CN108663897A - 光学邻近校正方法 - Google Patents

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Abstract

一种光学邻近校正方法，包括：提供目标图形；对所述目标图形边界进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段；对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算，获得OPC多边形；判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内；当OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，对与OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度；对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形，且校正后OPC多边形的长宽比在预先设定的阈值内。本发明提供的光学邻近校正方法能够找出对目标图形进行分段后的坏点，及时对目标图形边界进行重新分段，使得获得的校正后OPC多边形可以很好的被OPC模型覆盖。

Description

光学邻近校正方法
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种光学邻近校正方法。
背景技术
在半导体制造中，随着设计尺寸的不断缩小，光的衍射效应变得越来越明显，它的结果就是最终对设计图形产生的光学影像退化，最终在基底上经过光刻形成的实际图形变得和设计图形不同，这种现象被称为光学邻近效应(OPE：Optical Proximity Effect)。
为了修正光学邻近效应，便产生了光学邻近校正(OPC：Optical ProximityCorrection)。光学邻近校正的核心思想就是基于抵消光学邻近效应的考虑建立光学邻近校正模型，根据光学邻近校正模型设计光掩模图形，这样虽然光刻后的光刻图形相对应光掩模图形发生了光学邻近效应，但是由于在根据光学邻近校正模型设计光掩模图形时已经考虑了对该现象的抵消，因此，光刻后的光刻图形接近于用户实际希望得到的目标图形。
现有的光学邻近校正方法中，提供目标图形后，整个光学邻近校正的过程包括多个循环(interation)，每次循环均对图形进行修正获得调整后的初始图形，并计算边缘位置误差(EPE，Edge Placement Error)，通过判断所述边缘位置误差是否达到标准以判断校正是否完成，最终得到符合标准的校正图形。
然而，采用现有技术提供的光学邻近校正方法，在基底上获得的实际图形与目标图形之间仍具有较大差别。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种光学邻近校正方法，及时校正片段中的坏点，对目标图形进行重新分段，使得校正后OPC多边形能够更好的OPC模型覆盖，从而提高光学邻近校正的准确度。
为解决上述问题，本发明提供一种光学邻近校正方法，包括：提供目标图形；对所述目标图形边界进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段；对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算，获得OPC多边形；判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内；当所述OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度；对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形，且校正后OPC多边形的长宽比在预先设定的阈值内。
可选的，所述目标图形边界包括长边以及短边，其中，长边的长度大于短边的长度；对所述目标图形边界进行初始分段的方法包括：将所述长边均分为多个第一片段；将所述短边分为一个或均分为多个第二片段。
可选的，对与所述OPC多边形对应的目标图形进行重新分段，调整所述片段的长度的步骤包括：缩短与所述短边两端相邻的第一片段的长度。
可选的，所述OPC多边形包括中心部以及与所述中心部相连的四个凸出部。
可选的，所述凸出部中与所述中心部相邻的边界长度为第一长度，所述凸出部中远离所述中心部的边界长度为第二长度，所述第一长度与第二长度之间的比值为所述OPC多边形的长宽比。
可选的，判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内的方法包括：判断与所述目标图形边界短边位置对应的凸出部的第一长度与第二长度之间的比值否在预先设定的阈值范围内。
