CN108660504A - 一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法 - Google Patents
一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108660504A CN108660504A CN201810723154.1A CN201810723154A CN108660504A CN 108660504 A CN108660504 A CN 108660504A CN 201810723154 A CN201810723154 A CN 201810723154A CN 108660504 A CN108660504 A CN 108660504A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- amorphous metal
- crystaline amorphous
- polishing
- ammonium
- polishing fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 110
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract description 32
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 5
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 16
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 12
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 11
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical group N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 claims description 11
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 claims description 8
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 5
- -1 tungstates Chemical compound 0.000 claims description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 claims description 3
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- TVHALOSDPLTTSR-UHFFFAOYSA-H hexasodium;[oxido-[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl]oxyphosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O TVHALOSDPLTTSR-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-N disulfurous acid Chemical group OS(=O)S(O)(=O)=O WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000015424 sodium Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 abstract description 3
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P ammonium molybdate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 7
- 235000018660 ammonium molybdate Nutrition 0.000 description 7
- 239000011609 ammonium molybdate Substances 0.000 description 7
- 229940010552 ammonium molybdate Drugs 0.000 description 7
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 7
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 6
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 6
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 210000003934 vacuole Anatomy 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- QEYWFXYXWMGDGV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-disulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QEYWFXYXWMGDGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);trisulfate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 229910000333 cerium(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RZYKUPXRYIOEME-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCC[S] Chemical group CCCCCCCCCCCC[S] RZYKUPXRYIOEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCEAADKTGXTDOA-UHFFFAOYSA-N OS(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCC[Na] Chemical group OS(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCC[Na] RCEAADKTGXTDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- RWACICCRNCPMDT-UHFFFAOYSA-N cerium sulfuric acid Chemical compound [Ce].S(O)(O)(=O)=O RWACICCRNCPMDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 1
- 230000005685 electric field effect Effects 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/16—Polishing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
本发明涉及一种非晶合金的抛光方法,将非晶合金作为阳极与直流稳压电源的正极相连并浸入容纳有上述抛光液的抛光槽中,将导电材料作为阴极与直流稳压电源相连并浸入所述抛光槽内,接通直流稳压电源对非晶合金进行电浆抛光,其中,所述抛光液的温度为50℃~100℃,所述直流稳压电源的电压为100V~380V,所述直流稳压电源的电流密度为0.2A/cm2~1A/cm2。本发明采用直流电压对非晶合金进行抛光,电流密度较小,对非晶合金中的原子冲力小,不会对非晶合金造成晶化现象,既保证抛光质量,又不影响非晶合金的品质。
Description
技术领域
本发明涉及非晶合金抛光技术领域,特别是涉及一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法。
背景技术
医用非晶合金材料,具有诸如抗拉强度是同类多晶体金属2-3 倍(>2GPa)、低弹性模量(70-90GPa)更接近自然骨、高弹性极限(~2%, 屈服前基本上完全弹性)、高比强度(3.2×105N·m/kg)高硬度(480-550HV)、耐腐蚀、抗磨损等优点并有良好的生物相容性,被广泛应用于高端医疗手术器械精密零部件制造。医用零件对加工表面质量及加工精度要求极高,外观要求整洁光滑,不应有毛刺和裂纹,以保证医疗手术器械高耐腐蚀性、高生物安全性,以符合行业标准检验要求。非晶合金的高弹性、高硬度特点使得传统机械抛光方法存在效果差、效率低等问题;电化学抛光也受限于非晶材料的高电阻率,电解抛光电解液往往是高腐蚀性化学物质如硫酸、氢氟酸等,抛后清洗困难易有化学残留,从而导致处理后的手术器械无法达到理想的医用性能。
现有的非晶合金抛光方法中,非晶合金中通过电流时,大电流中的自由电子含量多,自由电子定向运动,通过与非晶中的原子发生碰撞,把动能传递给原子,使原子无规则热运动加剧。脉冲电流作用于非晶合金导致非晶结构弛豫,提供给非晶中原子额外冲力作用,使非晶中n型缺陷受到自由电子运动的周期性排斥,促进空位的迁移与湮灭,提高基体金属相的形核率,明显促进非晶合金晶化。
发明内容
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种用于非晶合金的抛光液,包括铵盐、还原剂、缓蚀剂、表面活性剂和水,所述铵盐的浓度为30.5g/L~63g/L,所述还原剂的浓度为1g/L~3g/L,所述缓蚀剂的浓度为0.5g/L-2g/L,所述表面活性剂的浓度为0.5g/L~1g/L。
优选的是,所述铵盐为硫酸铵、氯化铵、硝酸铵、氟化氢铵、氟化铵中的两种以上。
优选的是,所述铵盐为硫酸铵或氯化铵与氯化氢铵的混合物,其中,所述硫酸铵或氯化铵的浓度为30g/L~60g/L,所述氟化氢铵的浓度为0.5g/L~3g/L。
优选的是,所述还原剂为焦亚硫酸钠、亚硫酸钠、硫酸亚铁、氯化亚铁、亚硝酸钠中一种或多种。
优选的是,所述缓蚀剂为铬酸盐、亚硝酸盐、硅酸盐、钼酸盐、钨酸盐、聚磷酸盐、锌盐中一种或多种。
优选的是,所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠。
一种非晶合金的抛光方法,以非晶合金作为阳极与直流稳压电源的正极相连并浸入容纳有上述抛光液的抛光槽中,以导电材料作为阴极与直流稳压电源的负极相连并浸入所述抛光槽内,接通直流稳压电源对非晶合金进行电浆抛光,其中,所述抛光液的温度为50℃~100℃,所述直流稳压电源的电压为100V~380V,所述直流稳压电源的电流密度为0.2A/cm2~1A/cm2。
优选的是,所述电浆抛光时间大于300s。
优选的是,所述非晶合金的成分为所述非晶合金的成分为ZraCubAlc(Ni, Ag)dRe,其中R为Ti、Be、Fe、Nb、Cr、Co、Mn、Hf中的一种,a、b、c、d和e为各元素在所述非晶合金中对应的重量份数,30≤a≤70、10≤b≤50、0≤c≤20、1≤d≤27、0≤e≤25。
