CN108712832A - 一种电路板导电膜施镀工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电路板导电膜施镀工艺,它包括以下步骤:S4、浸酸:将微蚀后的电路板送入浸酸槽内,控制温度在20~25℃之间,10~17s后出板;S5、第一层施镀:将电路板放置于喷淋水头下方,并向喷淋头内泵入电镀液,电镀液在电路板表面上施镀厚度为1~2微米的第一层镀膜层;S6、第二层施镀:将浸酸后的电路板送入镀槽内,经过电镀后在原有镀膜层上形成第二层镀膜层,从而增大第一层镀膜层和第二层镀膜层的结合强度,避免第二层镀膜层脱落,同时增加电路板的机械强度,同时还保证镀膜的均匀性。本发明的有益效果是:提高镀层均匀性、防止镀膜层脱落、工艺简单、操作简单。
Description
技术领域
本发明涉及一种电路板导电膜施镀工艺。
背景技术
电路板中使用的聚酰亚胺、聚酯等基材,都是绝缘性能好的高分子材料,要使其表面成为导体,化学镀是应用广泛的技术之一。导体化(金属化)的孔洞是不同层间线路连接的通道,优质的孔金属化质量是产品电气性能的基本保证。经过多年的研究与开发,化学镀技术已经相当成熟(无论是化学镀铜、化学镀镍、还是化学镀金属合金),掌握了影响化学镀质量的基本因素,即镀层与基材的化学特性、与之对应的化学镀液配方和工艺控制参数等。由于高阶高密度电路板使用了如聚酰亚胺薄膜这类材料,同时又是在微孔中进行化学镀,因此必须调整化学镀的工艺参数,才有可能获得优质的镀层。
然而现有的镀层并不均匀,在电路板上的镀膜一些区域较厚,而另一些区域较薄,严重影响了质量质量。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种提高镀层均匀性、防止镀膜层脱落、工艺简单、操作简单的电路板导电膜施镀工艺。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种电路板导电膜施镀工艺,它包括以下步骤:
S1、整孔:将钻孔后的电路板前后间隔30~50 mm依次放在传送辊组上,并将电路板送入整孔槽内,控制整孔槽内温度在30~45℃之间,整孔槽内的整孔剂对电路板进行整孔, 5~8min后出板;
S2、一次水洗:将整孔后的电路板送入水洗槽内,用去离子水将电路板板面和孔壁上的杂质去除,7~8min后出板;
S3、微蚀:将一次水洗后的电路板送入微蚀槽内,控制微蚀槽内微蚀剂浓度为50~70g/L,15~25s后出板;
S4、浸酸:将微蚀后的电路板送入浸酸槽内,控制温度在20~25℃之间,10~17s后出板;
S5、第一层施镀:将电路板放置于喷淋水头下方,并向喷淋头内泵入电镀液,电镀液在电路板表面上施镀厚度为1~2微米的第一层镀膜层;
S6、第二层施镀:将浸酸后的电路板送入镀槽内,经过电镀后在原有镀膜层上形成第二层镀膜层,从而增大第一层镀膜层和第二层镀膜层的结合强度,避免第二层镀膜层脱落,同时增加电路板的机械强度,同时还保证镀膜的均匀性;
S7、二次水洗:将施镀后的电路板再次送入水洗槽内,用去离子水对电路板板面和孔壁进行清洗,3~5min后出板;
S8、烘干:通过传送辊组将电路板送入烘干柜中,将温度控制在65~75℃之间,2~4min后出板,再用自动收板机进行收,从而最终得到具有均匀镀膜层的电路板。
本发明具有以下优点:本发明提高镀层均匀性、防止镀膜层脱落、工艺简单、操作简单。
具体实施方式
下面对本发明做进一步的描述,本发明的保护范围不局限于以下所述:
实施例一:一种电路板导电膜施镀工艺,它包括以下步骤:
S1、整孔:将钻孔后的电路板前后间隔30mm依次放在传送辊组上,并将电路板送入整孔槽内,控制整孔槽内温度在30℃之间,整孔槽内的整孔剂对电路板进行整孔, 5min后出板;
S2、一次水洗:将整孔后的电路板送入水洗槽内,用去离子水将电路板板面和孔壁上的杂质去除,7min后出板;
S3、微蚀:将一次水洗后的电路板送入微蚀槽内,控制微蚀槽内微蚀剂浓度为50g/L,15s后出板;
S4、浸酸:将微蚀后的电路板送入浸酸槽内,控制温度在20℃之间,10s后出板;
S5、第一层施镀:将电路板放置于喷淋水头下方,并向喷淋头内泵入电镀液,电镀液在电路板表面上施镀厚度为1微米的第一层镀膜层;
S6、第二层施镀:将浸酸后的电路板送入镀槽内,经过电镀后在原有镀膜层上形成第二层镀膜层,从而增大第一层镀膜层和第二层镀膜层的结合强度,避免第二层镀膜层脱落,同时增加电路板的机械强度,同时还保证镀膜的均匀性;