可选的，所述预先设定的阈值为1.8。
可选的，所述目标图形的形状为方形；所述OPC多边形的形状为十字形。
可选的，对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度的方法包括：对所述OPC多边形进行模拟光刻，获得模拟光刻图形；基于所述模拟光刻图形与所述目标图形之间的位置差异，获取所述片段需要缩短的长度；所述片段的初始长度与所述片段需要缩短的长度之间的差值，为重新分段后所述片段的长度。
可选的，基于所述模拟光刻图形与所述目标图形之间的位置差异，获取所述片段需要缩短的长度的方法包括：获取初始图形位置差值，所述初始图形差值为所述目标图形的短边与所述模拟光刻图形的短边之间的位置差值；对所述目标图形进行预设分段，将所述目标图形边界分为多个预设片段，且获取所述预设片段的长度与所述片段的初始长度之间的差值为预设片段差值；对所述预设分段后的目标图形进行OPC运算，获得预设OPC多边形；对所述预设OPC多边形进行模拟光刻，获得预设模拟光刻图形；获取预设图形位置差值，所述预设图形位置差值为所述目标图形的短边与所述预设模拟光刻图形的短边之间的位置差值；基于所述初始图形位置差值、预设片段差值以及预设图形位置差值，获取目标图形的短边与理想光刻图形的短边之间的图形位置差值为零时，理想片段的长度与所述片段的初始长度之间的差值作为理想片段差值，其中，所述理想片段差值为初始分段后的片段需要缩短的长度。
可选的，所述预设片段差值小于或等于1nm。
可选的，所述片段需要缩短的长度定义为Δx；进行初始分段后的片段的初始长度定义为x0；所述初始图形位置差值定义为ΔEPE(x0)；所述预设片段差值定义为CD；所述预设图形位置差值定义为ΔEPE(x0-CD)；基于ΔEPE(x0-CD)与ΔEPE(x0)的差值与CD之间的比值关系，获取目标图形的短边与理想光刻图形的短边之间的位置差值ΔEPE(x0-Δx)为零时的理想片段差值Δx。
可选的，基于分段规则，对所述目标图形进行初始分段。
可选的，所述OPC多边形满足：对所述OPC多边形进行模拟光刻，获得模拟光刻图形；比较所述模拟光刻图形与目标图形的位置差异，获得模拟光刻图形的边缘位置误差，且所述边缘位置误差在预设范围内。
可选的，所述校正后OPC多边形包括中心部以及与所述中心部相连的四个凸出部；所述凸出部中与所述中心部相邻的边界长度为第一长度，所述凸出部中远离所述中心部的边界长度为第二长度，所述第一长度与第二长度之间的比值为所述校正后OPC多边形的长宽比。
与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：
本发明提供的光学邻近校正方法中，在对目标图形进行初始分段将目标图形边界分为多个片段后，进行OPC运算获得OPC多边形；且判断OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内，当OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，说明所述OPC多边形对应的目标图形划分的片段为坏点；因此需要调整所述片段的长度，对重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形，因此本发明可以有效的发现OPC多边形中的坏点并及时进行调整，避免分段不当造成的在基底上形成的实际图形与目标图形差异性大的问题。
可选方案中，预设片段差值小于或等于1nm，使得计算获得的理想片段差值的准确性高。
附图说明
图1示出了一种光学邻近校正方法中目标图形与实际图形的示意图；
图2为图1中的目标图形以及目标图形对应的OPC多边形的示意图；
图3为本发明实施例提供的初始分段的目标图形的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的初始分段的目标图形以及OPC多边形的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的初始分段的目标图形与模拟光刻图形的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的重新分段的目标图形的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的重新分段的目标图形以及校正OPC多边形的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的重新分段的目标图形、校正OPC多边形与模拟光刻图形的结构示意图。
具体实施方式
