CN108660425A - 钟表用部件以及钟表 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种具有优异的审美性(尤其是，呈现出亮度较高、明亮的外观)、优异的耐腐蚀性、以及优异的耐摩擦性、耐磨性的钟表用部件，另外，提供一种具备所述钟表用部件的钟表。本发明的钟表用部件的特征在于，具备基材和第一被膜，该第一被膜由以(Co)为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含(Cr)、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含(Mo)的材料构成，在以具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜为标准的情况下的利用SIMS而被测量的所述第一被膜中的氧的平均信号强度在0count/sec以上且150count/sec以下。

Description

钟表用部件以及钟表
技术领域
本发明涉及钟表用部件以及钟表。
背景技术
钟表被要求作为实用品的功能，并且被要求作为装饰品的优异的审美性(美丽的外观)。
因此，在外壳、表带等的钟表用部件中，使用了具有优异的质感的贵金属材料(例如，参照专利文献1)。
可是，贵金属材料一般而言高价，并且硬度较低而易于受到损伤(耐摩擦性较差)等的问题。
另外，一直以来，获得在具有适度的光泽感的同时，亮度并不过高而具有不刺眼的印象的高档感的外观是困难的。
专利文献1：日本专利第2990917号公报
发明内容
本发明的目的在于，提供具有优异的审美性(尤其是，呈现出亮度较高、明亮的外观、或在具有适度的光泽感的同时亮度并不过高而具有不刺眼的印象的高档感的外观)、具有优异的耐腐蚀性、以及优异的耐摩擦性、耐磨性的钟表用部件，另外，提供具备所述钟表用部件的钟表。
这样的目的通过下述的本发明而实现。
本发明的钟表用部件的特征在于，具备基材和第一被膜，该第一被膜由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成，在以具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜为标准的情况下的利用二次离子质谱法而被测量的所述第一被膜中的氧的平均信号强度在0count/sec以上且150count/sec以下。
由此，能够提供一种具有优异的审美性(尤其是，呈现出亮度较高、明亮的外观)、优异的耐腐蚀性、以及优异的耐摩擦性、耐磨性的钟表用部件。
本发明的钟表用部件的特征在于，具备基材和第一被膜，该第一被膜由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成，在以具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜为标准的情况下的利用二次离子质谱法而被测量的所述第一被膜中的氧的平均信号强度在160count/sec以上且300count/sec以下。
由此，能够提供一种具有优异的审美性(尤其是，呈现出在具有适度的光泽感的同时亮度并不过高而具有不刺眼的印象的具有高档感的外观)、优异的耐腐蚀性、以及优异的耐摩擦性、耐磨性的钟表用部件。
在本发明的钟表用部件中，在所述第一被膜中的氧的平均信号强度在0count/sec以上且150count/sec以下的情况下，优选为，所述第一被膜被目视确认的一侧的面中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的L*在78.5以上且89.0以下。
由此，钟表用部件的亮度变得更高，钟表用部件呈现出更加明亮的外观，钟表用部件的审美性变得更加优异。
在本发明的钟表用部件中，在所述第一被膜中的氧的平均信号强度在160count/sec以上且300count/sec以下的情况下，优选为，所述第一被膜被目视确认的一侧的面中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的L*在70.0以上且78.4以下。
由此，能够使钟表用部件的光泽感更加适当，从而获得具有更加高档感的外观。
在本发明的钟表用部件中，所述基材由包含不锈钢、Ti的至少一方的材料构成。
由此，能够使钟表用部件的耐久性更加优异。另外，在第一被膜的厚度较薄的情况等下，能够给作为钟表用部件整体的外观带来适当的影响，能够更加可靠地使作为钟表用部件整体的审美性优异。
在本发明的钟表用部件中，优选为，在所述基材与所述第一被膜之间，至少设置有一层由包含Ti的材料构成基底层。
由此，能够使钟表用部件的耐久性更加优异。另外，能够实施作为钟表用部件整体的微妙的色调的调节，从而能够更加可靠地使钟表用部件的审美性优异。
在本发明的钟表用部件中，优选为，在所述基材与所述第一被膜之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜。
由此，能够使钟表用部件的硬度更高，并能够使钟表用部件的耐压痕性(附着压痕的难度)等更加优异，从而能够使钟表用部件的耐久性更加优异。另外，能够适当地进行色调的调节(尤其是，光泽度的调节)。
在本发明的钟表用部件中，优选为，在所述基材与所述第一被膜之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜，在所述第二被膜的两面侧，分别设置有所述基底层。
由此，能够使钟表用部件的耐久性进一步优异。另外，能够实施作为钟表用部件整体的微妙的色调的调节，并能够更加可靠地使钟表用部件的审美性优异。
在本发明的钟表用部件中，优选为，所述第二被膜具有在厚度方向上组成倾斜地变化的部位。
由此，例如，能够获得钟表用部件的耐压痕性、耐摩擦性、耐磨性等的提高，或者色调的调节(特别是，对光泽度的调节)等的由设置第二被膜而产生的效果，同时能够使钟表用部件的耐久性更加优异。
在本发明的钟表用部件中，优选为，所述第二被膜具有C以及N的含有率之和随着朝向该第二被膜的表面侧而降低的区域。
由此，例如，能够获得钟表用部件的耐压痕性、耐摩擦性、耐磨性等的提高，或者色调的调节(特别是，对光泽度的调节)等的由设置第二被膜而产生的效果，同时能够使钟表用部件的耐久性进一步优异。
在本发明的钟表用部件中，优选为，所述第二被膜在该第二被膜的两面侧分别具有所述区域。
由此，能够使钟表用部件的耐久性特别优异。
在本发明的钟表用部件中，优选为，所述第二被膜的厚度在0.05μm以上且4.0μm以下。
由此，能够使钟表用部件的硬度进一步变高，并能够使钟表用部件的耐压痕性(附着压痕的难度)等更加优异，从而使钟表用部件的耐久性进一步优异。另外，能够更加适当地进行作为钟表用部件整体的微妙的色调的调节。
在本发明的钟表用部件中，优选为，所述第一被膜的厚度在0.02μm以上且2.0μm以下。
由此，能够在抑制钟表用部件的生产成本的同时，使作为钟表用部件整体的光泽感、审美性、或耐摩擦性、耐磨性等更加优异。另外，能够使钟表用部件的耐久性更加优异。
优选为，本发明的钟表用部件在外壳或表带。
由于这些部件(钟表用部件)给钟表整体的外观带来较大的影响，因此，通过在这些部件上应用本发明，从而能够使作为钟表整体的审美性更加优异。另外，这些部件为，在使用钟表时等通常露出于外部的部件，另外，为易于与皮肤接触的部件，即使在各种部件中，也特别强烈地要求具有特别优异的耐摩擦性、耐磨性、耐过敏性(难以产生过敏反应)等。因此，通过在这些部件上应用本发明，从而更加显著地发挥了由如前文所述的本发明所产生的效果。
本发明的钟表的特征在于，具备本发明的钟表用部件。
由此，能够提供一种具备具有优异的审美性(尤其是，呈现出具有亮度较高、明亮的外观、或在具有适度的光泽感的同时亮度并不过高而具有不刺眼的印象的高档感的外观)、优异的耐腐蚀性、以及优异的耐摩擦性、耐磨性的钟表用部件的钟表。
附图说明
图1为示意性地表示本发明的钟表用部件的第一实施方式的剖视图。
图2为示意性地表示本发明的钟表用部件的第二实施方式的剖视图。
图3为示意性地表示本发明的钟表用部件的第三实施方式的剖视图。
图4为示意性地表示本发明的钟表用部件的第四实施方式的剖视图。
图5为示意性地表示本发明的钟表用部件的第五实施方式的剖视图。
图6为示意性地表示本发明的钟表用部件的第六实施方式的剖视图。
图7为示意性地表示本发明的钟表用部件的第七实施方式的剖视图。
图8为示意性地表示本发明的钟表用部件的第八实施方式的剖视图。
图9为示意性地表示本发明的钟表用部件的第九实施方式的剖视图。
图10为示意性地表示本发明的钟表用部件的第十实施方式的剖视图。
图11为示意性地表示本发明的钟表的优选的实施方式的局部剖视图。
具体实施方式
以下，参照附图，对本发明的优选的实施方式进行详细的说明。
钟表用部件
首先，对本发明的钟表用部件的优选的实施方式进行说明。
第一实施方式
首先，对第一实施方式的钟表用部件进行说明。
图1为示意性地表示本发明的钟表用部件的第一实施方式的剖视图。以下，以将图1中的上侧设为观察者的视点侧的情况为中心而进行说明(关于后述的图2～图10，也是同样的)。
本实施方式的钟表用部件10具备基材1和第一被膜2，所述第一被膜2为由以Co为主要成分、并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。
而且，以具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜为标准的情况下的、利用SIMS(Secondary Ion Mass Spectrometry，二次离子质谱法)而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度在0count/sec以上且150count/sec以下。
通过这样的结构，能够提供一种具有优异的审美性(尤其是，呈现出光泽性较高且具有高档感的外观)、优异的耐腐蚀性并且具有优异的耐摩擦性、耐磨性的钟表用部件10。尤其是，即使不以贵金属作为主材料而使用，也能够获得光泽性较高且具有高档感的外观。另外，即使作为基材1，而使用了由各种材料构成的物质的情况下，也能够将作为钟表用部件10整体的审美性等设为较优异，从而基材1的选择范围较宽。另外，如上所述的第一被膜2的构成材料为难以产生过敏的问题的材料。另外，由于即使在第一被膜2的厚度较薄的情况下，也能够获得光泽性较高且优异的审美感，因此能够抑制钟表用部件10的制造成本，从而能够使钟表用部件10的生产率设为较优异。
尤其是，通过利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度为所述范围内的值，从而成为亮度较高且呈现出明亮的外观，进而钟表用部件10的审美性变得尤其优异。
与此相对，在未满足如上所述的条件的情况下，无法获得如上所述的优异的效果。
例如，当第一被膜2中的Cr的含有率小于所述下限值时，耐腐蚀性、耐摩擦性、耐磨性变得不充分。
另外，当第一被膜2中的Cr的含有率大于所述上限值时，审美性降低，从而无法获得具有高档感的光泽感。
另外，当第一被膜2中的Mo的含有率小于所述下限值时，耐摩擦性、耐磨性变得不充分。
另外，当第一被膜2中的Mo的含有率大于所述上限值时，审美性降低，从而无法获得具有高档感的光泽感。
另外，作为第一被膜2，当代替由包含Co、Cr以及Mo的合金构成的被膜而使用由Pt等的贵金属材料构成的被摸时，耐摩擦性、耐磨性显著降低。
另外，当利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度过大时，钟表用部件10的审美性虽不能变差，但无法获得足够的亮度，例如，无法获得如后述的足够大的L*的值，成为较暗的外观，从而无法获得作为目的足够的光泽感。
利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度为，表示第一被膜2中的氧含有率与上述标准的氧含有率相比而高出何种程度的指标。可以称为，该值越大，则氧含有率越高。
而且，由于如上所述那样设为标准的膜(标准样品)具有特定的组成，因此，通过根据标准样品而对第一被膜2中的氧的平均信号强度进行评价，从而能够定量地对第一被膜2中的氧含有率进行评价。
标准样品只要为具有如上所述的组成、厚度的样品即可，但优选为，利用磁控管阴极真空喷镀装置，并在Ar气体流量：100ccm、环境压力：0.3Pa、DC功率：5kW、偏置电压：-80V、基材温度：160℃的条件下制造出的样品。由此，提高了标准样品中的氧含有率的可靠性，即使在不同的装置或不同的时间、不同的地方制作了标准样品，也能够使这些标准样品之间的氧含有率的偏差变得极小。能够进一步提高数值的可靠性。
