CN108878327B - 承载机台及其控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明是关于一种承载机台及其控制方法，属于机械设备技术领域。该承载机台包括：调节组件和用于承载衬底基板的承载台，所述调节组件用于将所述承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，使得所述衬底基板与设置在所述衬底基板上方的掩膜版的间距属于预设范围，解决了掩膜版下垂而使无机层阴影区域的面积比较大，外界水氧易进入显示面板，影响显示面板的使用寿命的问题，达到了提高显示面板的使用寿命的效果，用于制备显示面板。

Description

承载机台及其控制方法

技术领域

本发明涉及机械设备技术领域，特别涉及一种承载机台及其控制方法。

背景技术

薄膜封装工艺是制备显示面板中的重要工艺之一。在进行薄膜封装工艺时，通常是将玻璃基板放置在承载机台上，通过掩膜框架(英文：frame)将掩膜版固定在玻璃基板的上方，然后基于该掩膜版在玻璃基板上进行等离子体增强化学气相沉积(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition，PECVD)操作，使得等离子体通过掩膜版的透光区域在玻璃基板上形成无机层，比如无机层包括氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)等。

相关技术中，一般将形成在玻璃基板上且厚度为预设厚度的90％～50％的无机层所在的区域称作第一阴影区域，该第一阴影区域在玻璃基板上的正投影位于掩膜版的透光区域在玻璃基板上的正投影内，同时将厚度小于预设厚度的50％的无机层所在的区域称作第二阴影区域，该第二阴影区域在玻璃基板上的正投影位于掩膜版的非透光区域在玻璃基板上的正投影内，第一阴影区域和第二阴影区域的面积越大，外界水氧越容易进入显示面板。

而掩膜版常常会在自身重力作用下发生下垂现象，当掩膜版下垂时第一阴影区域和第二阴影区域的面积会比较大，外界水氧易进入显示面板，影响显示面板的使用寿命。

发明内容

本发明实施例提供了一种承载机台及其控制方法，可以解决相关技术中掩膜版下垂而使无机层阴影区域的面积会比较大，外界水氧易进入显示面板，影响显示面板的使用寿命的问题。所述技术方案如下：

根据本发明实施例的第一方面，提供一种承载机台，包括：调节组件和用于承载衬底基板的承载台，所述衬底基板与所述承载台的台面贴合，

所述调节组件用于将所述承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，使得所述衬底基板与设置在所述衬底基板上方的掩膜版的间距属于预设范围。

可选的，所述调节组件包括处理模块和与所述处理模块电连接的控制模块，

所述处理模块用于在接收到调整指令时，确定所述目标弯曲度，所述调整指令用于指示所述掩膜版的版面的弯曲度；

所述处理模块还用于根据所述目标弯曲度确定所述台面多个预设位置中每个所述预设位置的高度，并向所述控制模块发送控制指令，所述控制指令用于指示每个所述预设位置的高度；

所述控制模块用于根据所述控制指令调整所述台面每个所述预设位置的高度，以将所述承载台的台面的弯曲度调整为所述目标弯曲度。

可选的，所述控制模块包括多个调节单元和多个支撑柱，所述多个调节单元和所述多个支撑柱设置在所述承载台远离所述衬底基板的一面，所述多个调节单元和所述多个支撑柱一一对应，

每个所述调节单元与所述处理模块电连接，并与对应的支撑柱的一端连接，每个所述支撑柱的另一端设置在所述台面的一个预设位置处，

每个所述调节单元用于根据所述控制指令调整对应的支撑柱的高度，以调整对应的预设位置的高度。

可选的，所述调节单元为液压千斤顶。

可选的，所述支撑柱由合金钢制成。

可选的，所述调节组件还用于在接收到恢复指令时，调整所述台面的弯曲度，使得所述承载台的台面与水平面平行，所述恢复指令用于指示等离子体增强化学气相沉积PECVD操作执行完毕。

可选的，所述调节组件还包括与所述处理模块电连接的升降柱，

所述升降柱用于在所述处理模块的控制下调整所述承载台的整体高度。

根据本发明实施例的第二方面，提供一种承载机台的控制方法，用于如第一方面所述的承载机台，所述承载机台包括用于承载衬底基板的承载台，所述衬底基板与所述承载台的台面贴合，所述方法包括：