由背景技术可知，现有技术提供的光学邻近校正方法有待提高。
参考图1，图1示出了一种光学邻近校正方法中目标图形与实际图形的示意图。参考图1，所述光学邻近校正方法包括：提供目标图形10；对所述目标图形10进行分段，将所述目标图形10的边界分为多个片段11；在进行分段后，对所述目标图形10进行OPC运算，移动所述多个片段11的位置，直至所述片段11在边缘位置误差允许范围内，获得OPC多边形。
将所述OPC多边形写入掩膜版；以具有所述OPC多边形的掩膜版为掩膜，进行光刻工艺，在基底上形成实际图形13。
然而，上述光学邻近校正方法获得的实际图形13与目标图形10之间具有较大差异性。以所述目标图形10的轮廓为方形为例，所述目标图形10具有短边(line-end)，其中，所述目标图形10的短边对应的实际图形11出现的差异性最为明显。
经分析，导致上述问题的原因包括：在将所述目标图形10进行分段分为多个片段11时，所述片段11中可能出现坏点(weak point)，且所述坏点在目标图形10的短边附近的片段11中出现的概率大，所述坏点将影响获得的OPC多边形的质量，进而影响在基底上获得的实际图形13的质量。
由于通常基于一定的规则(rule)对所述目标图形10进行分段，因此对于用户而言很难重写分段规则，因此难以重新对目标图形10进行分段，影响最终在基底上形成的实际图形13的质量。
参考图2，图2为图1中的目标图形10以及目标图形10对应的OPC多边形12的示意图。进一步分析发现，所述目标图形10的短边对应的OPC多边形12具有较大的长宽比(aspect ratio)L/W，所述具有较大的长宽比的OPC多边形12难以很好的被OPC模型(module)覆盖，因此这类OPC多边形12为不期望出现的。
研究发现，当OPC多边形12的长宽比大于或等于2时，相应形成的实际图形13与目标图形10之间的差异性大。
为解决上述问题，本发明提供一种光学邻近校正方法，包括：提供目标图形；对所述目标图形边界进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段；对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算，获得OPC多边形；判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内；当所述OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度；对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形。
本发明提供的光学邻近校正方法中，在对目标图形进行初始分段将目标图形边界分为多个片段后，进行OPC运算获得OPC多边形；且判断OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内，当OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，说明所述OPC多边形对应的目标图形划分的片段为坏点；因此需要调整所述片段的长度，对重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形，因此本发明可以有效的发现OPC多边形中的坏点并及时进行调整，避免分段不当造成的在基底上形成的实际图形与目标图形差异性大的问题。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
图3为本发明实施例提供的初始分段的目标图形的结构示意图；图4为本发明实施例提供的初始分段的目标图形以及OPC多边形的结构示意图；图5为本发明实施例提供的初始分段的目标图形与模拟光刻图形的结构示意图；图6为本发明实施例提供的重新分段的目标图形的结构示意图；图7为本发明实施例提供的重新分段的目标图形以及校正OPC多边形的结构示意图；图8为本发明实施例提供的重新分段的目标图形、校正OPC多边形与模拟光刻图形的结构示意图。
参考图3，提供目标图形101。所述目标图形101为光学邻近校正的目标，即在理想状态下，在基底上形成的光刻图形与所述目标图形101一致。
所述目标图形101的边界由多条边围成，且所述目标图形101的边在相交处形成转角，因此所述目标图形101边界具有相对的长边以及短边，其中，长边的长度大于短边的长度。
本实施例中，所述目标图形101的形状为方形。
继续参考图3，对所述目标图形101进行初始分段，将所述目标图形101边界分为多个片段。
本实施例中，基于分段规则(fragmentation rule)，对所述目标图形101进行初始分段。可以采用均分法，对所述目标图形101进行初始分段，将所述目标图形101边界分为多个片段。