标准样品为，具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜。标准样品的组成能够通过对阴极真空喷镀的目标物的组成进行调节，从而适当地进行控制。并且，在标准样品中，除了这些成分之外，也可以包括不可避免地混入的成分等杂质(其他成分)。虽然标准样品中的其他的成分的含有率(在将多个元素作为其他的成分而包含的情况下，为这些成分的总和)足够低，但具体而言，优选为，在2000ppm以下，更加优选为，在1000ppm以下，进一步优选为，在500ppm以下。
另外，标准样品只要为利用磁控管阴极真空喷镀装置，并在Ar气体流量：100ccm、环境压力：0.3Pa、功率：5kW、偏置电压：-80V、基材温度：160℃的条件下制造出的样品即可，但标准样品的制造时(阴极真空喷镀时)的包含氧原子的气体的流量优选为，在5ccm以下，环境中的包含氧原子的气体的分压优选为，在10-5Pa以下。
另外，磁控管阴极真空喷镀装置的腔室尺寸并不被特别限定，但优选为，内径在1000mm以上且1500mm以下，高度在750mm以上且1500mm以下。
作为能够用于标准样品的制造中的磁控管阴极真空喷镀装置，例如，可以列举ProChina公司制的AS14G等。
标准样品优选为，利用与在构成本实施方式所涉及的钟表用部件10的第一被膜2的形成中所使用的装置相同的装置而制造出的样品。
由此，提高了关于第一被膜2的氧的平均信号强度的数值的可靠性。
例如，通过第一被膜2的形成后的后处理(例如，氧化处理、还原处理等)、或第一被膜2的形成时的环境的条件的调节等，从而能够适当地形成满足如上所述的氧的平均信号强度的条件的第一被膜2。
基材
基材1具有作为对第一被膜2等进行支承的支承体的功能。
基材1可以为由任意的材料构成的部件，但作为基材1的构成材料，例如，可以列举：Al、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Hf、Ta、W、Bi、Mg、或包括这些金属中的至少一种在内的合金等的金属材料；铝氧化铝、氧化锆、氧化钛等的氧化物类陶瓷、羟基磷灰石等的水氧化物类陶瓷、氮化硅等的氮化物类陶瓷、碳化硅等的碳化物类陶瓷、萤石等的卤化物类陶瓷、碳酸盐类陶瓷、磷酸盐类陶瓷等的各种陶瓷材料；蓝宝石玻璃、钠钙玻璃、结晶性玻璃、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃等的玻璃材料；各种热可塑性树脂、各种硬化性树脂等的塑料材料等。
在这些材料中，基材1可以为金属材料，尤其是，优选为，由包含不锈钢、Ti的至少一方的材料构成。
由此，能够获得具有高强度、高耐腐蚀性的基材1，并且，能够使与第一被膜2等的紧贴性更加优异，从而能够使钟表用部件10的耐久性更加优异。另外，在第一被膜2的厚度较薄的情况等下，能够给作为钟表用部件10整体的外观带来适合的影响，并能够更切实地使作为钟表用部件10整体的审美性优异。另外，由于即使在使第一被膜2的厚度较薄的情况下，也能够获得充分优异的审美性，因此，从钟表用部件10的生产成本的抑制等的观点出发，是有利的。
作为Ti，也可以为纯Ti、Ti合金(α合金、α-β合金、β合金)中的任意一个。
作为不锈钢，还能够使用铁氧体类、奥氏体类、马氏体类、奥氏体·铁氧体类等的任意一个。
在此，即使在铁氧体类不锈钢中，在后述的实施例中使用的SUS444为极低C、极低N、18Cr-2Mo的高纯度铁氧体类不锈钢，尤其是，由于具有优异的耐点蚀性、耐间隙腐食性、耐应力腐食开裂性，因此，能够优选使用。
基材1中的不锈钢以及Ti的含有率优选为，在质量百分比95％以上，更加优选为，在质量百分比99％以上。
由此，将更加显著地发挥如前文所述的效果。
优选为，基材1的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率足够低，基材1中的贵金属元素的含有率(在包括多种贵金属元素的情况下，为这些含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
由此，即使不将贵金属作为主要材料来使用，也将更加显著地发挥能够获得优异的外观的效果。
基材1既可以在各个部位中具有均匀的组成，也可以具有组成不同的部位。例如，基材1可以为具有基部、和覆盖该基部并具有与该基部不同的组成的至少一层的膜的部件、或由组成倾斜地发生变化的倾斜材料(例如，在厚度方向上组成倾斜性地变化的倾斜材料等)构成的部件等。
基材1的形状、大小并不被特别地限定，通常，根据钟表用部件10的形状、大小而被确定。
基材1例如可以为在表面上实施了镜面加工(研磨加工)、折痕加工、无光面加工等的表面加工的部件。另外，在基材1上，也可以设置有文字、数字、标记、模样等的凹凸图案。
由此，例如，能够使钟表用部件10的表面的光泽程度具有变化，并能够进一步提高钟表用部件10的审美性。另外，由于后述的各种膜(例如，第一被膜2)一般情况下较薄，因此，与对该膜实施表面加工的情况相比，在对基材1实施了表面加工的情况下，易于加工，从而能够降低不良产品的产生率。
尤其是，通过实施镜面加工(研磨加工)，从而能够使基材1的表面状态更加平滑，由此，能够使钟表用部件10的表面(第一被膜2的表面22)的状态更加平滑。其结果为，能够容易地将后文详述的第一被膜2的表面22的表面积增加率调节为后文所述的范围内的值。
镜面加工例如能够采用众所周知的研磨方法来实施，例如，能够采用抛光(织物)研磨、滚筒研磨、其他的机械研磨等。
第一被膜
第一被膜2由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。
由这样的材料构成的第一被膜2即使不包含贵金属，也可以呈现出优异的光泽感，并具有优异的审美性。另外，也具有优异的耐腐蚀性、耐摩擦性、耐磨性等。
第一被膜2以Co为主要成分，但第一被膜2中的Co的含有率优选为，在质量百分比55％以上且质量百分比69％以下，更加优选为，在质量百分比62％以上且质量百分比68％以下，进一步优选为，在质量百分比63％以上且质量百分比67％以下。
由此，能够以更高的水平同时实现审美性、以及耐摩擦性、耐磨性。
第一被膜2中的Cr的含有率只要在质量百分比26％以上且质量百分比30％以下即可，但优选为，在质量百分比26.2％以上且质量百分比29.8％以下，更加优选为，在质量百分比26.4％以上且质量百分比29.6％以下，进一步优选为，在质量百分比26.6％以上且质量百分比29.4％以下。
由此，能够使审美性更加优异，同时，使耐腐蚀性、耐摩擦性、耐磨性特别优异。
第一被膜2中的Mo的含有率只要在质量百分比5％以上且质量百分比7％以下即可，但优选为，在质量百分比5.2％以上且质量百分比6.8％以下，更加优选为，在质量百分比5.3％以上且质量百分比6.7％以下，进一步优选为，在质量百分比5.4％以上且质量百分比6.6％以下。
由此，能够以更高的水平同时实现审美性、以及耐摩擦性、耐磨性。
第一被膜2可以包含上述以外的成分。作为这样的成分，例如，可以列举Si、Mn、N、Fe、C、Ni、Ti、Al、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir等。
但是，第一被膜2中的Co、Cr以及Mo以外的成分的含有率(在包含多种成分的情况下，为这些含有率之和)优选为，在质量百分比3.0％以下，更加优选为，在质量百分比2.0％以下，进一步优选为，在质量百分比1.5以下％。
尤其是，第一被膜2中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率(在包含多种贵金属元素的情况下，为这些含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
由此，即使不将贵金属作为主要材料来使用，也将更加显著地发挥能够获得优异的外观的效果。
第一被膜2既可以在各个部位中具有均匀的组成，也可以具有组成不同的部位。例如，第一被膜2可以由层叠了多个层的层叠体、或组成倾斜地发生变化的倾斜材料(例如，组成在厚度方向上倾斜地发生变化的倾斜材料等)构成等。由此，例如，能够获得设置如上所述的第一被膜2而实现的效果并且使第一被膜2与基材1等的紧贴性更加优异，从而能够使钟表用部件10的耐久性更加优异。
使用了所述标准样品的情况下的、利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度只要在0count/sec以上且150count/sec以下即可，但优选为，在0count/sec以上且100count/sec以下，更加优选为，在0count/sec以上且50count/sec以下，进一步优选为，大于0count/sec且在30count/sec以下。
由此，钟表用部件10的亮度变得更高，钟表用部件10呈现出更加明亮的外观，钟表用部件10的审美性变得更加优异。
另外，第一被膜2的表面22(与基材1对置的第一面21的相反侧的第二面22)并不会被特别地进行限定，但对该表面22进行了由原子力显微镜而实施的测量的情况下的、以平坦面作为标准时的表面积增加率优选为，在0％以上且1.2％以下，更加优选为，在0％以上且1.1％以下，进一步优选为，大于0％且在1.0％以下。
由此，钟表用部件10呈现出亮度更高、更明亮的外观，钟表用部件10的审美性变得更加优异。另外，污物难以牢固地附着在钟表用部件10的表面(第一被膜2的表面(第二面)22)上，从而钟表用部件10的防污性变得优异。
关于第一被膜2的表面的表面积增加率为如下的值，即，以假设为完全没有凹凸的情况下的表面(平坦面)的面积(投影面积)为标准，并求出与通过使用了原子力显微镜而进行的测量来求出的样品的实际表面积(形成有极微小的纳米级的凹凸的表面的面积)之比(比表面积)，并用百分比来表示其增加量的值。换言之，当将实际表面积设为A[μm2]，将样品表面设为完全平坦时的测量对象投影面积设为B[μm2]时，表面积增加率C[％]被定义为如下。
C＝[(A/B)-1]×100
使用了原子力显微镜的测量例如能够对于样品表面的5μm角的区域而实施。
另外，也可以通过改变测量视野而对多处(例如，5处)进行测量，并根据其平均值，而求出表面积增加率。
作为原子力显微镜，例如，可列举出数字仪器(Digital Instruments)公司制的“纳米内窥镜IIIa”等。
例如，通过对钟表用部件10的各种制造条件进行调节，从而能够满足如上所述的表面积增加率的条件。更加具体而言，例如，通过第一被膜2的成膜条件、第一被膜2的形成后的表面加工(例如，研磨加工或粗面化加工等)、第一被膜2的成膜前的母材(基材1等)的表面状态的调节等，从而能够对上述表面积增加率的条件进行调节。
第一被膜2的厚度优选为，在0.02μm以上且2.0μm以下，更加优选为，在0.04μm以上且1.8μm以下，进一步优选为，在0.07μm以上且1.6μm以下。
由此，能够在抑制钟表用部件10的生产成本的同时，使作为钟表用部件10整体的光泽感、审美性、和耐摩擦性、耐磨性等更加优异。另外，能够更加有效地防止第一被膜2的非本意的剥离等，从而能够使钟表用部件10的耐久性更加优异。
第一被膜2的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为，干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为第一被膜2的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与基材1等的紧贴性特别优异的第一被膜2。其结果为，能够使钟表用部件10的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为第一被膜2的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使应该形成的第一被膜2比较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，即使在提高钟表用部件10的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜2的情况下，阴极真空喷镀时的包含氧原子的气体的流量优选为，在10ccm以下，更加优选为，在5ccm以下。
由此，通过满足前述的条件，从而能够容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度进行调节。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜2的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，通过满足前述的条件，从而能够容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜2的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，通过满足前述的条件，从而能够容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜2的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，在2kW以上且15kW以下，更加优选为，在6kW以上且12kW以下。