将所述承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，使得所述衬底基板与设置在所述衬底基板上方的掩膜版的间距属于预设范围。

可选的，所述将所述承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，包括：

在接收到调整指令时，确定所述目标弯曲度，所述调整指令用于指示所述掩膜版的版面的弯曲度；

根据所述目标弯曲度确定所述台面多个预设位置中每个所述预设位置的高度；

调整所述台面每个所述预设位置的高度，以将所述承载台的台面的弯曲度调整为所述目标弯曲度。

可选的，所述方法还包括：

在接收到恢复指令时，调整所述台面的弯曲度，使得所述承载台的台面与水平面平行，所述恢复指令用于指示等离子体增强化学气相沉积PECVD操作执行完毕。

本发明实施例提供的技术方案至少包括以下有益效果：

可以调节承载台的台面的弯曲度，使得衬底基板与掩膜版的间距属于预设范围，避免了因掩膜版下垂而使掩膜版的中间位置与衬底基板的间距较小，掩膜版的边缘位置与衬底基板的间距较大。能够使掩膜版的各个位置与衬底基板的间距较一致，进而使得形成在衬底基板上的无机层的阴影区域的面积较小，这样一来，外界水氧不易进入显示面板，所以增大了显示面板的使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是相关技术中无机层的阴影区域示意图；

图2是相关技术中承载机台的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的一种承载机台的结构示意图；

图4是用于确定弯曲度的最大弦高的示意图；

图5是本发明实施例提供的一种调节组件的示意图；

图6是本发明实施例提供的承载台的台面多个预设位置的俯视图；

图7是本发明实施例提供的另一种承载机台的正视图；

图8是本发明实施例提供的多个支撑柱的示意图；

图9是图7所示的承载机台的立体图；

图10是本发明实施例提供的一种承载机台的控制方法的流程图；

图11是本发明实施例提供的另一种承载机台的控制方法的流程图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

图1示出了相关技术中玻璃基板上无机层的阴影区域的示意图，如图1所示，玻璃基板上设置有第一挡墙01和第二挡墙02，其中，第一挡墙01设置在显示面板有效显示区域之外，第二挡墙02设置在第一挡墙01之外。掩膜版003设置有透光区域和非透光区域。第一挡墙01和第二挡墙02在玻璃基板上的正投影位于掩膜版003的透光区域在玻璃基板上的正投影内。形成在玻璃基板上且厚度为预设厚度的90％～50％的无机层所在的区域为第一阴影区域，第一挡墙01和第二挡墙02在玻璃基板上的正投影位于第一阴影区域在玻璃基板上的正投影内。形成在玻璃基板上且厚度小于预设厚度的50％的无机层所在的区域为第二阴影区域，第二阴影区域靠近显示面板的边缘。从中间位置到边缘位置，无机层的厚度越来越小。形成在玻璃基板中间位置处的无机层的厚度最大，形成在玻璃基板边缘位置处的无机层的厚度最小。通常，第一阴影区域的长度为150～250微米，第二阴影区域的长度为200～350微米，第二阴影区域的长度大于第一阴影区域的长度，第二阴影区域的面积大于第一阴影区域的面积。

当第一阴影区域和第二阴影区域的面积较大时，第一挡墙01和第二挡墙02上的无机层封装失效的可能性就越大，而当第一挡墙01和第二挡墙02上的无机层封装失效时，外界水氧会侵蚀与第一挡墙和第二挡墙相接触的阳极，并经过阳极向有效显示区域侵蚀，严重影响显示面板的使用寿命。而掩膜版003常常会在自身重力作用下发生下垂现象，如图2所示，由于用于承载玻璃基板10的承载台的台面是平的，玻璃基板10的板面也是平的，所以，掩膜版003的中间位置与玻璃基板10的间距d1较小，掩膜版003的边缘位置与玻璃基板10的间距d2较大，通常，d1约为60微米，d2约为220微米，因此，形成在玻璃基板10上的无机层的第一阴影区域和第二阴影区域的面积较大，尤其是第二阴影区域(即靠近显示面板边缘的阴影区域)的面积很大，最终，外界水氧易进入显示面板，显示面板的使用寿命较短。

而本发明实施例提供的承载机台及其控制方法，可以解决掩膜版下垂而使形成在衬底基板上的无机层的阴影区域的面积较小，外界水氧易进入显示面板，影响显示面板使用寿命的问题。