具体地，本实施例中，所述目标图形101边界包括长边以及短边，对所述目标图形进行初始分段的方法包括：将所述长边均分为多个第一片段111；将所述短边分为一个或均分为多个第二片段112。
需要说明的是，在其他实施例中，还可以采用用户制定的分段规则，对所述目标图形进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段。
参考图4，对所述初始分段后的目标图形101进行OPC运算，获得OPC多边形102。
所述OPC运算包括多次迭代循环计算，在所述OPC运算过程中，所述第一片段111的位置向内(inward)移动或者向外(outward)移动，所述第二片段112的位置向内移动或者向外移动，直至各片段迭代收敛，且满足边缘位置误差在预设范围内。
具体地，所述OPC多边形102满足：对所述OPC多边形进行模拟光刻，获得模拟光刻图形；比较所述模拟光刻图形与目标图形的位置差异，获得模拟光刻图形的边缘位置误差EPE，且所述边缘位置误差EPE在预设范围内。
本实施例中，所述OPC多边形102的形状为十字形。具体地，所述OPC多边形102包括中心部以及与所述中心部相连的四个凸出部。所述凸出部中与所述中心部相邻的边界长度为第一长度L，所述凸出部中远离所述中心部的边界长度为第二长度W，所述第一长度L与第二长度W之间的比值为所述OPC多边形102的长宽比L/W。
在获得所述OPC多边形102之后，判断所述OPC多边形102的长宽比是否在预先设定的阈值范围内。
当所述OPC多边形102的长宽比超出预设设定的阈值范围时，所述OPC多边形102不能很好的被OPC模型覆盖，使得在基底上获得的实际图形与目标图形101之间的差异性过大，造成基底上获得实际图形不符合要求。因此所述光学邻近校正方法还包括：判断所述OPC多边形102的长宽比是否在预先设定的阈值内；当所述OPC多边形102的长宽比大于预先设定的阈值时，对与所述OPC多边形102对应的目标图形101进行重新分段，调整所述片段的长度。
本实施例中，所述预先设定的阈值为1.8。当OPC多边形102的长宽比大于1.8时，说明所述OPC多边形102为坏点，对所述OPC多边形102对应的目标图形101进行的初始分段不合理，需要对所述OPC多边形102对应的目标图形101进行重新分段；当OPC多边形102的长宽比小于或等于1.8时，说明所述OPC多边形102可以很好的被OPC模型覆盖，对所述OPC多边形102对应的目标图形101进行的初始分段合理。
需要说明的是，由于目标图形101边界短边对应的模拟光刻图形的位置形貌更容易出现偏差，为此，通常首先判断与所述目标图形101边界短边位置对应的凸出部的第一长度L与第二长度W之间的比值是否在预先设定的阈值范围内，即判断与所述目标图形101边界短边位置对应的凸出部的长宽比L/W是否在预先设定的阈值范围内。
参考图5，对与所述OPC多边形102(参考图4)对应的目标图形101边界进行重新分段，调整所述片段的长度的方法包括：对所述OPC多边形102进行模拟光刻，获得模拟光刻图形103；基于所述模拟光刻图形103与所述目标图形101之间的位置差异，获取所述片段需要缩短的长度Δx；所述片段的初始长度x0与所述片段需要缩短的长度之间的差值，为重新分段后所述片段的长度。
经分析发现，所述模拟光刻图形103与所述目标图形101边界的长边之间位置差异性在可接受范围内；所述模拟光刻图形103与所述目标图形101边界的短边之间的位置差异性大。由此可知，前述在进行初始分段后，与所述短边两端相邻的第一片段111的长度不符合要求。
因此，对与所述OPC多边形102对应的目标图形101进行重新分段，调整所述片段的长度的步骤包括：缩短与所述短边两端相邻的第一片段111的长度。
具体地，基于所述模拟光刻图形103与所述目标图形101之间的位置差异，获取所述片段需要缩短的长度Δx的方法包括：
步骤S1、获取初始图形位置差值ΔEPE(x0)，所述初始图形位置差值ΔEPE(x0)为所述目标图形101的短边与所述模拟光刻图形103的短边之间的位置差值。
通过获取所述目标图形101短边的边界与所述模拟光刻图形103短边边界之间的差值，获取所述初始图形位置差值ΔEPE(x0)。
步骤S2、对所述目标图形101进行预设分段，将所述目标图形101边界分为多个预设片段，所述预设片段的长度小于所述片段的初始长度x0，且获取所述预设片段的长度与所述片段的初始长度x0之间的差值为预设片段差值CD。
所述预设片段差值CD不宜过大。若所述预设片段差值CD过大，则基于所述预设片段差值CD获取的初始分段后的片段需要缩短的长度的准确性低。
为此，本实施例中，所述预设片段差值CD小于或等于1nm。
步骤S3、对所述预设分段后的目标图形101进行OPC运算，获得预设OPC多边形。