由此，通过满足前述的条件，从而能够容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜2的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-180V以上且-70V以下，更加优选为，-150V以上且-90V以下。
由此，通过满足前述的条件，从而能够容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜2的情况下，阴极真空喷镀时的基材1的温度优选为，在150℃以上且250℃以下，更加优选为，在180℃以上且220℃以下。
由此，通过满足前述的条件，从而能够容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
例如，也可以针对通过如上所述的方法而形成的第一被膜2而实施还原处理。
由此，通过满足前述的条件，从而能够容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜2中的氧的平均信号强度进行调节。
例如，通过暴露于氢气等的还原性气体(尤其是，暴露于进行了加热的条件下的还原性气体)等，从而能够实施还原处理。
另外，第一被膜2例如也可以为，在表面上实施了镜面加工(研磨加工)等的表面加工的被膜。
由此，能够使第一被膜2的表面22(钟表用部件10的表面)的状态更加平滑，从而能够更加切实地将第一被膜2的表面22的表面积增加率调节为所述范围内的值。
第一被膜2的表面22(第一被膜2被目视确认的一侧的面、即在使用钟表用部件10时观察者的视点侧的面)中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的L*优选为，在78.5以上且89.0以下，更加优选为，在80.0以上且88.5以下，进一步优选为，在82.0以上且88.0以下。
由此，钟表用部件10的亮度变得更高，钟表用部件10呈现出更加明亮的外观，钟表用部件10的审美性变得更加优异。
并且，在L*的测量中，作为光源，能够使用在JIS Z 8720中所规定的D65的光源。另外，能够将L*的测量时的视野角度设为2°。
另外，第一被膜2的表面22(第一被膜2被目视确认的一侧的面、即在使用钟表用部件10时观察者的视点侧的面)中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的a*优选为，在-2.0以上且3.0以下，更加优选为，-1.5以上且2.5以下，进一步优选为，-1.0以上且2.0以下。
另外，第一被膜2的表面22(第一被膜2被目视确认的一侧的面，即、在使用钟表用部件10时观察者的视点侧的面)中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的b*优选为，在-1.0以上且10.0以下，更加优选为，在0.0以上且9.0以下，进一步优选为，在1.0以上且8.0以下。
通过满足这样的条件，从而使钟表用部件10的审美性变得特别优异。
并且，在a*、b*的测量中，作为光源，能够使用在JIS Z 8720中所规定的D65的光源。另外，能够将a*、b*的测量时的视野角度设为2°。
钟表用部件10中，只要是构成钟表的部件，则可以为任意的部件，但优选为，在钟表的使用时可从外部进行目视确认的部件，具体而言，可列举出防风玻璃、外壳、表圈、后盖、表带(包括表带的链节、表带的调节结构、卡扣、带扣、表带·手环拆装机构等)、表盘、钟表用针、转子、表把(例如，螺纹锁定式表把等)、按钮、表盘环、分型板等，其中，优选为外壳或表带。
由于这些部件(钟表用部件)会给钟表整体的外观带来较大影响，因此，通过在这些部件上应用本发明，从而能够使作为钟表整体的审美性更加优异。另外，这些部件为在钟表等的使用时通常露出于外部的部件，另外，也是易于与皮肤接触的部件，在各种部件中，尤其强烈要求具有优异的耐摩擦性、耐磨性、耐过敏性(难以产生过敏反应)等。因此，通过在这些部件上应用本发明，从而能够更加显著的发挥由如前文所述的本发明所产生的效果。
第二实施方式
接下来，对第二实施方式的钟表用部件进行说明。
图2为示意性地表示本发明的钟表用部件的第二实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式的不同点为中心而进行说明，并省略了有关相同事项的说明。
在本实施方式的钟表用部件10中，在基材1的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)3、以及第一被膜2，所述基底层(第一基底层)3由包含Ti的材料构成，第一被膜2由以Co为主要成分、且以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr并以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。换言之，在本实施方式的钟表用部件10中，在基材1与第一被膜2之间设置有由包含Ti的材料构成的基底层3。
由此，能够使基材1与第一被膜2的紧贴性更加优异，并且能够缓和施加在钟表用部件10上的冲击，并能够使钟表用部件10的耐久性更加优异。另外，能够使基材1的表面平滑化，另外，能够实施作为钟表用部件10整体的微妙色调的调节，能够更加切实地使钟表用部件10的审美性更加优异。
基底层3也可以包含Ti以外的成分。
但是，基底层3中的Ti以外的成分的含有率优选为在质量百分比2.0％以下，更加优选为，在质量百分比1.0％以下，进一步优选为质量百分比0.5％以下。
尤其是，基底层3中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率(在包含多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
基底层3的厚度优选为，在0.01μm以上且1.0μm以下，更加优选为，在0.02μm以上且0.5μm以下，进一步优选为，在0.03μm以上且0.3μm以下。
由此，能够使基材1与第一被膜2的紧贴性和冲击缓和的功能进一步优异，并能够使钟表用部件10的耐久性进一步优异，并且能够使钟表用部件10的生产率更加优异，从而能够更加有效地对钟表用部件10的生产成本进行抑制。另外，能够使基材1的表面适当地平滑化，并能够容易地将第一被膜2的表面22的表面积增加率调节为所述范围内的值。
基底层3的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀敷、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为，干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为基底层3的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与基材1等的紧贴性特别优异的基底层3。其结果为，能够使钟表用部件10的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为基底层3的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使应当形成的基底层3比较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，即使在提高钟表用部件10的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层3的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层3的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层3的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，在2kW以上且15kW以下，更加优选为，在6kW以上且12kW以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层3的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-180V以上且-70V以下，更加优选为，在-150V以上且-90V以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层3的情况下，阴极真空喷镀时的基材1的温度优选为，在150℃以上且250℃以下，更加优选为，在180℃以上且220℃以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
基底层3例如也可以为在表面上施加了镜面加工(研磨加工)等的表面加工的基底层。
由此，能够使基底层3的表面状态更加平滑，并能够使钟表用部件10的表面(第一被膜2的表面22)的状态更加平滑。其结果为，能够更加切实地将第一被膜2的表面22的表面积增加率调节为所述范围内的值。
第三实施方式
接下来，对第三实施方式的钟表用部件进行说明。
图3为示意性地表示本发明的钟表用部件的第三实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式的不同点为中心而进行说明，并省略有关相同事项的说明。
在本实施方式的钟表用部件10中，在基材1的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)3、第二被膜4以及第一被膜2，所述基底层(第一基底层)3由包含Ti的材料构成，所述第二被膜4由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成，所述第一被膜2由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr且以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。换言之，在基材1与第一被膜2之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜4以外，与前文所述的第二实施方式相同。
由此，能够使钟表用部件10的硬度更高，并能够使钟表用部件10的耐压痕性(附着压痕的难度)等更加优异，能够更加有效地缓和应力，并能够使钟表用部件10的耐久性更加优异。另外，能够适当地进行色调的调节(特别是对光泽度的调节)。
第二被膜4也可以包括TiC、TiCN以外的成分。
但是，第二被膜4中的TiC、TiCN以外的成分的含有率优选为，在质量百分比2.0％以下，更加优选为，在质量百分比1.0％以下，进一步优选为，在质量百分比0.5％以下。
尤其是，第二被膜4中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率(在包含多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
第二被膜4既可以为在各个部位中具有均匀的组成，并具有组成不同的部位。例如，第二被膜4也可以为层叠了多个层的层叠体等。
尤其是，第二被膜4优选为，具有组成在厚度方向上倾斜地变化的部位的被膜。
由此，例如，能够获得钟表用部件10的耐压痕性、耐摩擦性、耐磨性等的提高、色调的调节(特别是，光泽度的调节)等由设置第二被膜4而产生的效果，同时能够使第二被膜4与邻接于该第二被膜4的部位(在图示的结构中，为基底层3以及第一被膜2)的紧贴性更加优异，另外，能够更加有效地防止第二被膜4的破坏(层内剥离等)，从而能够使钟表用部件10的耐久性更加优异。
优选为，第二被膜4具有朝向该第二被膜4的表面42侧而C(碳)以及N(氮)的含有率之和降低的区域。
由此，例如，能够获得钟表用部件10的耐压痕性、耐摩擦性、耐磨性等的提高、色调的调节(特别是，光泽度的调节)等的由设置第二被膜4而产生的效果，并且能够使第二被膜4与邻接于该第二被膜4的部位(在图示的结构中，为基底层3以及第一被膜2)的紧贴性更加优异，另外，能够更加有效地防止第二被膜4的破坏(层内剥离等)，并能够使钟表用部件10的耐久性更加优异。
第二被膜4也可以具有C以及N的含有率之和从该第二被膜4的厚度方向的中央部朝向一方的表面侧而降低的区域，但是，优选为，具有C以及N的含有率之和从该第二被膜4的厚度方向的中央部分别朝向两面侧而降低的区域。
由此，能够使第二被膜4与设置于第二被膜4的两面侧的部位(在图示的结构中，为基底层3以及第一被膜2)的紧贴性特别优异，并能够使钟表用部件10的耐久性特别优异。