本发明实施例提供了一种承载机台，如图3所示，包括：调节组件(图3中未画出)和用于承载衬底基板001的承载台002。衬底基板001与承载台002的台面贴合。

调节组件用于将承载台002的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，使得衬底基板001与设置在衬底基板001上方的掩膜版003的间距属于预设范围。

该承载机台的调节组件能够调整承载台002的台面的弯曲度，进而使得承载台上的衬底基板001的板面的弯曲度发生变化。通过该调节组件，可以使衬底基板001与掩膜版003的间距属于预设范围，进而避免因掩膜版003下垂而使掩膜版003的中间位置与衬底基板001的间距较小，掩膜版003的边缘位置与衬底基板001的间距较大。通过该调节组件，可以使掩膜版003的各个位置与衬底基板001的间距较一致，进而减小了形成在衬底基板上的无机层的阴影区域(阴影区域包括第一阴影区域和第二阴影区域)的面积，尤其是较大幅度减小了第二阴影区域的面积。这样一来，外界水氧不易进入显示面板，封装产品的性能提高，增大了显示面板的使用寿命。

示例的，该显示面板可以为有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板。比如可以为有源矩阵有机发光二极体(Active-matrix organic lightemitting diode，AMOLED)显示面板。

示例的，衬底基板001为玻璃基板。

本发明实施例中的弯曲度指的是物体在长度方向上的弯曲程度。比如，承载台的台面的弯曲度指的是台面在长度方向上的弯曲程度。而掩膜版的板面的弯曲度指的是板面在长度方向上的弯曲程度。

弯曲度可以根据物体弯曲处的最大弦高h计算得到，物体弯曲处的最大弦高如图4所示。假设物体弯曲处的最大弦高为30毫米，物体的长度为8米，那么该物体的弯曲度为(0.03/8)×100％＝0.375％。

在本发明实施例中，被调整的承载台的台面弯曲处的最大弦高可以达到微米量级，比如可以为100微米。需要说明的是，微米量级的形变量属于显示面板的弹性形变范围内，当PECVD操作执行完毕时，解除调节组件的作用力，也即是，使承载台的台面与水平面平行，此时，显示面板的板面与水平面平行，显示面板恢复至初始状态，显示面板不会因调整操作而受到损伤。

实际应用中，不同类型的掩膜版在自身重力作用的下垂程度不同，本发明实施例提供的承载机台可以根据不同类型的掩膜版的下垂程度适应调整承载台的台面的弯曲度，该承载机台可以适用于不同类型的掩膜版，所以通用性较高。

综上所述，本发明实施例提供的承载机台，可以通过调节组件调整承载台的台面的弯曲度，使得衬底基板与掩膜版的间距属于预设范围，避免了因掩膜版下垂而使掩膜版的中间位置与衬底基板的间距较小，掩膜版的边缘位置与衬底基板的间距较大。通过该调节组件，能够使掩膜版的各个位置与衬底基板的间距较一致，使得形成在衬底基板上的无机层的阴影区域的面积较小，这样一来，外界水氧不易进入显示面板，增大了显示面板的使用寿命。

可选的，如图5所示，调节组件包括处理模块0011和与处理模块0011电连接的控制模块0012。

处理模块0011用于在接收到调整指令时，确定目标弯曲度。该调整指令用于指示掩膜版的版面的弯曲度。在本发明实施例中，处理模块在接收到用户触发的调整指令时，确定出目标弯曲度，其中，该掩膜版的版面的弯曲度可以是用户从掩膜版的出厂数据中得到。

处理模块0011还用于根据目标弯曲度确定台面多个预设位置中每个预设位置的高度，并向控制模块0012发送控制指令。该控制指令用于指示每个预设位置的高度。其中，预设位置的高度指的是预设位置的中心与承载机台的底部的距离。

控制模块0012用于根据控制指令调整台面每个预设位置的高度，以将承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度。

