CN108866504A - 一种真空镀膜机基片架传送系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空镀膜机基片架传送系统，包括机械平移机构、磁导平移机构、升降机构、控制模块，机械平移机构包括与驱动马达连接的传动杆Ⅰ，与传动杆Ⅰ两端连接的安装板上Ⅰ，与安装板上Ⅰ连接的平移马达Ⅰ，磁导平移机构包括固定在连接杆上的磁导向装置，设置在磁导向装置两端的夹具，平移马达Ⅱ驱动的安装板Ⅱ，升降机构包括固定在真空室底板下方的两个气缸，与气缸连接的端板，端板的两端各设有一伸入至真空室内用于顶起基片架的支撑座。本系统解决了多个基片架在单箱体真空环境下的平移互换功能，能实现每个基片架的独立传输，缩短了整个真空设备的长度，提高了生产效率，整个工作过程都在真空环境下进行，不会造成真空度的变化。
Description
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域，具体说，是一种真空镀膜机基片架传送系统。
背景技术
真空镀膜生产线是在同一水平平面上分布有多个真空箱体，被镀玻璃在传送装置的输送下，经过每一个真空箱体进行处理，实现表面镀膜。现有被镀玻璃传送采用的有两种传输方式，一种是采用直线式传输方式，一端进一端出，另一种是采用回传模式，进出都在同一端，但是这两种模式传输的基片进出是在不同的真空室完成的，这样使得真空室的数量增加，相应的真空抽气系统会明显增加。
发明内容
针对上述现有技术中存在的技术问题，本发明提供一种能实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返独立传输的真空镀膜机基片架传送系统。
本发明采用的技术方案如下：一种真空镀膜机基片架传送系统，包括机械平移机构、磁导平移机构、升降机构、控制模块，
所述机械平移机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆Ⅰ，传动杆Ⅰ的两端分别安装在两块安装板上Ⅰ，在真空室与安装板Ⅰ之间的传动杆Ⅰ外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板Ⅰ密闭连接，在传动杆Ⅰ其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆Ⅰ上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板Ⅰ上各安装有一驱动马达，驱动马达通过同步带与同侧的传动杆Ⅰ上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆Ⅰ上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆Ⅰ上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆Ⅰ上的摩擦轮对应在同一直线上；在真空室底板上安装有平移马达Ⅰ，所述平移马达Ⅰ通过同步带连接有丝杠Ⅰ，丝杠Ⅰ上的丝杠螺母Ⅰ与其中一块安装板Ⅰ连接，安装板Ⅰ下方设有平移导向装置；
所述磁导平移机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的连接杆，多条磁导向装置纵向固定在连接杆上，连接杆的一端固定在安装板Ⅱ上，在安装板Ⅱ与真空室之间的连接杆外套有波纹管，波纹管两端分别于安装板Ⅱ及真空室侧板密闭连接，连接杆的另一端套在固定在真空室侧板上的密封套筒内，在真空室的两端还各设有一根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆Ⅱ，在传动杆Ⅱ上固定有与磁导向装置一一对应的夹具，传动杆Ⅱ一端与固定在安装板上的旋转马达连接，在安装板Ⅱ与真空室之间的传动杆Ⅱ外套有波纹管，波纹管两端分别与安装板Ⅱ及真空室侧板密闭连接，传动杆Ⅱ的另一端套在固定在真空室侧板上的密封套筒内，所述安装板Ⅱ与平移驱动装置连接，所述平移驱动装置包括平移马达Ⅱ、与平移马达Ⅱ连接的丝杠Ⅱ、与丝杠Ⅱ配合的丝杠螺母Ⅱ，所述丝杠螺母Ⅱ与安装板Ⅱ连接，安装板Ⅱ上方设有平移导向装置；
所述升降机构包括固定在真空室底板下方的两个气缸，两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上，所述端板的两端各设有一支撑杆，所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内，支撑杆的顶端连接支撑座，支撑杆穿过真空室底板处设有密封板，在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管，所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接；
所述控制模块用于控制驱动马达、平移马达Ⅰ、平移马达Ⅱ、旋转马达、气缸的动作。
进一步地，在真空室进入口及进出口边的传动杆Ⅰ上的摩擦轮数量是其他传动杆摩擦轮数量的两倍，其摩擦轮的位置与其他传动杆摩擦轮的位置相对应。
进一步地，所述传动杆Ⅰ与安装板Ⅰ之间通过磁流体密封装置连接。
进一步地，所述平移导向装置包括直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。
进一步地，所述传动杆Ⅰ、传动杆Ⅱ、连接杆与真空室侧板之间通过直线轴承连接，所述支撑杆与密封板之间通过直线轴承连接。
进一步地，在密封板上设有导向杆，在支撑座上设有与导向杆配合的导向板。