步骤S4、对所述预设OPC多边形进行模拟光刻，获得预设模拟光刻图形。
步骤S5、获取预设图形位置差值ΔEPE(x0-CD)，所述预设图形位置差值为所述目标图形101的短边与所述预设模拟光刻图形的短边之间的位置差值。
通过获取所述目标图形101短边的边界与所述预设模拟光刻图形短边的边界之间的差值，获取所述预设图形位置差值ΔEPE(x0-CD)。
步骤S6、基于所述初始图形位置差值ΔEPE(x0)、预设片段差值CD以及预设图形位置ΔEPE(x0-CD)，获取目标图形101的短边与理想光刻图形的短边之间的图形位置差值为零时，理想片段的长度与所述片段的初始长度x0之间的差值作为理想片段差值Δx，其中，所述理想片段差值Δx为初始分段后的片段需要缩短的长度。
其中，理想光刻图形与所述目标图形101一致。
本实施例中，以所述预设片段差值CD为1nm为例。所述片段需要缩短的长度定义为Δx；进行初始分段后的片段的初始长度定义为x0；所述初始图形位置差值定义为ΔEPE(x0)；所述预设片段差值定义为CD；所述预设图形位置差值定义为ΔEPE(x0-CD)；基于ΔEPE(x0-CD)与ΔEPE(x0)的差值与CD之间的比值关系，获取目标图形101的短边与理想光刻图形的短边之间的位置差值ΔEPE(x0-Δx)为零时的理想片段差值Δx。
计算理想片段差值Δx的公式为：
其中，所述理想片段差值Δx为初始分段后的片段需要缩短的长度。
参考图6，当所述OPC多边形102的长宽比大于预先设定的阈值时，对与所述OPC多边形102对应的目标图形101边界进行重新分段，调整所述片段的长度。
由前述分析可知，调整所述片段的长度的方法包括：缩短与所述短边两端相邻的第一片段111的长度。具体地，将与所述短边两端相邻的第一片段111的长度由x0缩短至x0-Δx。
参考图7，对所述重新分段后的目标图形101进行OPC运算，获得校正后OPC多边形202。
所述OPC运算包括多次迭代循环计算，在所述OPC运算过程中，所述第一片段111的位置向内移动或者向外移动，所述第二片段112的位置向内移动或者向外移动，直至各片段迭代收敛，且满足边缘位置误差在预设范围内。
本实施例中，所述校正后OPC多边形202的形状为十字形。具体地，所述校正后OPC多边形202包括中心部以及与所述中心部相连的四个凸出部。所述凸出部中与所述中心部相邻的边界长度为第一长度l，所述凸出部中远离所述中心部的边界长度为第二长度w，所述第一长度l与第二长度w之间的比值为所述校正后OPC多边形202的长宽比l/w。
本实施例中，校正后OPC多边形202的长宽比l/w在预先设定的阈值内。具体的，所述校正后OPC多边形202的长宽比l/w小于或等于2，例如为1.75、1.8。
由于所述校正后OPC多边形202的长宽比l/w小，使得OPC模型可以很好的覆盖所述校正后OPC多边形202。
参考图8，对所述校正后OPC多边形202进行模拟光刻，获得校正模拟光刻图形203。
本实施例中，所述校正后OPC多边形202的长宽比l/w可以很好的被OPC模型覆盖，因此获得的校正模拟光刻图形203与所述目标图形101之间的差异性小。
需要说明的是，即使目标图形101的转角为直角，由于受到各种限制，校正模拟光刻图形203的转角为圆角。
本发明提供的光学邻近校正方法的技术方案中，在获得所述校正后OPC多边形202后，将校正后OPC多边形202写入掩膜版中，在基底上获得的实际图形与目标图形101之间的差异性小，从而可以提高形成的实际图形的质量。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (15)

1.一种光学邻近校正方法，其特征在于，包括：
提供目标图形；
对所述目标图形边界进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段；
对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算，获得OPC多边形；
判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内；
当所述OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度；
对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形，且校正后OPC多边形的长宽比在预先设定的阈值内。
2.如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述目标图形边界包括长边以及短边，其中，长边的长度大于短边的长度；对所述目标图形边界进行初始分段的方法包括：将所述长边均分为多个第一片段；将所述短边分为一个或均分为多个第二片段。