可选的，在本发明实施例中，可以预先建立承载台台面的弯曲度与台面每个预设位置的高度的对应关系。当处理模块确定出目标弯曲度后，可以在该对应关系中查找该目标弯曲度对应的每个预设位置的目标高度，之后向控制模块发送控制指令。现以台面的9个预设位置为例进行说明，这9个预设位置分别用P1，P2，P3，P4，P5，P6，P7，P8和P9来标识。示例的，用于记录承载台台面的弯曲度与每个预设位置的高度的对应关系可以如表1所示，弯曲度X1对应的9个预设位置的高度分别为：a2、a2、a2、a2、a1、a2、a2、a2和a2，0<a1<a2；弯曲度X2对应的9个预设位置的高度分别为：a4、a4、a4、a4、a3、a4、a4、a4和a4，0<a3<a4。

表1

图6示例性示出了承载台台面的9个预设位置的俯视图，9个预设位置分别用P1，P2，P3，P4，P5，P6，P7，P8和P9来标识。在调整承载台台面的弯曲度之前，9个预设位置的高度相同。调整时，假设处理模块确定的承载台的台面的目标弯曲度为X1，那么处理模块通过查询表1，可以得到台面9个预设位置中每个预设位置的高度。其中，P5的高度为a1，其余预设位置的高度均为a2，那么处理模块将用于指示每个预设位置的高度的控制指令发送至控制模块，控制模块根据该控制指令将P5的高度调整为a1，并将其余8个预设位置的高度调整为a2，进而使得承载台台面的弯曲度变为目标弯曲度。

图7示出了本发明实施例提供的另一种承载机台的正视图，如图7所示，包括：调节组件和用于承载衬底基板001的承载台002。衬底基板001与承载台002的台面贴合。

调节组件用于将承载台002的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，使得衬底基板001与设置在衬底基板001上方的掩膜版003的间距属于预设范围。

其中，调节组件包括处理模块和与处理模块电连接的控制模块。

处理模块用于在接收到调整指令时，确定目标弯曲度。该调整指令用于指示掩膜版的版面的弯曲度。

处理模块还用于根据目标弯曲度确定台面多个预设位置中每个预设位置的高度，并向控制模块发送控制指令。该控制指令用于指示每个预设位置的高度。

控制模块包括多个调节单元121和多个支撑柱122，多个调节单元121和多个支撑柱122设置在承载台002远离衬底基板001的一面，多个调节单元121和多个支撑柱122一一对应。

每个调节单元121与处理模块电连接，并与对应的支撑柱122的一端连接，每个支撑柱122的另一端设置在台面的一个预设位置处。

每个调节单元121用于根据控制指令调整对应的支撑柱122的高度，以调整对应的预设位置的高度，进而将承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度。

可选的，调节组件还用于在接收到恢复指令时，调整承载台的台面的弯曲度，使得承载台的台面与水平面平行，该恢复指令用于指示PECVD操作执行完毕。示例的，处理模块用于在接收到恢复指令时，确定PECVD操作已执行完毕，并向控制模块发送复原指令，该复原指令用于指示台面每个预设位置的初始高度。控制模块用于根据该复原指令将台面每个预设位置的高度调整为初始高度，以使承载台的台面与水平面平行，此时，显示面板的板面与水平面平行，显示面板恢复至初始状态，显示面板不会受到损伤。

可选的，控制模块的多个调节单元121可以统一设置在一容纳槽123(图7中用虚线框来表示容纳槽)中，该容纳槽起到保护多个调节单元的作用，避免多个调节单元受到损伤，同时使得承载机台看上去更加美观。图8示出了多个支撑柱122的示意图，每个支撑柱122的高度由容纳槽123中对应的调节单元调整。

示例的，调节单元可以为液压千斤顶。支撑柱可以由合金钢制成。

可选的，如图7所示，调节组件还包括与处理模块电连接的升降柱0013。

升降柱0013用于在处理模块的控制下调整承载台002的整体高度，使承载台远离或靠近承载机台的底部。

可选的，如图7所示，掩膜版003可以通过掩膜框架004固定在衬底基板001上方。

进一步的，承载机台可以容纳于六面体腔室内。该六面体腔室用于保护承载机台，避免承载机台受到损伤。

图9还示出了图7所示的承载机台的立体图，如图9所示，承载台002承载衬底基板001，掩膜版003设置在衬底基板001上方，控制模块包括多个调节单元和多个支撑柱122，多个调节单元和多个支撑柱122设置在承载台002远离衬底基板001的一面，多个调节单元和多个支撑柱122一一对应，且多个调节单元统一设置在一容纳槽123中，升降柱0013用于调整承载台002的整体高度。该承载机台容纳于六面体腔室005内。