当将在第二被膜4中C以及N的含有率之和成为最大的部位(例如，第二被膜4的厚度方向的中心部附近)处的C以及N的含有率设为X1[质量％]，将在第二被膜4中C以及N的含有率之和成为最小的部位(例如，表面42或与其相反的一侧的表面)处的C以及N的含有率设为X2[质量％]时，优选为，满足1≤X1-X2≤20的关系，更加优选为，满足2≤X1-X2≤15的关系，进一步优选为，3≤X1-X2≤12的关系。
由此，更加显著的发挥了如前文所述的效果。
第二被膜4的厚度优选为，在0.05μm以上且4.0μm以下，更加优选为，在0.1μm以上且2.0μm以下，进一步优选为，在0.2μm以上且1.5μm以下。
由此，能够使钟表用部件10的硬度进一步提高，使钟表用部件10的耐压痕性(附着压痕的难度)等更加优异，并使钟表用部件10的耐久性进一步优异，并且，能够使钟表用部件10的生产率更加优异，并更加有效地抑制钟表用部件10的生产成本。另外，能够更加适当地进行作为钟表用部件10整体的微妙的色调的调节。
另外，由于设置有基底层3，因此，基材1与第二被膜4的紧贴性变得更加优异，因此，使钟表用部件10的耐久性变得特别优异。
第二被膜4的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为第二被膜4的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与基底层3等的紧贴性特别优异的第二被膜4。其结果为，能够使钟表用部件10的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为第二被膜4的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使应当形成的第二被膜4比较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，即使在提高钟表用部件10的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜4的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜4的情况下，阴极真空喷镀时的C2H2气体流量优选为，在10ccm以上且50ccm以下，更加优选为，在15ccm以上且30ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜4的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜4的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，在6kW以上且15kW以下，更加优选为，7kW以上且12kW以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜4的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-150V以上且-30V以下，更加优选为，在-120V以上且-50V以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜4的情况下，阴极真空喷镀时的基材1的温度优选为，在150℃以上且250℃以下，更加优选为，在180℃以上且220℃以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
第二被膜4例如也可以为，在表面上施加了镜面加工(研磨加工)等的表面加工的被膜。
由此，能够使第二被膜4的表面状态设为更加平滑，并能够使钟表用部件10的表面(第一被膜2的表面22)的状态设为更加平滑。其结果为，能够容易地将第一被膜2的表面22的表面积增加率调节为所述范围内的值。
如以上那样的第二被膜4还能够应用于所述第一实施方式中，并发挥同样的效果。
第四实施方式
接下来，对第四实施方式的钟表用部件进行说明。
图4为示意性地表示本发明的钟表用部件的第四实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式之间的不同点为中心而进行说明，并省略有关相同事项的说明。
在本实施方式的钟表用部件10中，在基材1的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)3、第二被膜4、基底层(第二基底层)5、以及第一被膜2，所述基底层(第一基底层)3由包含Ti的材料构成，第二被膜4由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成，基底层(第二基底层)5由包含Ti的材料构成，第一被膜2以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。换言之，在本实施方式中，在基材1与第一被膜2之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜4，在该第二被膜4的两面侧分别设置有基底层3以及基底层5。
由此，不仅能够使基材1与第二被膜4的紧贴性优异，还能够使第二被膜4与第一被膜2的紧贴性优异，另外，能够更加有效地缓和施加于钟表用部件10上的冲击，并能够使钟表用部件10的耐久性进一步优异。另外，能够使第二被膜4的表面42平滑化，另外，能够实施作为钟表用部件10整体的微妙的色调的调节，从而能够更加可靠地使钟表用部件10的审美性优异。
基底层5也可以包含Ti以外的成分。
但是，基底层5中的Ti以外的成分的含有率优选为，在质量百分比2.0％以下，更加优选为，在质量百分比1.0％以下，进一步优选为，在质量百分比0.5％以下。
尤其，基底层5中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率(在包括多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)，优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
基底层5的厚度优选为，在0.01μm以上且1.0μm以下，更加优选为，在0.02μm以上且0.5μm以下，进一步优选为，在0.03μm以上且0.3μm以下。
由此，能够使第二被膜4与第一被膜2的紧贴性、冲击缓和的功能进一步优异，并使钟表用部件10的耐久性进一步优异，并且，能够使钟表用部件10的生产率更加优异，并能够更加有效地抑制钟表用部件10的生产成本。另外，能够更加适当地实施第二被膜4的表面的平滑化、作为钟表用部件10整体的微妙的色调的调节。
基底层5的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为，干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为基底层5的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与第二被膜4等的紧贴性特别优异的基底层5。其结果为，能够使钟表用部件10的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为基底层5的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使应当形成的基底层5比较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，在提高钟表用部件10的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层5的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层5的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层5的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，在2kW以上且15kW以下，更加优选为，在6kW以上且12kW以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层5的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-180V以上且-70V以下，更加优选为，在-150V以上且-90V以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层5的情况下，阴极真空喷镀时的基材1的温度优选为，在150℃以上且250℃以下，更加优选为，在180℃以上且220℃以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜2。
基底层5例如也可以为在表面上施加了镜面加工(研磨加工)等的表面加工的基底层。
由此，能够使基底层5的表面状态设为更加平滑，并能够使钟表用部件10的表面(第一被膜2的表面22)的状态更加平滑。其结果为，能够更加切实地将第一被膜2的表面22的表面积增加率调节为所述范围内的值。
第五实施方式
接下来，对第五实施方式的钟表用部件进行说明。
图5为示意性地表示本发明的钟表用部件的第五实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式之间的不同点为中心而进行说明，并省略有关相同事项的说明。
在本实施方式的钟表用部件10中，在基材1的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)3、第二被膜4、基底层(第二基底层)5、第一被膜2、以及涂布层6，所述基底层(第一基底层)3由包含Ti的材料构成，所述第二被膜4由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成，所述基底层(第二基底层)5由包含Ti的材料构成，第一被膜2以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成，涂布层6由包含含氟有机硅化合物的材料构成。换言之，在第一被膜2的外表面侧，除了设置有由包含含氟有机硅化合物的材料构成的涂布层6以外，与前文所述的第四实施方式相同。
由此，能够更加有效地防止因污物的附着而产生的审美性的降低。另外，即使在污物附着的情况下，也能够更加容易地去除该污物。因此，能够在较长的期间内在各种各样的环境下进一步适当地保持优异的审美性。另外，通过具有由包含含氟有机硅化合物的材料构成的涂布层6，从而不仅提高了防污性，还提高了手感、防水性等。另外，由于含氟有机硅化合物对作为钟表用部件10整体的外观造成的影响较小，因此，能够更加可靠地使钟表用部件10的审美性优异。
作为含氟有机硅化合物的具体例，可列举出CF3(CF2)2C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)4C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)8C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)10C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)12C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)14C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)16C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)18C2H4Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C2H4Si(OC2H5)3、CF3(CF2)8C2H4Si(OC2H5)3、CF3(CF2)6C2H4SiCl3、CF3(CF2)8C2H4SiCl3、CF3(CF2)6C3H6Si(OCH3)3、CF3(CF2)8C3H6Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C3H6Si(OC2H5)3、CF3(CF2)8C3H6Si(OC2H5)3、CF3(CF2)6C3H6SiCl3、CF3(CF2)8C3H6SiCl3、CF3(CF2)6C4H8Si(OCH3)3、CF3(CF2)8C4H8Si(OCH3)3、CF3(CF2)6C4H8Si(OC2H5)3、CF3(CF2)8C4H8Si(OC2H5)3、CF3(CF2)6C2H4Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CF2)8C2H4Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CF2)6C2H4Si(CH3)Cl2、CF3(CF2)8C2H4Si(CH3)Cl2、CF3(CF2)6C2H4Si(C2H5)(OC2H5)2、CF3(CF2)8C2H4Si(C2H5)(OC2H5)2。