优选的是,所述导电材料为不锈钢、石墨或铜等。
本发明的工作原理为:当非晶合金浸入抛光液时,非晶合金与抛光液间瞬间形成短路,放出大量热量,并在直流电场作用下,阳极周围的抛光液被电离,形成放电通道产生等离子体,由于等离子体在液体介质中,因此产生震荡波,使阳极表面形成空化效应,即形成一层含蒸气的空泡附着在非晶合金的表面。而空泡中蒸气由抛光液汽化而成,因此该空泡中富含抛光液离子,如铵根离子、硫酸根离子、氟离子、氢离子、亚硫酸根离子等,电压加载在该空泡上,形成等离子体通道,加速空泡里的电化学反应以及其他自由基反应。其中,硫酸根离子和铵根离子作为电解质并产生等离子体,由于等离子体在液体介质中的产生的震荡波,从而发展空化效应产生空泡;空泡中的F-和HF对锆基非晶合金有强烈的腐蚀去除作用;钼酸铵作为缓蚀剂,主要是保证合金中各金属相的去除效率相同;非晶合金表面的凸起中由于尖端效应,因此其电位较高,还原剂首先作用于电位高的区域,把金属原子还原成金属离子实现去除凸起,从而达到光亮的目的。此外还原剂为亚硫酸钠,可加速把一次电离的HF分解成氟离子,加速等离子体对非晶合金表面进行去除;表面活性剂的作用是降低水的表面能,从而降低表面张力,更易于产生空化效应,并实现非晶合金表面均匀去除。
本发明的有益效果为:本发明采用直流电压对非晶合金进行抛光,电流密度较小,对非晶合金中的原子冲力小,不会对非晶合金造成晶化现象,既保证抛光质量,又不影响非晶合金的品质。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明的具体实施方式作详细描述。
实施例1
一种非晶合金的抛光方法,包括以下步骤:
(1) 试样清洗:利用超声波机将非晶合金试样的表面洗净并晾干,其中,所述非晶合金试样的成分为Zr-Cu-Al-Ni-Ti,其比例为Zr30.1::Cu11.19 :Ni10.77: Ti2.22 :Al4.81;
(2) 配制抛光液:以去离子水为溶剂配制 1L 抛光液,在抛光液中,各组分的含量为 :硫酸铵60g/L、氟化氢铵0.5g/L、亚硫酸钠 1.5g/L、钼酸铵 0.5g/L、十二磺基苯磺酸钠0.5g/L;
(3) 以锆基非晶合金试样为阳极与直流稳压电源正极相连并浸入盛有步骤(2)配制的电解质抛光液的槽体中;
(4) 以不锈钢片为阴极与直流稳压电源负极相连并浸入盛有上述电解质抛光液的槽体中;
(5) 在上述抛光液中进行抛光,控制抛光液的温度为90℃,抛光时间为300s,调节直流稳压电源的电压为350V,电流密度为0.5A/cm2;
(6) 将经过抛光后的试样取出晾干,利用碱性洗涤剂清洗后晾干,表面平整光亮,采用TR200手持粗糙度仪以及光泽度仪对锆基非晶合金试样进行测试;
(7)利用光学显微镜对锆基非晶合金表面进行观察。
实施例2
一种非晶合金的抛光方法,包括以下步骤:
(1) 试样清洗:利用超声波机将非晶合金试样的表面洗净并晾干,其中,所述非晶合金试样的成分为Zr-Cu-Al-Ni-Ti,其比例为Zr30.1::Cu11.19 :Ni10.77: Ti2.22 :Al4.81;
(2) 配制抛光液:以去离子水为溶剂配制 1L 抛光液,在抛光液中,各组分的含量为 :硫酸铵30g/L、氟化氢铵1.5g/L、亚硫酸钠 1.8g/L、钼酸铵 1g/L、十二磺基苯磺酸钠1g/L;
(3) 以锆基非晶合金试样为阳极与直流稳压电源正极相连并浸入盛有步骤(2)配制的电解质抛光液的槽体中;
(4) 以铜片为阴极与直流稳压电源负极相连并浸入盛有上述电解质抛光液的槽体中;
(5) 在上述抛光液中进行抛光,控制抛光液的温度为50℃,抛光时间为300s,调节直流稳压电源的电压为100V,电流密度为0.2A/cm2;
(6) 将经过抛光后的试样取出晾干,利用碱性洗涤剂清洗后晾干,表面平整光亮,采用TR200手持粗糙度仪以及光泽度仪对锆基非晶合金试样进行测试;
(7)利用光学显微镜对锆基非晶合金表面进行观察。
实施例3
一种非晶合金的抛光方法,包括以下步骤:
(1) 试样清洗:利用超声波机将非晶合金试样的表面洗净并晾干,其中,所述非晶合金试样的成分为Zr-Cu-Al-Ni-Ti,其比例为Zr30.1::Cu11.19 :Ni10.77: Ti2.22 :Al4.81;
(2) 配制抛光液:以去离子水为溶剂配制 1L 抛光液,在抛光液中,各组分的含量为 :氯化铵50g/L、氟化氢铵2g/L、亚硫酸钠 3g/L、钼酸铵 1.2g/L、十二磺基苯磺酸钠1g/L;
(3) 以锆基非晶合金试样为阳极与直流稳压电源正极相连并浸入盛有步骤(2)配制的电解质抛光液的槽体中;
(4) 以石墨片为阴极与直流稳压电源负极相连并浸入盛有上述电解质抛光液的槽体中;
(5) 在上述抛光液中进行抛光,控制抛光液温度为95℃,抛光时间为300s,调节直流稳压电源的电压为380V,电流密度为0.6A/cm2;
(6) 将经过抛光后的试样取出晾干,利用碱性洗涤剂清洗后晾干,表面平整光亮,采用TR200手持粗糙度仪以及光泽度仪对锆基非晶合金试样进行测试;
(7)利用光学显微镜对锆基非晶合金表面进行观察。
实施例4
一种非晶合金的抛光方法,包括以下步骤:
(1) 试样清洗:利用超声波机将非晶合金试样的表面洗净并晾干,其中,所述非晶合金试样的成分为Zr-Cu-Al-Ni-Ti,其比例为Zr30.1::Cu11.19 :Ni10.77: Ti2.22 :Al4.81;
(2) 配制抛光液:以去离子水为溶剂配制 1L 抛光液,在抛光液中,各组分的含量为 :氯化铵30g/L、氟化氢铵3.5g/L、亚硫酸钠 1g/L、钼酸铵 1.2g/L、十二磺基苯磺酸钠0.8g/L;
(3) 以锆基非晶合金试样为阳极与直流稳压电源正极相连并浸入盛有步骤(2)配制的电解质抛光液的槽体中;