综上所述，本发明实施例提供的承载机台，可以通过调节组件调整承载台的台面的弯曲度，使得衬底基板与掩膜版的间距属于预设范围，避免了因掩膜版下垂而使掩膜版的中间位置与衬底基板的间距较小，掩膜版的边缘位置与衬底基板的间距较大。通过该调节组件，能够使掩膜版的各个位置与衬底基板的间距较一致，使得形成在衬底基板上的无机层的阴影区域的面积较小，这样一来，外界水氧不易进入显示面板，增大了显示面板的使用寿命。

图10是本发明实施例提供的一种承载机台的控制方法的流程图，该方法用于上述实施例所提供的承载机台，参见图10，该方法包括：

步骤1001、将承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，使得承载台与设置在衬底基板上方的掩膜版的间距属于预设范围。

在本步骤中，可以通过承载机台的调节组件将承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度。

综上所述，本发明实施例提供的承载机台的控制方法，可以调整承载台的台面的弯曲度，使得衬底基板与掩膜版的间距属于预设范围，避免了因掩膜版下垂而使掩膜版的中间位置与衬底基板的间距较小，掩膜版的边缘位置与衬底基板的间距较大。通过该方法，能够使掩膜版的各个位置与衬底基板的间距较一致，进而使得形成在衬底基板上的无机层的阴影区域的面积较小，这样一来，外界水氧不易进入显示面板，增大了显示面板的使用寿命。

图11是本发明实施例提供的另一种承载机台的控制方法的流程图，该方法用于上述实施例所提供的承载机台，参见图11，该方法包括：

步骤1101、在接收到调整指令时，确定目标弯曲度。

该调整指令用于指示掩膜版的版面的弯曲度。

本发明实施例提供的承载机台的调节组件可以包括处理模块和控制模块，在本步骤中，当处理模块接收到调整指令时，处理模块确定承载台的台面的目标弯曲度。

步骤1102、根据目标弯曲度确定台面多个预设位置中每个预设位置的高度。

可选的，处理模块根据目标弯曲度确定台面多个预设位置中每个预设位置的高度。预设位置的高度指的是预设位置的中心与承载台的底部的距离。

步骤1103、调整台面每个预设位置的高度，以将承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度。

可选的，处理模块确定承载台的台面多个预设位置中每个预设位置的高度，并向控制模块发送控制指令，使得控制模块根据控制指令调整台面每个预设位置的高度，以将承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，进而使得承载台与设置在衬底基板上方的掩膜版的间距属于预设范围。通过该方法，可以避免掩膜版下垂而使掩膜版的中间位置与衬底基板的间距较小，掩膜版的边缘位置与衬底基板的间距较大。通过该方法，可以使掩膜版的各个位置与衬底基板的间距较一致，使得形成在衬底基板上的无机层的阴影区域的面积较小，这样一来，外界水氧不易进入显示面板，增大了显示面板的使用寿命。

步骤1104、调整承载台的整体高度。

示例的，如图7所示，可以通过升降柱调整承载台的整体高度。当升降柱接收到处理模块的升降指令时，对承载台的整体高度进行调整，使承载台远离或靠近承载机台的底部，以根据实际需求适应不同的应用场景。

步骤1105、在接收到恢复指令时，调整台面的弯曲度，使得承载台的台面与水平面平行。

该恢复指令用于指示PECVD操作执行完毕。

可选的，处理模块在接收到恢复指令时，确定PECVD操作已执行完毕，并向控制模块发送复原指令，该复原指令用于指示台面每个预设位置的初始高度。控制模块再根据该复原指令将台面每个预设位置的高度调整为初始高度，以使承载台的台面与水平面平行。此时，显示面板的板面与水平面平行，显示面板恢复至初始状态，显示面板不会受到损伤。

综上所述，本发明实施例提供的承载机台的控制方法，可以调整承载台的台面的弯曲度，使得衬底基板与掩膜版的间距属于预设范围，避免了因掩膜版下垂而使掩膜版的中间位置与衬底基板的间距较小，掩膜版的边缘位置与衬底基板的间距较大。通过该方法，能够使掩膜版的各个位置与衬底基板的间距较一致，进而使得形成在衬底基板上的无机层的阴影区域的面积较小，这样一来，外界水氧不易进入显示面板，增大了显示面板的使用寿命。