另外，作为含氟有机硅化合物，还可以适当地使用含氨基的化合物。
作为含氨基的含氟有机硅化合物，例如，可列举出C9F19CONH(CH2)3Si(OC2H5)3、C9F19CONH(CH2)3SiCl3、C9F19CONH(CH2)3Si(CH3)Cl2、C9F19CONH(CH2)NH(CH2)Si(OC2H5)3、C9F19CONH(CH2)5CONH(CH2)Si(OC2H5)3、C8F17SO2NH(CH2)5CONH(CH2)Si(OC2H5)3、C3F7O(CF(CF3)CF2O)2-CF(CF3)-CONH(CH2)Si(OC2H5)3、C3F7O(CF(CF3)CF2O)m’-CF(CF3)-CONH(CH2)Si(OCH3)3(在此，m’为1以上的整数)。
另外，作为含氟有机硅化合物，例如，也可以使用Rf’(CH2)2SiCl3、Rf’(CH2)2Si(CH3)Cl2、(Rf’CH2CH2)2SiCl2、Rf’(CH2)2Si(OCH3)3、Rf’CONH(CH2)3Si(OC2H5)3、Rf’CONH(CH2)2NH(CH2)3Si(OC2H5)3、Rf’SO2N(CH3)(CH2)2CONH(CH2)3Si(OC2H5)3、Rf’(CH2)2OCO(CH2)2S(CH2)3Si(OCH3)3、Rf’(CH2)2OCONH(CH2)2Si(OC2H5)3、Rf’COO-Cy(OH)-(CH2)2Si(OCH3)3、Rf’(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH3)3、以及Rf’(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH2CH2OCH3)3等。在上述的各式中，Cy为环己烷残基，Rf’为碳数4以上且16以下的聚氟烷基。
作为构成涂布层6的含氟有机硅化合物，尤其是，优选为，由下式(1)或下式(2)表示的化合物。
化学式1
式(1)中，Rf 1表示全氟烷基。X表示溴、碘或氢。Y表示氢或低级烷基，Z表示氟或三氟甲基。R1表示可加水分解的基，R2表示氢或惰性的1价的烃基。a、b、c、d、e为0或1以上的整数，且a+b+c+d+e为至少1以上，由a、b、c、d、e代表的各重复单位的存在顺序在式中并不被限定。f为0、1或2。g为1、2或3。h为1以上的整数。
化学式2
式(2)中，Rf 2包括由式：“-(CkF2k)O-”表示的単位，表示具有未支化的直链状的全氟聚亚烷基醚结构的2价的基。并且，式：“-(CkF2k)O-”中的k为1以上且6以下的整数。R3为碳原子数1以上且8以下的1价烃基，W为加水分解性基或卤原子。p为0、1或2，n为1以上且5以下的整数。m以及r为2或3。
涂布层6的厚度优选为，在0.01μm以上且1.0μm以下，更加优选为，在0.02μm以上且0.5μm以下，进一步优选为，在0.03μm以上且0.3μm以下。
如以上那样的涂布层6能够应用于所述第一实施方式～第三实施方式中的任意一个中，并发挥同样的效果。
第六实施方式
接下来，对第六实施方式的钟表用部件进行说明。
图6为示意性地表示本发明的钟表用部件的第六实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式之间的不同点为中心而进行说明，并省略有关相同事项的说明。
钟表用部件110具备基材101和第一被膜102，所述第一被膜102由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。
而且，在以具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜为标准的情况下的、利用SIMS(二次离子质谱法)而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度在160count/sec以上且300count/sec以下。
通过这样的结构，而能够提供具有优异的审美性(尤其，具有适度的光泽感，同时呈现出亮度并不过高从而不刺眼的印象的具有高档感的外观)、优异的耐腐蚀性、且优异的耐磨性的钟表用部件110。尤其是，即使不将贵金属作为主要材料来使用，也能够获得如上所述的优异的外观。另外，即使在作为基材101而使用由各种材料构成的部件的情况下，也能够使作为钟表用部件110整体的审美性等优异，基材101的选择范围较宽。另外，如上所述的第一被膜102的结构材料为难以产生过敏的问题的材料。另外，即使在第一被膜102的厚度较薄的情况下，由于能够获得优异的审美性，因此，能够抑制钟表用部件110的制造成本，并能够使钟表用部件110的生产率优异。
尤其是，通过利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度为所述范围内的值，从而具有适度的光泽感，并且呈现出亮度并不过高从而不刺眼的印象的具有高档感的外观，进而钟表用部件110的审美性变得特别优异。
另外，通过利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度为所述范围内的值，从而与氧的平均信号强度过小的情况(平均信号强度小于160count/sec，尤其，在150count/sec以下的情况)相比，第一被膜102如不动态膜那样，化学的稳定性变得优异，进而钟表用部件110在较长的期间内能够获得稳定的外观。
与此相对，在未满足如上所述的条件的情况下，无法获得如上所述的优异的效果。
例如，当第一被膜102中的Cr的含有率小于所述下限值时，耐腐蚀性、耐摩擦性、耐磨性变得不充分。
另外，当第一被膜102中的Cr的含有率超过所述上限值时，审美性降低，无法获得具有高档感的光泽感。
另外，第一被膜102中的Mo的含有率小于所述下限值时，耐摩擦性、耐磨性变得不充分。
另外，第一被膜102中的Mo的含有率超过所述上限值时，审美性降低，无法获得具有高档感的光泽感。
另外，作为第一被膜102，当代替由包含Co、Cr以及Mo的合金构成的被膜而使用由Pt等的贵金属材料构成的被膜时，耐摩擦性、耐磨性变得明显较低。
另外，当利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度过小时，虽然并不是钟表用部件110的审美性变差，但亮度会变得过高，从而给人以华美的印象，进而无法获得不刺眼的印象的具有高档感的外观。另外，第一被膜102的结构材料的化学的稳定性降低，钟表用部件110在较长期间内难以获得稳定的外观。
另外，当利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度过大时，亮度变得不充分，无法获得充分的光泽度，从而钟表用部件110的审美性降低。
利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度为，表示第一被膜102中的氧含有率与上述标准的氧含有率相比而高出何种程度的指标。可以称为，该值越大，则氧含有率越高。
而且，由于如上所述设为标准的膜(标准样品)具有特定的组成，因此，通过根据标准样品而对第一被膜102中的氧的平均信号强度进行评价，从而能够定量地对第一被膜102中的氧含有率进行评价。
标准样品只要为具有如上所述的组成、厚度的样品即可，但优选为，利用磁控管阴极真空喷镀装置，在Ar气体流量：100ccm、环境压力：0.3Pa、功率：5kW、偏置电压：-80V、基材温度：160℃的条件下制造出的样品。由此，提高了标准样品中的氧含有率的可靠性，即使在不同的装置或不同的时间、不同的地方制作标准样品，也能够使这些标准样品之间的氧含有率的偏差变得极小。能够更加提高数值的可靠性。
标准样品为，具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜。标准样品的组成能够通过对阴极真空喷镀的目标物的组成进行调节，从而适当地进行控制。并且，在标准样品中，除了这些成分之外也可以包括不可避免地混入的成分等杂质(其他成分)。虽然标准样品中的其他的成分的含有率(在将多个元素作为其他的成分而包含的情况下，为这些成分的总和)足够低，但具体而言，优选为，在2000ppm以下，更加优选为，在1000ppm以下，进一步优选为，在500ppm以下。
另外，标准样品只要为利用磁控管阴极真空喷镀装置而在Ar气体流量：100ccm、环境压力：0.3Pa、功率：5kW、偏置电压：-80V、基材温度：160℃的条件下制造出的样品即可，但标准样品的制造时(阴极真空喷镀时)的包含氧原子的气体的流量优选为，在5ccm以下，环境中的包含氧原子的气体的分压优选为，在10-5Pa以下。
另外，磁控管阴极真空喷镀装置的腔室尺寸并不被特别地进行限定，但优选为，内径在1000mm以上且1500mm以下，高度在750mm以上且1500mm以下。
作为可以用于标准样品的制造中的磁控管阴极真空喷镀装置，例如，可列举出ProChina公司制的AS14G等。
标准样品优选为，利用与在构成本实施方式所涉及的钟表用部件110的第一被膜102的形成中所使用的装置相同的装置而制造出的样品。
由此，提高了有关第一被膜102的氧的平均信号强度的数值的可靠性。
例如，通过第一被膜102的形成后的后处理(例如，氧化处理、还原处理等)、第一被膜102的形成时的环境的条件的调节等，从而能够适当地形成满足如上所述的氧的平均信号强度的条件的第一被膜102。
基材
基材101具有作为对第一被膜102等进行支承的支承体的功能。
基材101为与基材1相同的结构材料。在结构材料中，基材101可以为金属材料，尤其是，优选为，由包含不锈钢、Ti的至少一方的材料构成。
由此，能够获得具有高强度、高耐腐蚀性的基材101，并且，能够使与第一被膜102等的紧贴性更加优异，并能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。另外，在第一被膜102的厚度较薄的情况等下，能够给作为钟表用部件110整体的外观带来适当的影响，并能够更加切实地使作为钟表用部件110整体的审美性优异。另外，由于即使在使第一被膜102的厚度较薄的情况下，也能够获得充分优异的审美性，因此，从钟表用部件110的生产成本的抑制等的观点来看，是有利的。
作为Ti以及不锈钢，与上述实施方式相同。
基材101中的不锈钢以及Ti的含有率优选为，在质量百分比95％以上，更加优选为，质量百分比99％以上。
由此，更加显著地发挥了如前文所述的效果。
基材101优选为，贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率足够低，基材101中的贵金属元素的含有率(在包含多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
由此，即使不将贵金属作为主要材料来使用，能够更加显著地发挥能够获得优异的外观的效果。
基材101既可以在各个部位中具有均匀的组成的，也可以具有组成不同的部位。例如，基材101可以为具有基部、和覆盖该基部并具有与该基部不同的组成的至少一层的膜的部件、或由组成倾斜地发生变化的倾斜材料(例如，在厚度方向上组成倾斜地变化的倾斜材料等)构成的部件等。
基材101的形状、大小并不被特别地进行限定，通常根据钟表用部件110的形状、大小而被确定。
基材101例如可以为在表面上实施了镜面加工(研磨加工)、折痕加工、无光面加工等的表面加工的部件。另外，在基材101上，也可以设置有文字、数字、标记、模样等的凹凸图案。
由此，例如，能够使钟表用部件110的表面的光泽程度具有变化，并能够进一步提高钟表用部件110的审美性。另外，由于后文详述的各种膜(例如，第一被膜102)一般较薄，因此，与在该膜上实施镜面加工(研磨加工)的情况相比，在基材101上实施了镜面加工(研磨加工)的情况下，易于加工，从而能够降低不良产品的发生率。
尤其是，通过实施镜面加工(研磨加工)，从而能够使基材101的表面状态更加平滑，由此，能够使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)的状态更加平滑。
另外，通过实施粗面化处理(粗面化加工)，从而能够适当地使基材101的表面状态变粗糙，由此，钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)能够更加切实地满足如后文详细所述的表面积增加率的条件。另外，能够使基材101与第一被膜102等的紧贴性更加优异，从而能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。