本发明的有益效果是：
（1）解决了多个基片架在单箱体真空环境下的平移互换功能，能实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返传输，并且可以实现每个基片架的独立传输，缩短了整个真空设备的长度，缩减了整个系统的占用空间，提高了设备的生产效率；
（2）解决了基片架在水平移动过程中上端的摆动以及整个基片架的晃动问题，使基片架在移动过程中保持平稳；
（3）该系统在整个工作过程都是在真空环境下进行，气密性好，不会造成真空度的变化。
附图说明
图1是本发明的机械平移机构的俯视图。
图2是本发明的机械平移机构的横向剖面示意图。
图3是本发明的机械平移机构的立体结构示意图。
图4是本发明的磁导平移机构的立体结构示意图。
图5是本发明的磁导平移机构的纵向剖面示意图。
图6是本发明的磁导平移机构的横向剖面示意图。
图7是本发明的升降机构的结构示意图。
图8是本发明的升降机构的局部结构示意图。
图9是本发明的升降机构的立体机构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本发明作更全面、细致地描述，但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。
一种真空镀膜机基片架传送系统，其特征在于：包括机械平移机构、磁导平移机构、升降机构、控制模块。
所述机械平移机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆Ⅰ201，传动杆Ⅰ201的两端分别安装在两块安装板Ⅰ203上，传动杆Ⅰ201与安装板Ⅰ203之间通过磁流体密封装置205连接，在真空室与安装板Ⅰ203之间的传动杆Ⅰ201外套有波纹管103，波纹管103两端分别与真空室侧板101以及安装板Ⅰ203密闭连接，在传动杆Ⅰ201其中一端的末端安装有同步带轮204，相邻两根传动杆Ⅰ201上的同步带轮204安装位置相对，在两块安装板Ⅰ203上各安装有一驱动马达209，驱动马达209通过同步带与同侧的传动杆Ⅰ201上的同步带轮204连接，在真空室内的传动杆Ⅰ201上装有两个摩擦轮202，相邻两根传动杆Ⅰ201上的摩擦轮202交错排布，相隔的两根传动杆Ⅰ201上的摩擦轮202对应在同一直线上，在真空室进入口及进出口边的传动杆Ⅰ201上设有四个摩擦轮202，其摩擦轮202的位置与其他传动杆摩擦轮202的位置相对应。在真空室底板102上安装有平移马达Ⅰ206，所述平移马达Ⅰ206通过同步带连接有丝杠Ⅰ207，丝杠Ⅰ207上的丝杠螺母Ⅰ208与其中一块安装板Ⅰ203连接，安装板Ⅰ203下方设有平移导向装置5；
所述磁导平移机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板101的连接杆302，多条磁导向装置301纵向固定在连接杆302上，连接杆302的一端固定在安装板Ⅱ307上，在安装板Ⅱ307与真空室之间的连接杆302外套有波纹管103，波纹管103两端分别于安装板Ⅱ307及真空室侧板101密闭连接，连接杆302的另一端套在固定在真空室侧板101上的密封套筒303内，在真空室的两端还各设有一根横向穿过真空室两侧侧板101的传动杆Ⅱ304，在传动杆Ⅱ304上固定有与磁导向装置301一一对应的夹具305，传动杆Ⅱ304一端与固定在安装板上的旋转马达306连接，在安装板Ⅱ307与真空室之间的传动杆Ⅱ304外套有波纹管103，波纹管103两端分别与安装板Ⅱ307及真空室侧板101密闭连接，传动杆Ⅱ304的另一端套在固定在真空室侧板101上的密封套筒303内，所述安装板Ⅱ307与平移驱动装置连接，所述平移驱动装置包括平移马达Ⅱ308、与平移马达Ⅱ308连接的丝杠Ⅱ309、与丝杠Ⅱ309配合的丝杠螺母Ⅱ310，所述丝杠螺母Ⅱ310与安装板Ⅱ307连接，安装板Ⅱ307上方设有平移导向装置5；
所述升降机构包括固定在真空室底板102下方的两个气缸401，两个气缸401的活塞杆端连接在同一块端板402上，所述端板402的两端各设有一支撑杆404，所述支撑杆404穿透真空室底板102伸入至真空室内，支撑杆404的顶端连接支撑座403，支撑杆404穿过真空室底板102处设有密封板405，在密封板405上设有导向杆406，在支撑座403上设有与导向杆406配合的导向板407。在真空室与端板402之间的支撑杆404外套有波纹管103，所述波纹管103两端分别与密封板405和端板402密闭连接。
进一步地，所述平移导向装置5包括直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。
进一步地，所述传动杆Ⅰ201、传动杆Ⅱ304、连接杆302与真空室侧板101之间通过直线轴承104连接，所述支撑杆404与密封板405之间通过直线轴承104连接。
所述控制模块用于控制驱动马达209、平移马达Ⅰ206、平移马达Ⅱ308、旋转马达306、气缸401的动作。
基片架105进入真空室后，其下端置于摩擦轮202上，其上端由磁导向装置301定位和导向，左右安装板Ⅰ203上的驱动马达209可独立驱动对应传动杆Ⅰ201从而带动其上的基片架105往返传输。平移马达Ⅰ206、平移马达Ⅱ308同步动作，从而通过安装板Ⅰ203、安装板Ⅱ307横向移动，进一步带动基片架105横向平移，从而实现多个基片架在单箱体真空环境下的平移互换，移动前，旋转马达306动作而使固定在传动杆Ⅱ304上的夹具305放下实现对基片架105两端的夹持，使基片架105在平移过程中的保持平稳。平移到位后，两个气缸401同步收缩，通过端板402、支撑杆404、支撑座403顶起对应基片架105，可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离，从而使得在真空环境下可以实现多个基片架中的某一个或者多个基片架的独立传输。