需要说明的是，本发明实施例提供的承载机台的控制方法的步骤的先后顺序可以进行适当调整，本发明实施例提供的承载机台的控制方法的步骤也可以根据情况进行相应增减。任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里发明的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (7)

1.一种承载机台，其特征在于，包括：调节组件和用于承载衬底基板的承载台，所述衬底基板与所述承载台的台面贴合，

所述调节组件用于将所述承载台的台面的弯曲度调整为目标弯曲度，使得所述衬底基板与设置在所述衬底基板上方的掩膜版的间距属于预设范围；

所述调节组件包括处理模块和与所述处理模块电连接的控制模块，

所述处理模块用于在接收到调整指令时，确定所述目标弯曲度，所述调整指令用于指示所述掩膜版的版面的弯曲度；

所述处理模块还用于根据所述目标弯曲度确定所述台面多个预设位置中每个所述预设位置的高度，并向所述控制模块发送控制指令，所述控制指令用于指示每个所述预设位置的高度；

所述控制模块用于根据所述控制指令调整所述台面每个所述预设位置的高度，以将所述承载台的台面的弯曲度调整为所述目标弯曲度；

预先建立所述承载台台面的弯曲度与所述台面每个预设位置的高度的对应关系，当所述处理模块确定出所述目标弯曲度后，在所述对应关系中查找所述目标弯曲度对应的所述每个预设位置的目标高度，之后向所述控制模块发送控制指令；

所述控制模块包括多个调节单元和多个支撑柱，所述多个调节单元和所述多个支撑柱设置在所述承载台远离所述衬底基板的一面，所述多个调节单元和所述多个支撑柱一一对应，

每个所述调节单元与所述处理模块电连接，并与对应的支撑柱的一端连接，每个所述支撑柱的另一端设置在所述台面的一个预设位置处，

每个所述调节单元用于根据所述控制指令调整对应的支撑柱的高度，以调整对应的预设位置的高度。

2.根据权利要求1所述的承载机台，其特征在于，所述调节单元为液压千斤顶。

3.根据权利要求1所述的承载机台，其特征在于，所述支撑柱由合金钢制成。

4.根据权利要求1至3任一所述的承载机台，其特征在于，

所述调节组件还用于在接收到恢复指令时，调整所述台面的弯曲度，使得所述承载台的台面与水平面平行，所述恢复指令用于指示等离子体增强化学气相沉积PECVD操作执行完毕。

5.根据权利要求1所述的承载机台，其特征在于，所述调节组件还包括与所述处理模块电连接的升降柱，

所述升降柱用于在所述处理模块的控制下调整所述承载台的整体高度。

6.一种承载机台的控制方法，其特征在于，用于如权利要求1至5任一所述的承载机台，所述承载机台包括用于承载衬底基板的承载台，所述衬底基板与所述承载台的台面贴合，调节组件包括处理模块和与所述处理模块电连接的控制模块，控制模块包括多个调节单元和多个支撑柱，所述方法包括：

在接收到调整指令时，确定所述目标弯曲度，所述调整指令用于指示所述掩膜版的版面的弯曲度；

根据所述目标弯曲度确定所述台面多个预设位置中每个所述预设位置的高度；

调整所述台面每个所述预设位置的高度，以将所述承载台的台面的弯曲度调整为所述目标弯曲度，使得所述衬底基板与设置在所述衬底基板上方的掩膜版的间距属于预设范围；

预先建立所述承载台台面的弯曲度与所述台面每个预设位置的高度的对应关系，当所述处理模块确定出所述目标弯曲度后，在所述对应关系中查找所述目标弯曲度对应的所述每个预设位置的目标高度，之后向所述控制模块发送控制指令；

所述多个调节单元和所述多个支撑柱设置在所述承载台远离所述衬底基板的一面，所述多个调节单元和所述多个支撑柱一一对应，

每个所述调节单元与所述处理模块电连接，并与对应的支撑柱的一端连接，每个所述支撑柱的另一端设置在所述台面的一个预设位置处，

每个所述调节单元用于根据所述控制指令调整对应的支撑柱的高度，以调整对应的预设位置的高度。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在接收到恢复指令时，调整所述台面的弯曲度，使得所述承载台的台面与水平面平行，所述恢复指令用于指示等离子体增强化学气相沉积PECVD操作执行完毕。

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