S7、二次水洗:将施镀后的电路板再次送入水洗槽内,用去离子水对电路板板面和孔壁进行清洗,3min后出板;
S8、烘干:通过传送辊组将电路板送入烘干柜中,将温度控制在65℃之间,2min后出板,再用自动收板机进行收,从而最终得到具有均匀镀膜层的电路板。
实施例二:一种电路板导电膜施镀工艺,它包括以下步骤:
S1、整孔:将钻孔后的电路板前后间隔40mm依次放在传送辊组上,并将电路板送入整孔槽内,控制整孔槽内温度在40℃之间,整孔槽内的整孔剂对电路板进行整孔,6min后出板;
S2、一次水洗:将整孔后的电路板送入水洗槽内,用去离子水将电路板板面和孔壁上的杂质去除,7min后出板;
S3、微蚀:将一次水洗后的电路板送入微蚀槽内,控制微蚀槽内微蚀剂浓度为60g/L,20s后出板;
S4、浸酸:将微蚀后的电路板送入浸酸槽内,控制温度在23℃之间,14s后出板;
S5、第一层施镀:将电路板放置于喷淋水头下方,并向喷淋头内泵入电镀液,电镀液在电路板表面上施镀厚度为1微米的第一层镀膜层;
S6、第二层施镀:将浸酸后的电路板送入镀槽内,经过电镀后在原有镀膜层上形成第二层镀膜层,从而增大第一层镀膜层和第二层镀膜层的结合强度,避免第二层镀膜层脱落,同时增加电路板的机械强度,同时还保证镀膜的均匀性;
S7、二次水洗:将施镀后的电路板再次送入水洗槽内,用去离子水对电路板板面和孔壁进行清洗,4min后出板;
S8、烘干:通过传送辊组将电路板送入烘干柜中,将温度控制在68℃之间,3min后出板,再用自动收板机进行收,从而最终得到具有均匀镀膜层的电路板。
实施例三:一种电路板导电膜施镀工艺,它包括以下步骤:
S1、整孔:将钻孔后的电路板前后间隔50 mm依次放在传送辊组上,并将电路板送入整孔槽内,控制整孔槽内温度在45℃之间,整孔槽内的整孔剂对电路板进行整孔, 8min后出板;
S2、一次水洗:将整孔后的电路板送入水洗槽内,用去离子水将电路板板面和孔壁上的杂质去除, 8min后出板;
S3、微蚀:将一次水洗后的电路板送入微蚀槽内,控制微蚀槽内微蚀剂浓度为70g/L,25s后出板;
S4、浸酸:将微蚀后的电路板送入浸酸槽内,控制温度在25℃之间, 17s后出板;
S5、第一层施镀:将电路板放置于喷淋水头下方,并向喷淋头内泵入电镀液,电镀液在电路板表面上施镀厚度为1~2微米的第一层镀膜层;
S6、第二层施镀:将浸酸后的电路板送入镀槽内,经过电镀后在原有镀膜层上形成第二层镀膜层,从而增大第一层镀膜层和第二层镀膜层的结合强度,避免第二层镀膜层脱落,同时增加电路板的机械强度,同时还保证镀膜的均匀性;
S7、二次水洗:将施镀后的电路板再次送入水洗槽内,用去离子水对电路板板面和孔壁进行清洗, 5min后出板;
S8、烘干:通过传送辊组将电路板送入烘干柜中,将温度控制在75℃之间, 4min后出板,再用自动收板机进行收,从而最终得到具有均匀镀膜层的电路板。
Claims (1)
1.一种电路板导电膜施镀工艺,其特征在于:它包括以下步骤:
S1、整孔:将钻孔后的电路板前后间隔30~50 mm依次放在传送辊组上,并将电路板送入整孔槽内,控制整孔槽内温度在30~45℃之间,整孔槽内的整孔剂对电路板进行整孔, 5~8min后出板;
S2、一次水洗:将整孔后的电路板送入水洗槽内,用去离子水将电路板板面和孔壁上的杂质去除,7~8min后出板;
S3、微蚀:将一次水洗后的电路板送入微蚀槽内,控制微蚀槽内微蚀剂浓度为50~70g/L,15~25s后出板;
S4、浸酸:将微蚀后的电路板送入浸酸槽内,控制温度在20~25℃之间,10~17s后出板;
S5、第一层施镀:将电路板放置于喷淋水头下方,并向喷淋头内泵入电镀液,电镀液在电路板表面上施镀厚度为1~2微米的第一层镀膜层;
S6、第二层施镀:将浸酸后的电路板送入镀槽内,经过电镀后在原有镀膜层上形成第二层镀膜层,从而增大第一层镀膜层和第二层镀膜层的结合强度,避免第二层镀膜层脱落,同时增加电路板的机械强度,同时还保证镀膜的均匀性;
S7、二次水洗:将施镀后的电路板再次送入水洗槽内,用去离子水对电路板板面和孔壁进行清洗,3~5min后出板;
S8、烘干:通过传送辊组将电路板送入烘干柜中,将温度控制在65~75℃之间,2~4min后出板,再用自动收板机进行收,从而最终得到具有均匀镀膜层的电路板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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