(4) 以铜片为阴极与直流稳压电源负极相连并浸入盛有上述电解质抛光液的槽体中;
(5) 在上述抛光液中进行抛光,控制抛光液的温度为100℃,抛光时间为400s,调节直流稳压电源的电压为280V,电流密度为1A/cm2;
(6) 将经过抛光后的试样取出晾干,利用碱性洗涤剂清洗后晾干,表面平整光亮,采用TR200手持粗糙度仪以及光泽度仪对锆基非晶合金试样进行测试;
(7)利用光学显微镜对锆基非晶合金表面进行观察。
上述四个实施例的测试结果如表1:
表1
从表1可以看出,经过抛光后的试样的光亮度明显提高,粗糙度明显下降。
对比例1
(1) 试样清洗:利用超声波机将非晶合金试样的表面洗净并晾干,其中,所述非晶合金试样的成分为Zr-Cu-Al-Ni-Ti,其比例为Zr30.1::Cu11.19 :Ni10.77: Ti2.22 :Al4.81;
(2) 配制抛光液:以去离子水为溶剂配制 1L 抛光液,在抛光液中,各组分的含量为 :硫酸铵30g/L、氟化氢铵1.6g/L、硫酸铈0.5g/L、钼酸铵 1.5g/L、柠檬酸铵5g/L、有机膦酸1g/L;
(3) 以锆基非晶合金试样为阳极与直流稳压电源正极相连并浸入盛有步骤(2)配制的电解质抛光液的槽体中;
(4) 以铜片为阴极与直流稳压电源负极相连并浸入盛有上述电解质抛光液的槽体中;
(5) 在上述抛光液中进行抛光,控制抛光液的温度为90℃,抛光时间为300s,调节直流稳压电源的电压为300V,电流密度为0.2A/cm2;
(6) 将经过抛光后的试样取出晾干,利用碱性洗涤剂清洗后晾干,表面平整光亮,采用TR200手持粗糙度仪以及光泽度仪对锆基非晶合金试样进行测试;
(7)利用光学显微镜对锆基非晶合金表面进行观察。
对比例2
(1) 试样清洗:利用超声波机将非晶合金试样的表面洗净并晾干,其中,所述非晶合金试样的成分为Zr-Cu-Al-Ni-Ti,其比例为Zr30.1::Cu11.19 :Ni10.77: Ti2.22 :Al4.81;
(2) 配制抛光液:以去离子水为溶剂配制 1L 抛光液,在抛光液中,各组分的含量为 :硫酸铵30g/L、氟化氢铵1.5g/L、硫酸铈0.5g/L、钼酸铵 1g/L;
(3) 以锆基非晶合金试样为阳极与直流稳压电源正极相连并浸入盛有步骤(2)配制的电解质抛光液的槽体中;
(4) 以铜片为阴极与直流稳压电源负极相连并浸入盛有上述电解质抛光液的槽体中;
(5) 在上述抛光液中进行抛光,控制抛光液的温度为93℃,抛光时间为480s,调节直流稳压电源的电压为350V,电流密度为0.2A/cm2;
(6) 将经过抛光后的试样取出晾干,利用碱性洗涤剂清洗后晾干,表面平整光亮,采用TR200手持粗糙度仪以及光泽度仪对锆基非晶合金试样进行测试;
(7)利用光学显微镜对锆基非晶合金表面进行观察。
上述两个对比例的测试结果如表2:
表2
从表1和和表2的测试结果可以看出,采用本发明的抛光液对非晶合金进行抛后的抛光效果更佳,同时,抛光液无需使用光亮剂,使用还原剂可达到抛光效果,避免光亮剂如硫酸铈对饮用水造成污染,对水中生态造成长期不良影响到,可有效地实现环境保护。
其他实施例
与实施例1至4的不同之处在于:抛光液包括铵盐、还原剂、缓蚀剂、表面活性剂和水,其中,水采用去离子水等,所述铵盐的浓度为30.5g/L~63g/L,所述还原剂的浓度为1g/L~3g/L,所述缓蚀剂的浓度为0.5g/L-2g/L,所述表面活性剂的浓度为0.5g/L~1g/L。其中,所述铵盐为硫酸铵、氯化铵、硝酸铵、氟化氢铵、氟化铵中的两种以上;所述还原剂为焦亚硫酸钠、亚硫酸钠、硫酸亚铁、氯化亚铁、亚硝酸钠中一种或多种;所述缓蚀剂为铬酸盐、亚硝酸盐、硅酸盐、钼酸盐、钨酸盐、聚磷酸盐、锌盐中一种或多种;所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠;所述非晶合金的成分为ZraCubAlc(Ni, Ag)dRe,其中R为Ti、Be、Fe、Nb、Cr、Co、Mn、Hf中的一种,a、b、c、d和e为各元素在所述非晶合金中对应的重量份数,30≤a≤70、10≤b≤50、0≤c≤20、1≤d≤27、0≤e≤25。
或者非晶合金采用其他成分构成的非晶合金。经测试,经过抛光后的非晶合金的粗糙度和光亮度与实例1至4的效果相信,能实现良好的抛光效果。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种用于非晶合金的抛光液,其特征在于:包括铵盐、还原剂、缓蚀剂、表面活性剂和水,所述铵盐的浓度为30.5g/L~63g/L,所述还原剂的浓度为1g/L~3g/L,所述缓蚀剂的浓度为0.5g/L-2g/L,所述表面活性剂的浓度为0.5g/L~1g/L。
2.根据权利要求1所述的用于非晶合金的抛光液,其特征在于:所述铵盐为硫酸铵、氯化铵、硝酸铵、氟化氢铵、氟化铵中的两种以上。
3.根据权利要求2所述的用于非晶合金的抛光液,其特征在于:所述铵盐为硫酸铵或氯化铵与氯化氢铵的混合物,其中,所述硫酸铵或氯化铵的浓度为30g/L~60g/L,所述氟化氢铵的浓度为0.5g/L~3g/L。
4.根据权利要求1所述的用于非晶合金的抛光液,其特征在于:所述还原剂为焦亚硫酸钠、亚硫酸钠、硫酸亚铁、氯化亚铁、亚硝酸钠中一种或多种。
5.根据权利要求1所述的用于非晶合金的抛光液,其特征在于:所述缓蚀剂为铬酸盐、亚硝酸盐、硅酸盐、钼酸盐、钨酸盐、聚磷酸盐、锌盐中一种或多种。
6.根据权利要求1所述的用于非晶合金的抛光液,其特征在于:所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠。
7.一种非晶合金的抛光方法,其特征在于:以非晶合金作为阳极与直流稳压电源的正极相连并浸入容纳有权利要求1至6中任一项所述的抛光液的抛光槽中,以导电材料作为阴极与直流稳压电源的负极相连并浸入所述抛光槽内,接通直流稳压电源对非晶合金进行电浆抛光,其中,所述抛光液的温度为50℃~100℃,所述直流稳压电源的电压为100V~380V,所述直流稳压电源的电流密度为0.2A/cm2~1A/cm2。