尤其是，通过组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)，从而钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)能够满足如后文详述的表面积增加率的条件。
在组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)的情况下，优选为，在镜面加工(研磨加工)后实施粗面化处理(粗面化加工)。
镜面加工例如能够采用众所周知的研磨方法而进行，例如，能够采用抛光(织物)研磨、滚筒研磨、其他的机械研磨等。
作为粗面化处理，例如，可列举出等离子蚀刻处理或喷砂处理等。
第一被膜
第一被膜102由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。
由这样的材料构成的第一被膜102即使不包含贵金属，也可以呈现出具有不刺眼的印象的高档感的光泽感，并具有优异的审美性優。另外，还具有优异的耐腐蚀性、耐摩擦性、耐磨性等。
第一被膜102以Co为主要成分，但第一被膜102中的Co的含有率优选为，在质量百分比55％以上且质量百分比69％以下，更加优选为，在质量百分比62％以上且质量百分比68％以下，进一步优选为，在质量百分比63％以上且质量百分比67％以下。
由此，能够以更高的水平同时实现审美性、以及耐摩擦性、耐磨性。
第一被膜102中的Cr的含有率只要在质量百分比26％以上且质量百分比30％以下即可，但优选为，在质量百分比26.2％以上且质量百分比29.8％以下，更加优选为，在质量百分比26.4％以上且质量百分比29.6％以下，进一步优选为，在质量百分比26.6％以上且质量百分比29.4％以下。
由此，能够使审美性更加优异，同时，使耐腐蚀性、耐摩擦性、耐磨性特别优异。
第一被膜102中的Mo的含有率只要在质量百分比5％以上且质量百分比7％以下即可，但优选为，在质量百分比5.2％以上且质量百分比6.8％以下，更加优选为，在质量百分比5.3％以上且质量百分比6.7％以下，进一步优选为，在质量百分比5.4％以上且质量百分比6.6％以下。
由此，能够以更高的电平同时实现审美性、以及耐摩擦性、耐磨性。
第一被膜102可以包含除上述成分以外的成分。作为这样的成分，例如，可列举出Si、Mn、N、Fe、C、Ni、Ti、Al、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir等。
但是，第一被膜102中的Co、Cr以及Mo以外的成分的含有率(在包含多种成分的情况下，为这些成分的含有率之和)优选为，在质量百分比3.0％以下，更加优选为，在质量百分比2.0％以下，进一步优选为，在质量百分比1.5％以下。
但是，第一被膜102中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率(在包含多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
由此，即使不将贵金属作为主要材料来使用，也将更加显著地发挥能够获得优异的外观的效果。
第一被膜102既可以在各个部位中具有均匀的组成，也可以具有组成不同的部位。例如，例如，第一被膜102可以由层叠了多个层的层叠体、或组成倾斜地发生变化的倾斜材料(例如，在厚度方向上组成倾斜地发生变化的倾斜材料等)构成等。由此，例如，能够在获得由设置如上所述的第一被膜102而得到的效果的同时，使第一被膜102与基材101等的紧贴性更加优异，并能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。
在利用了所述标准样品的情况下的、利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度只要在160count/sec以上且300count/sec以下即可，优选为，在170count/sec以上且290count/sec以下，更加优选为，在180count/sec以上且285count/sec以下，进一步优选为，在190count/sec以上且280count/sec以下。
由此，钟表用部件110的审美性变得更加优异。
另外，第一被膜102的表面122(与基材101对置的第一面121的相反侧的第二面122)并不被特别地进行限定，但在相对于该表面122而实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率优选为，在1.5％以上且5.0％以下，更加优选为，在1.6％以上且4.5％以下，进一步优选为，在1.7％以上且4.0％以下。
由此，钟表用部件110具有更加不刺眼的印象的更加高档感的外观，审美性变得更加优异。另外，钟表用部件110更加难以受到损伤等，并且，假设即使在受到损伤等的情况下，该损伤等也不易醒目，从而能够抑制审美性的降低。
有关第一被膜102的表面122的表面积增加率的定义与有关上述的第一被膜2的表面22的表面积增加率相同，因此，省略其说明。
例如，通过对钟表用部件110的各种制造条件进行调节，从而能够满足如上所述的表面积增加率的条件。更加具体而言，例如，通过对第一被膜102的成膜条件、第一被膜102的形成后的表面加工(例如，研磨加工或粗面化加工等)、第一被膜102的成膜前的母材(基材101)的表面状态的调节等，从而能够对上述表面积增加率的条件进行调节。
第一被膜102的厚度优选为，在0.02μm以上且2.0μm以下，更加优选为，在0.04μm以上且1.8μm以下，进一步优选为，在0.07μm以上且1.6μm以下。
由此，能够在抑制钟表用部件110的生产成本的同时，使作为钟表用部件110整体的光泽感、审美性、和耐摩擦性、耐磨性等更加优异。另外，能够更加有效地防止第一被膜102的非本意的剥离等，从而能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。
第一被膜102的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为，干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为第一被膜102的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与基材101等的紧贴性特别优异的第一被膜102。其结果为，能够使钟表用部件110的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为第一被膜102的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使在应该形成的第一被膜102较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，即使在提高钟表用部件110的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜102的情况下，阴极真空喷镀时的包含氧原子的气体的流量优选为，在1ccm以上且50ccm以下，更加优选为，在2ccm以上且30ccm以下。
由此，能够通过满足前述的条件而容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度进行调节。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜102的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，能够通过满足前述的条件而容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度进行调节。另外，在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜102的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，能够通过满足前述的条件而容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度进行调节。另外，在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，能够更加适合地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜102的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，在0.1kW以上且1.8kW以下，更加优选为，在0.3kW以上且1.4kW以下。
由此，能够通过满足前述的条件而容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜102的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-150V以上且-30V以下，更加优选为，在-120V以上且-50V以下。
由此，能够通过满足前述的条件而容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第一被膜102的情况下，阴极真空喷镀时的基材101的温度优选为，在100℃以上且210℃以下，更加优选为，120℃以上且190℃以下。
由此，能够通过满足前述的条件而容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度进行调节。另外，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
例如，也可以对通过如上所述的方法形成的第一被膜102实施氧化处理、还原处理。
由此，能够通过满足前述的条件而容易地且切实地对利用SIMS而被测量的第一被膜102中的氧的平均信号强度进行调节。
氧化处理例如能够通过暴露于氧气、臭氧气体等的氧化性气体(尤其是，暴露于进行了加热的条件下的酸化性气体)等，从而实施。
还原处理例如能够通过暴露于氢气等的还原性气体(尤其是，暴露于进行了加热的条件下的的还原性气体)等，从而实施。
另外，第一被膜102例如也可以为，在表面上实施了镜面加工(研磨加工)、粗面化处理(粗面化加工)等的表面加工的被膜。
由此，能够使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)更加切实地满足如前文所述的表面积增加率的条件。
尤其是，通过组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)，从而能够进一步切实地使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)满足如前文所述的表面积增加率的条件。
在组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)的情况下，优选为，在镜面加工(研磨加工)后，实施粗面化处理(粗面化加工)。由此，可以更加切实地获得如前文所述的效果。
有关第一被膜102的表面122(第一被膜102被目视确认的一侧的面，即在使用钟表用部件110时观察者的视点侧的面)中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的L*优选为，在70.0以上且78.4以下，更加优选为，在72.0以上且78.3以下，进一步优选为，在74.0以上且78.2以下。
由此，能够使钟表用部件110的光泽感更加适当，并使钟表用部件110的审美性变得更加优异。
并且，在L*的测量中，作为光源，能够使用在JIS Z 8720中所规定的D65的光源。另外，L*的测量时的视野角度能够设为2°。
另外，有关第一被膜102的表面122(第一被膜102被目视确认的一侧的面，即在使用钟表用部件110时观察者的视点侧的面)的JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的a*优选为，在-2.0以上且3.0以下，更加优选为，在-1.5以上且2.5以下，进一步优选为，在-1.0以上且2.0以下。
另外，有关第一被膜102的表面122(第一被膜102被目视确认的一侧的面，即在使用钟表用部件110时观察者的视点侧的面)中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的b*优选为，在-1.0以上且10.0以下，更加优选为，在0.0以上且9.0以下，进一步优选为，在1.0以上且8.0以下。