3.如权利要求2所述的光学邻近校正方法，其特征在于，对与所述OPC多边形对应的目标图形进行重新分段，调整所述片段的长度的步骤包括：
缩短与所述短边两端相邻的第一片段的长度。
4.如权利要求2所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述OPC多边形包括中心部以及与所述中心部相连的四个凸出部。
5.如权利要求4所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述凸出部中与所述中心部相邻的边界长度为第一长度，所述凸出部中远离所述中心部的边界长度为第二长度，所述第一长度与第二长度之间的比值为所述OPC多边形的长宽比。
6.如权利要求5所述的光学邻近校正方法，其特征在于，判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内的方法包括：判断与所述目标图形边界短边位置对应的凸出部的第一长度与第二长度之间的比值是否在预先设定的阈值范围内。
7.如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述预先设定的阈值为1.8。
8.如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述目标图形的形状为方形；所述OPC多边形的形状为十字形。
9.如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度的方法包括：
对所述OPC多边形进行模拟光刻，获得模拟光刻图形；
基于所述模拟光刻图形与所述目标图形之间的位置差异，获取所述片段需要缩短的长度；
所述片段的初始长度与所述片段需要缩短的长度之间的差值，为重新分段后所述片段的长度。
10.如权利要求9所述的光学邻近校正方法，其特征在于，基于所述模拟光刻图形与所述目标图形之间的位置差异，获取所述片段需要缩短的长度的方法包括：
获取初始图形位置差值，所述初始图形差值为所述目标图形的短边与所述模拟光刻图形的短边之间的位置差值；
对所述目标图形进行预设分段，将所述目标图形边界分为多个预设片段，且获取所述预设片段的长度与所述片段的初始长度之间的差值为预设片段差值；
对所述预设分段后的目标图形进行OPC运算，获得预设OPC多边形；
对所述预设OPC多边形进行模拟光刻，获得预设模拟光刻图形；
获取预设图形位置差值，所述预设图形位置差值为所述目标图形的短边与所述预设模拟光刻图形的短边之间的位置差值；
基于所述初始图形位置差值、预设片段差值以及预设图形位置差值，获取目标图形的短边与理想光刻图形的短边之间的图形位置差值为零时，理想片段的长度与所述片段的初始长度之间的差值作为理想片段差值，其中，所述理想片段差值为初始分段后的片段需要缩短的长度。
11.如权利要求10所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述预设片段差值小于或等于1nm。
12.如权利要求10所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述片段需要缩短的长度定义为Δx；进行初始分段后的片段的初始长度定义为x0；所述初始图形位置差值定义为ΔEPE(x0)；所述预设片段差值定义为CD；所述预设图形位置差值定义为ΔEPE(x0-CD)；基于ΔEPE(X0-CD)与ΔEPE(x0)的差值与CD之间的比值关系，获取目标图形的短边与理想光刻图形的短边之间的位置差值ΔEPE(x0-Δx)为零时的理想片段差值Δx。
13.如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，基于分段规则，对所述目标图形进行初始分段。
14.如权利要求1或13所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述OPC多边形满足：对所述OPC多边形进行模拟光刻，获得模拟光刻图形；比较所述模拟光刻图形与目标图形的位置差异，获得模拟光刻图形的边缘位置误差，且所述边缘位置误差在预设范围内。
15.如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述校正后OPC多边形包括中心部以及与所述中心部相连的四个凸出部；所述凸出部中与所述中心部相邻的边界长度为第一长度，所述凸出部中远离所述中心部的边界长度为第二长度，所述第一长度与第二长度之间的比值为所述校正后OPC多边形的长宽比。
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