8.根据权利要求7所述的非晶合金的抛光方法,其特征在于:所述电浆抛光时间大于300s。
9.根据权利要求7所述的非晶合金的抛光方法,其特征在于:所述非晶合金的成分为ZraCubAlc(Ni, Ag)dRe,其中R为Ti、Be、Fe、Nb、Cr、Co、Mn、Hf中的一种,a、b、c、d和e为各元素在所述非晶合金中对应的重量份数,30≤a≤70、10≤b≤50、0≤c≤20、1≤d≤27、0≤e≤25。
10.根据权利要求7所述的非晶合金的抛光方法,其特征在于:所述导电材料为不锈钢、石墨或铜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810723154.1A CN108660504A (zh) | 2018-07-04 | 2018-07-04 | 一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810723154.1A CN108660504A (zh) | 2018-07-04 | 2018-07-04 | 一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108660504A true CN108660504A (zh) | 2018-10-16 |
Family
ID=63772389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810723154.1A Pending CN108660504A (zh) | 2018-07-04 | 2018-07-04 | 一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108660504A (zh) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109943880A (zh) * | 2019-05-08 | 2019-06-28 | 常州世竟液态金属有限公司 | 一种锆基非晶合金表面三维多孔结构的制备方法 |
CN110541129A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-12-06 | 中国科学院金属研究所 | 一种采用低浓度缓蚀剂提升铝基非晶合金点蚀抗力的方法 |
CN111996582A (zh) * | 2020-10-14 | 2020-11-27 | 吴镇材 | 一种用于银工件的电化学抛光液及其应用和银工件的抗氧化方法 |
CN113913916A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-01-11 | 成都先进金属材料产业技术研究院股份有限公司 | 去除钛合金表面氧化皮的方法 |
CN114029511A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-02-11 | 成都先进金属材料产业技术研究院股份有限公司 | 钛合金slm成型件支撑结构及其去除方法 |
CN114808094A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-07-29 | 中国刑事警察学院 | 被破坏钢质车架号显现方法及显现用电解液 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102453444A (zh) * | 2010-10-26 | 2012-05-16 | 比亚迪股份有限公司 | 一种用于非晶合金的抛光液以及一种非晶合金的抛光方法 |
CN105382676A (zh) * | 2015-11-17 | 2016-03-09 | 广东先导半导体材料有限公司 | 一种砷化镓晶片的抛光方法 |
CN108070899A (zh) * | 2017-12-20 | 2018-05-25 | 深圳市锆安材料科技有限公司 | 一种非晶合金局部抛光工艺 |
-
2018
- 2018-07-04 CN CN201810723154.1A patent/CN108660504A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102453444A (zh) * | 2010-10-26 | 2012-05-16 | 比亚迪股份有限公司 | 一种用于非晶合金的抛光液以及一种非晶合金的抛光方法 |
CN105382676A (zh) * | 2015-11-17 | 2016-03-09 | 广东先导半导体材料有限公司 | 一种砷化镓晶片的抛光方法 |
CN108070899A (zh) * | 2017-12-20 | 2018-05-25 | 深圳市锆安材料科技有限公司 | 一种非晶合金局部抛光工艺 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110541129A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-12-06 | 中国科学院金属研究所 | 一种采用低浓度缓蚀剂提升铝基非晶合金点蚀抗力的方法 |
CN109943880A (zh) * | 2019-05-08 | 2019-06-28 | 常州世竟液态金属有限公司 | 一种锆基非晶合金表面三维多孔结构的制备方法 |
CN111996582A (zh) * | 2020-10-14 | 2020-11-27 | 吴镇材 | 一种用于银工件的电化学抛光液及其应用和银工件的抗氧化方法 |