通过满足这样的条件，从而使钟表用部件110的审美性变得特别优异。
并且，在a*、b*的测量中，作为光源，能够使用在JIS Z 8720中所规定的D65的光源。另外，a*、b*的测量时的视野角度能够设为2°。
钟表用部件110中，只要是构成钟表的部件，则可以为任意的部件，但优选为，在使用钟表时可从外部进行目视确认的部件，具体而言，可列举出防风玻璃、外壳、表圈、后盖、表带(包括表带的链节、表带的调节结构、卡扣、带扣、表带·手环拆装机构等)、表盘、钟表用针、转子、表把(例如，螺纹锁定式表把等)、按钮、表盘环、分型板等，其中，优选为外壳或表带。
由于这些部件(钟表用部件)给钟表整体的外观带来较大影响，因此，通过在这些部件上应用本发明，从而能够使作为钟表整体的审美性更加优异。另外，这些部件在使用钟表等时通常为露出于外部的部件，另外，也是易于与皮肤接触的部件，在各种部件中，尤其强烈要求具有优异的耐摩擦性、耐磨性、耐过敏性(难以产生过敏反应)等。因此，通过在这些部件上应用本发明，从而能够更加显著的发挥由如前文所述的本发明所产生的效果。
第七实施方式
接下来，对第七实施方式的钟表用部件进行说明。
图7为示意性地表示本发明的钟表用部件的第七实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式之间的不同点为中心而进行说明，并省略有关相同事项的说明。
本实施方式的钟表用部件110中，在基材101的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)103、以及第一被膜102，所述基底层(第一基底层)103由包含Ti的材料构成，所述第一被膜2由以Co为主要成分、且以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr并以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。换言之，在本实施方式的钟表用部件110中，在基材101与第一被膜102之间设置有由包含Ti的材料构成的基底层103。
由此，能够使基材101与第一被膜102的紧贴性更加优异，并能够缓和施加于钟表用部件120上的冲击，并能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。另外，能够使基材101的表面平滑化，另外，能够实施作为钟表用部件110整体的微妙色调的调节，从而能够更加切实地使钟表用部件110的审美性更加优异。
基底层103也可以包含Ti以外的成分。
但是，基底层103中的Ti以外的成分的含有率优选为在质量百分比2.0％以下，更加优选为，在质量百分比1.0％以下，进一步优选为质量百分比0.5％以下。
尤其是，基底层103中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率在包含多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
基底层103的厚度优选为，在0.01μm以上且1.0μm以下，更加优选为，在0.02μm以上且0.5μm以下，进一步优选为，在0.03μm以上且0.3μm以下。
由此，能够使基材101与第一被膜102的紧贴性或冲击缓和的功能进一步优异，从而能够使钟表用部件110的耐久性进一步优异，并且，能够使钟表用部件110的生产率更加优异，从而能够更加有效地对钟表用部件110的生产成本进行抑制。另外，例如，即使在省略或简化了针对基材101的研磨加工、粗面化加工等的表面加工的情况下，也能够容易地将第一被膜102的表面122的表面积增加率调节为所述范围内的值。
基底层103的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为，干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为基底层103的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与基材101等的紧贴性特别优异的基底层103。其结果为，能够使钟表用部件110的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为基底层103的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使应当形成的基底层103较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，即使在提高钟表用部件110的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层103的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加优选地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层103的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层103的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，在0.1kW以上且1.8kW以下，更加优选为，在0.3kW以上且1.4kW以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层103的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-150V以上且-30V以下，更加优选为，在-120V以上且-50V以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层103的情况下，阴极真空喷镀时的基材101的温度优选为，在100℃以上且210℃以下，更加优选为，在120℃以上且190℃以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加优选地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
基底层103例如也可以为，在表面上施加了镜面加工(研磨加工)、粗面化处理(粗面化加工)等的表面加工的基底层。
由此，能够使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)满足如前文所述的表面积增加率的条件。
尤其是，通过组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)，从而能够使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)进一步满足如前文所述的表面积增加率的条件。
在组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)的情况下，优选为，在镜面加工(研磨加工)后，实施粗面化处理(粗面化加工)。由此，能够更加切实地获得如前文所述的效果。
第八实施方式
接下来，对第八实施方式的钟表用部件进行说明。
图8为示意性地表示本发明的钟表用部件的第八实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式之间的不同点为中心而进行说明，并省略有关相同事项的说明。
在本实施方式的钟表用部件110中，在基材101的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)103、第二被膜104以及第一被膜102，所述基底层(第一基底层)103由包含Ti的材料构成，第二被膜104由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成，第一被膜102由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr且以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。换言之，在基材101与第一被膜102之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜104以外，与前文所述的第七实施方式相同。
由此，能够使钟表用部件110的硬度更高，从而能够使钟表用部件110的耐压痕性(附着压痕的难度)等更加优异，能够更加有效地缓和应力，从而能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。另外，能够适当地进行色调的调节(特别是对光泽度的调节)。
第二被膜104也可以包括TiC、TiCN以外的成分。
但是，第二被膜104中的TiC、TiCN以外的成分的含有率优选为，在质量百分比2.0％以下，更加优选为，在质量百分比1.0％以下，进一步优选为，在质量百分比0.5％以下。
尤其是，第二被膜104中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率(在包含多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
第二被膜104既可以为在各个部位中具有均匀的组成，并具有组成不同的部位。例如，第二被膜104也可以为层叠了多个层的层叠体等。
尤其是，第二被膜104优选为，具有在厚度方向上组成倾斜地变化的部位。
由此，例如，能够获得钟表用部件110的耐压痕性、耐摩擦性、耐磨性等的提高、或者色调的调节(特别是光泽度的调节)等的由设置第二被膜104而产生的效果，同时能够使第二被膜104与邻接于该第二被膜104的部位(在图示的结构中，为基底层103以及第一被膜102)的紧贴性更加优异，另外，能够更加有效地防止第二被膜104的破坏(层内剥离等)，并能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。
优选为，第二被膜104具有朝向该第二被膜104的表面142侧而C以及N的含有率之和降低的区域。
由此，例如，能够获得钟表用部件110的耐压痕性、耐摩擦性、耐磨性等、或者色调的调节(特别是光泽度的调节)等的由设置第二被膜104而产生的效果，同时能够使第二被膜104与邻接于该第二被膜104的部位(在图示的结构中，为基底层103以及第一被膜102)的紧贴性更加优异，另外，能够更加有效地防止第二被膜104的破坏(层内剥离等)，从而能够使钟表用部件110的耐久性更加优异。
第二被膜104也可以具有C以及N的含有率之和从该第二被膜104的厚度方向中央部朝向一方的表面侧而降低的区域，但是，优选为，具有C以及N的含有率之和从该第二被膜104的厚度方向中央部分别朝向两面侧而降低的区域。
由此，能够使第二被膜104与设置于第二被膜104的两面侧的部位(在图示的结构中，为基底层103以及第一被膜102)的紧贴性特别优异，从而能够使钟表用部件110的耐久性特别优异。
当将在第二被膜104中C以及N的含有率之和成为最大的部位(例如，第二被膜104的厚度方向中央部附近)处的C以及N的含有率设为X1[质量％]，将在第二被膜104中C以及N的含有率之和成为最小的部位(例如，表面142或与其相反的一侧的表面)处的C以及N的含有率设为X2[质量％]时，优选为，满足1≤X1-X2≤20的关系，更加优选为，满足2≤X1-X2≤15的关系，进一步优选为，3≤X1-X2≤12的关系。
由此，更加显著的发挥了如前文所述的效果。
第二被膜104的厚度优选为，在0.05μm以上且4.0μm以下，更加优选为，在0.1μm以上且2.0μm以下，进一步优选为，在0.2μm以上且1.5μm以下。
由此，能够使钟表用部件110的硬度进一步提高，使钟表用部件110的耐压痕性(附着压痕的难度)等更加优异，从而使钟表用部件110的耐久性进一步优异，并且，能够使钟表用部件110的生产率更加优异，从而更加有效地抑制钟表用部件110的生产成本。另外，能够更加适当地进行作为钟表用部件110整体的微妙的色调的调节。
另外，由于设置有基底层103，因此，基材101与第二被膜104的紧贴性变得更加优异，因此，钟表用部件110的耐久性变得特别优异。
