料层例如是金属材料层，可以包括铝、镍、铜等金属， 或者包括银、钯、铝、铜、镍等元素的合金；对所述走线材料层进行图案化处 理(如光刻加刻蚀)，形成电路图案，得到走线层3，走线层3包括多条并排设 置的走线(图中未示出)。

在步骤S4中，对所述纳米金属线层2与所述走线层3的连接处进行熔融焊 接，将所述纳米金属线层2中的纳米金属线22焊接在所述走线层3上。

具体的，采用激光或者电子束焊接等熔融焊接方式对所述纳米金属线层2 与所述走线层3的连接处进行熔融焊接，将所述纳米金属线层2中的纳米金属 线22融化后焊接在所述走线层3中的走线上，使得单根纳米金属线22与所述 走线面与面地接触。

其中，所述走线层3中的走线的线径尺寸远大于纳米金属线22的线径尺寸， 通过上述熔融焊接方式将纳米金属线22与所述走线之间的点与面的接触变为面 与面的接触，进而增大了单根纳米金属线22与所述走线的接触面积，增强了二 者之间接触点的导电效果。

进一步的，对所述纳米金属线22与所述走线的焊接接触点进行强化，如涂 布胶水使得二者的焊接连接更牢固。

执行上述步骤，最终得到如图1所示的显示面板，如图1所示，该显示面 板包括基板1、设置于基板1上的纳米金属线层2及设置于纳米金属线层2上的 走线层3；其中，金属线层2中的纳米金属线22熔融焊接在走线层3中的走线 上，增大了单根纳米金属线22与走线层3中走线的接触面积，增强了单根纳米 金属线22与走线层3中走线之间接触点的导电效果，使得走线层3中的走线只 需要连接较少的纳米金属线22就可以导通，便于实现走线层3中走线及整个走 线层3尺寸的缩减，有利于实现窄边框的设计。

此外，本实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括如上所述的显 示面板，所述显示装置可以为：显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、 显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

综上所述，在本发明实施例所提供的显示面板及其制作方法中，纳米金属 线层中的纳米金属线熔融焊接在走线层中的走线上，增大了单根纳米金属线与 走线层中走线的接触面积，增强了单根纳米金属线与走线层中走线之间接触点 的导电效果，使得走线层中的走线只需要连接较少的纳米金属线就可以导通， 便于实现走线层中走线及整个走线层尺寸的缩减，有利于实现窄边框的设计。

上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任 何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明 揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离 本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

纳米金属线层，包括多根纳米金属线，设置于所述基板上；以及

走线层，设置于至少部分所述纳米金属线层上，且所述纳米金属线层中的纳米金属线熔融焊接在所述走线层上。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基板包括功能区及包围所述功能区的走线区，所述纳米金属线层设置于所述功能区以及走线区上，所述走线层设置于所述走线区的纳米金属线层上。

3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述纳米金属线层还包括基质，所述多根纳米金属线嵌入所述基质中，多根所述纳米金属线之间通过分子力搭接以形成导电网络。

4.如权利要求1至3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述纳米金属线层为纳米银线层。

5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述走线层包括多条并排设置的走线，所述走线与所述纳米金属线层中的纳米金属线焊接在一起。

6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述走线与所述纳米金属线的焊接连接处涂有胶水。

7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成纳米金属线层，所述纳米金属线层包括多根纳米金属线；

在至少部分所述纳米金属线层上形成走线层；以及

对所述纳米金属线层与所述走线层的连接处进行熔融焊接，将所述纳米金属线层中的纳米金属线焊接在所述走线层上。

8.如权利要求7所述的显示面板制作方法，其特征在于，在所述纳米金属线层上形成走线层的步骤包括：

在所述纳米金属线层上形成走线材料层；

对所述走线材料层进行图案化处理，形成所述走线层，所述走线层包括多条并排设置的走线。

9.如权利要求8所述的显示面板制作方法，其特征在于，采用激光或者电子束焊接方式对所述纳米金属线层与所述走线层的连接处进行熔融焊接，将所述纳米金属线层中的纳米金属线焊接在所述走线层中的走线上。

10.如权利要求9所述的显示面板制作方法，其特征在于，在对所述纳米金属线层与所述走线层的连接处进行熔融焊接，将所述纳米金属线层中的纳米金属线焊接在所述走线层中的走线上之后，所述显示面板制作方法还包括：

对所述纳米金属线与所述走线的焊接接触点涂布胶水。