CN113913916A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-01-11 | 成都先进金属材料产业技术研究院股份有限公司 | 去除钛合金表面氧化皮的方法 |
CN114029511A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-02-11 | 成都先进金属材料产业技术研究院股份有限公司 | 钛合金slm成型件支撑结构及其去除方法 |
CN114808094A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-07-29 | 中国刑事警察学院 | 被破坏钢质车架号显现方法及显现用电解液 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108660504A (zh) | 一种用于非晶合金的抛光液及非晶合金的抛光方法 | |
Lee et al. | An evaluation of the machinability of nitinol shape memory alloy by electrochemical polishing | |
Grimmett et al. | Pulsed Electrodeposition of Iron‐Nickel Alloys | |
CN102758234B (zh) | 一种制备铝合金耐蚀层的方法及所使用的电解液 | |
Hsu et al. | Hydrogen bubbles and the growth morphology of ramified zinc by electrodeposition | |
AU2014374136B2 (en) | Composition and method for inhibiting corrosion of an anodized material | |
CN102230204A (zh) | 一种超声波和微弧氧化组合制备铝氧化膜的方法 | |
CN101792920A (zh) | 一种硫酸-硼酸-添加剂三元阳极氧化处理液 | |
Cao et al. | Environmental friendly plasma electrolytic oxidation of AM60 magnesium alloy and its corrosion resistance | |
TW201319326A (zh) | 閥金屬電漿電解氧化表面處理方法 | |
CN110724992A (zh) | 在铝合金表面制备耐腐蚀超疏水膜层的方法 | |
Zhou et al. | A novel method designed for electrodeposition of nanocrystalline Ni coating and its corrosion behaviors in Hank's solution | |
CN111893540A (zh) | 一种铝硅合金微弧氧化膜层的制备方法 | |
An-hua et al. | Effect of current density on the properties of Ni–CeO2 composite coatings prepared using magnetic field-assisted jet electrodeposition | |
KR101336443B1 (ko) | 고내식성 마그네슘 합금 산화피막의 제조방법 | |
CN101792919A (zh) | 一种含缓蚀添加剂的阳极氧化处理液 | |
CN108642544B (zh) | 一种利用微弧氧化在镁合金表面制备氧化膜的方法 | |
Zhang et al. | Effects of electric parameters on corrosion resistance of anodic coatings formed on magnesium alloys | |
Li et al. | Effects of polyvinylidene fluoride sealing on micro-arc oxidation coating of 7075 aluminum alloy | |
Naik et al. | Electrodeposition of zinc from chloride solution | |
Xu et al. | Surface properties on magnesium alloy and corrosion behaviour based high‐speed wire electrical discharge machine power tubes | |
KR100489640B1 (ko) | 양극산화처리용 전해질 용액 및 이를 이용하는 마그네슘합금의 내부식 코팅 방법 | |
JP2005248319A (ja) | 有機溶媒のゲル電解質を用いた金属の電気めっき方法 | |
Saied et al. | Effect of TiO2 nanoparticles in Ni matrix on mechanical and corrosion resistance properties | |
Gao et al. | Effect of calcareous sediments on hydrogen evolution potential of 16Mn steel in seawater |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20181016 |