在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本发明所属领域的技术人员将会想到本发明的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本发明不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。
Claims (6)
1.一种真空镀膜机基片架传送系统，其特征在于：包括机械平移机构、磁导平移机构、升降机构、控制模块，
所述机械平移机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆Ⅰ，传动杆Ⅰ的两端分别安装在两块安装板上Ⅰ，在真空室与安装板Ⅰ之间的传动杆Ⅰ外套有波纹管，波纹管两端分别与真空室侧板以及安装板Ⅰ密闭连接，在传动杆Ⅰ其中一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆Ⅰ上的同步带轮安装位置相对，在两块安装板Ⅰ上各安装有一驱动马达，驱动马达通过同步带与同侧的传动杆Ⅰ上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆Ⅰ上装有两个或两个以上的摩擦轮，相邻两根传动杆Ⅰ上的摩擦轮交错排布，相隔的两根传动杆Ⅰ上的摩擦轮对应在同一直线上；在真空室底板上安装有平移马达Ⅰ，所述平移马达Ⅰ通过同步带连接有丝杠Ⅰ，丝杠Ⅰ上的丝杠螺母Ⅰ与其中一块安装板Ⅰ连接，安装板Ⅰ下方设有平移导向装置；
所述磁导平移机构包括多根横向穿过真空室两侧侧板的连接杆，多条磁导向装置纵向固定在连接杆上，连接杆的一端固定在安装板Ⅱ上，在安装板Ⅱ与真空室之间的连接杆外套有波纹管，波纹管两端分别于安装板Ⅱ及真空室侧板密闭连接，连接杆的另一端套在固定在真空室侧板上的密封套筒内，在真空室的两端还各设有一根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆Ⅱ，在传动杆Ⅱ上固定有与磁导向装置一一对应的夹具，传动杆Ⅱ一端与固定在安装板上的旋转马达连接，在安装板Ⅱ与真空室之间的传动杆Ⅱ外套有波纹管，波纹管两端分别与安装板Ⅱ及真空室侧板密闭连接，传动杆Ⅱ的另一端套在固定在真空室侧板上的密封套筒内，所述安装板Ⅱ与平移驱动装置连接，所述平移驱动装置包括平移马达Ⅱ、与平移马达Ⅱ连接的丝杠Ⅱ、与丝杠Ⅱ配合的丝杠螺母Ⅱ，所述丝杠螺母Ⅱ与安装板Ⅱ连接，安装板Ⅱ上方设有平移导向装置；
所述升降机构包括固定在真空室底板下方的两个气缸，两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上，所述端板的两端各设有一支撑杆，所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内，支撑杆的顶端连接支撑座，支撑杆穿过真空室底板处设有密封板，在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管，所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接；
所述控制模块用于控制驱动马达、平移马达Ⅰ、平移马达Ⅱ、旋转马达、气缸的动作。
2.如权利要求1所述的一种真空镀膜机基片架传送系统，其特征在于：在真空室进入口及进出口边的传动杆Ⅰ上的摩擦轮数量是其他传动杆摩擦轮数量的两倍，其摩擦轮的位置与其他传动杆摩擦轮的位置相对应。
3.如权利要求1所述的一种真空镀膜机基片架传送系统，其特征在于：所述传动杆Ⅰ与安装板Ⅰ之间通过磁流体密封装置连接。
4.如权利要求1所述的一种真空镀膜机基片架传送系统，其特征在于：所述平移导向装置包括直线滑轨以及固定住安装板上与直线滑轨配合的滑块。
5.如权利要求1所述的一种真空镀膜机基片架传送系统，其特征在于：所述传动杆Ⅰ、传动杆Ⅱ、连接杆与真空室侧板之间通过直线轴承连接，所述支撑杆与密封板之间通过直线轴承连接。
6.如权利要求1所述的一种真空镀膜机基片架传送系统，其特征在于：在密封板上设有导向杆，在支撑座上设有与导向杆配合的导向板。
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| CN109402584A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-03-01 | 浙江上方电子装备有限公司 | 一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置 |
| CN109402584B (zh) * | 2018-11-30 | 2024-03-12 | 浙江上方电子装备有限公司 | 一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置 |
| CN110205596A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-09-06 | 河北道荣新能源科技有限公司 | 内腔式磁控溅射设备的传动结构与方法 |
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