第二被膜104的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为，干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为第二被膜104的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与基底层103等的紧贴性特别优异的第二被膜104。其结果为，能够使钟表用部件110的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为第二被膜104的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使应当形成的第二被膜104较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，即使在提高钟表用部件110的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜104的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜104的情况下，阴极真空喷镀时的C2H2气体流量优选为，在10ccm以上且50ccm以下，加优选为，在15ccm以上且30ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜104的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜104的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，在2.0kW以上且6kW以下，更加优选为，在2.5kW以上且5.8kW以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜104的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-150V以上且-30V以下，更加优选为，在-120V以上且-50V以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成第二被膜104的情况下，阴极真空喷镀时的基材101的温度优选为，在100℃以上且210℃以下，更加优选为，在120℃以上且190℃以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
第二被膜104例如也可以为，在表面上施加了镜面加工(研磨加工)、粗面化处理(粗面化加工)等的表面加工的被膜。
由此，能够使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)更加切实地满足如前文所述的表面积增加率的条件。
尤其，通过组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)，从而能够使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)进一步切实地满足如前文所述的表面积增加率的条件。
在组合实施镜面加工(研磨加工)和粗面化处理(粗面化加工)的情况下，优选为，在镜面加工(研磨加工)后，实施粗面化处理(粗面化加工)。由此，可以更加切实地获得如前文所述的效果。
如以上那样的第二被膜104能够应用于所述第六实施方式中，并发挥同样的效果。
第九实施方式
接下来，对第九实施方式的钟表用部件进行说明。
图9为示意性地表示本发明的钟表用部件的第九实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式之间的不同点为中心而进行说明，并省略有关相同事项的说明。
在本实施方式的钟表用部件110中，在基材101的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)103、第二被膜104、基底层(第二基底层)105、以及第一被膜102，所述基底层(第一基底层)103由包含Ti的材料构成，所述第二被膜104由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成，所述基底层(第二基底层)105由包含Ti的材料构成，第一被膜102以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr并以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成。换言之，在本实施方式中，在基材101与第一被膜102之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜104，在该第二被膜104的两面侧分别设置有基底层103以及基底层105。
由此，不仅能够使基材101与第二被膜104的紧贴性优异，还能够使第二被膜104与第一被膜102的紧贴性优异，另外，能够更加有效地缓和施加于钟表用部件110上的冲击，从而能够使钟表用部件110的耐久性进一步优异。另外，能够使第二被膜104的表面142平滑化，另外，能够进行作为钟表用部件110整体的微妙的色调的调节，从而能够更加切实地使钟表用部件110的审美性优异。
基底层105也可以包含Ti以外的成分。
但是，基底层105中的Ti以外的成分的含有率优选为，在质量百分比2.0％以下，更加优选为，在质量百分比1.0％以下，进一步优选为，在质量百分比0.5％以下。
尤其是，基底层105中的贵金属元素(Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os)的含有率(在包括多种贵金属元素的情况下，为这些贵金属元素的含有率的总和)，优选为，在质量百分比1.0％以下，更加优选为，在质量百分比0.5％以下，进一步优选为，在质量百分比0.1％以下。
基底层105的厚度优选为，在0.01μm以上且1.0μm以下，更加优选为，在0.02μm以上且0.5μm以下，进一步优选为，在0.03μm以上且0.3μm以下。
由此，能够使第二被膜104与第一被膜102的紧贴性、冲击缓和的功能进一步优异，从而使钟表用部件110的耐久性进一步优异，并且，能够使钟表用部件110的生产率更加优异，从而能够更加有效地抑制钟表用部件110的生产成本。另外，能够更加适当地实施第二被膜104的表面的平滑化、或作为钟表用部件110整体的微妙的色调的调节。
基底层105的形成方法并不被特别地进行限定，例如，可列举出旋涂、浸渍、刷毛涂敷、喷雾涂覆、静电涂覆、电沉积涂覆等的涂覆、电解电镀、浸渍电镀、非电解电镀等的湿式电镀法、或热CVD、等离子CVD、激光CVD等的化学蒸镀法(CVD)、真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀、激光消融等的干式电镀法(气相成膜法)、热喷涂等，但优选为，干式电镀法(气相成膜法)。
通过作为基底层105的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而能够切实地形成具有均匀的膜厚、均质且与第二被膜104等的紧贴性特别优异的基底层105。其结果为，能够使钟表用部件110的审美性、耐久性特别优异。
另外，通过作为基底层105的形成方法而应用干式电镀法(气相成膜法)，从而即使应当形成的基底层105比较薄，也能够使膜厚的非本意的偏差足够小。因此，在提高钟表用部件110的可靠性上，也是有利的。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层105的情况下，阴极真空喷镀时的Ar气体流量优选为，在50ccm以上且150ccm以下，更加优选为，在80ccm以上且120ccm以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层105的情况下，阴极真空喷镀时的环境压力优选为，在0.1Pa以上且2.5Pa以下，更加优选为，在0.2Pa以上且1.0Pa以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层105的情况下，阴极真空喷镀时的阴极真空喷镀装置的功率优选为，0.1kW以上且1.8kW以下，更加优选为，在0.3kW以上且1.4kW以下。
由此，即使在省略或简化研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层105的情况下，阴极真空喷镀时的偏置电压优选为，在-150V以上且-30V以下，更加优选为，在-120V以上且-50V以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
在通过阴极真空喷镀而形成基底层105的情况下，阴极真空喷镀时的基材101的温度优选为，在100℃以上且210℃以下，更加优选为，在120℃以上且190℃以下。
由此，即使在省略或简化了研磨处理等的后处理的情况下，也能够更加适当地形成满足如前文所述的表面积增加率的条件的第一被膜102。
基底层105例如也可以为，在表面上施加了镜面加工(研磨加工)、粗面化处理(粗面化加工)等的表面加工的基底层。
由此，能够使钟表用部件110的表面(第一被膜102的表面122)更加可靠地满足如前文所述的表面积增加率的条件。
第十实施方式
接下来，对第十实施方式的钟表用部件进行说明。
图10为示意性地表示本发明的钟表用部件的第十实施方式的剖视图。在以下的说明中，以与前文所述的实施方式之间的不同点为中心进行说明，并省略有关相同事项的说明。
在本实施方式的钟表用部件110中，在基材101的表面上，依次层叠了基底层(第一基底层)103、第二被膜104、基底层(第二基底层)105、第一被膜102、以及涂布层106，所述基底层(第一基底层)103由包含Ti的材料构成，第二被膜104由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成，所述基底层(第二基底层)5由包含Ti的材料构成，所述第一被膜2以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr并以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成，涂布层106由包含含氟有机硅化合物的材料构成。换言之，在第一被膜102的外表面侧，除了设置有由包含含氟有机硅化合物的材料构成的涂布层106以外，与前文所述的第九实施方式相同。
由此，能够更加有效地防止因污物的附着而产生的审美性的降低。另外，即使在污物附着的情况下，也能够更加容易地去除该污物。因此，能够在较长的期间内在各种各样的环境下进一步适当地保持优异的审美性。另外，通过具有由包含含氟有机硅化合物的材料构成的涂布层106，从而不仅提高了防污性，还提高了手感、防水性等。另外，由于含氟有机硅化合物对作为钟表用部件110整体的外观造成的影响较小，因此，能够更加可靠地使钟表用部件110的审美性优异。
作为含氟有机硅化合物的具体例，由于与上述的第五实施方式相同，因此，省略说明。
另外，作为含氟有机硅化合物，也能够适当地使用含氨基的化合物。
作为含有氨基的含氟有机硅化合物、以及含氟有机硅化合物，由于与上述的第五实施方式相同，因此，省略说明。
作为构成涂布层106的含氟有机硅化合物，由于与上述实施方式的涂布层6相同，因此省略说明。
涂布层106的厚度优选为，在0.01μm以上且1.0μm以下，更加优选为，在0.02μm以上且0.5μm以下，进一步优选为，0.03μm以上且0.3μm以下。
如以上那样的涂布层106能够应用于所述第六实施方式～第八实施方式中的任意一个，并发挥同样的效果。
钟表
接下来，对本发明的钟表的优选的实施方式进行说明。
图11示意性地表示本发明的钟表的优选的实施方式(手表)的局部剖视图。
本实施方式的手表(钟表)W10具备主体(外壳)W22、后盖W23、表圈(边缘)W24、玻璃板(防风玻璃)W25。另外，在外壳W22内，收纳有未图示的机芯(例如，表盘、附带针)。
在主体W22中，嵌入并固定有上条柄轴管W26，在该上条柄轴管W26内以能够旋转的方式被插入有表把W27的轴部W271。
主体W22和表圈W24通过塑料衬垫W28而被固定在一起，表圈W24和玻璃板W25通过塑料衬垫W29而被固定在一起。
另外，后盖W23被嵌合(或螺合)于主体W22上，环状的橡胶衬垫(后盖衬垫)W40在压缩状态下被插入至这些接合部(密封部)W50中。通过该结构，而密封部W50被液密密封，从而获得了防水功能。
在表把W27的轴部W271的外周上形成有槽W272，环状的橡胶衬垫(表把衬垫)W30被嵌合于该槽W272内。橡胶衬垫W30紧贴于上条柄轴管W26的内周面，并被压缩在该内周面与槽W272的内表面之间。通过该结构，从而使表把W27与上条柄轴管W26之间被液密密封，从而可以获得防水功能。并且，在对表把W27进行旋转操作时，橡胶衬垫W30与轴部W271一起旋转，并紧贴于上条柄轴管W26的内周面的同时在圆周方向上进行滑动。
作为本发明的钟表的实施方式的手表W10的结构部件中的至少一个由如前文所述的本发明的钟表用部件构成。换言之，本发明的钟表具备本发明的钟表用部件。
由此，能够提供具备具有优异的审美性(尤其，具有亮度较高、明亮的外观、或适度的光泽感，同时呈现出亮度并不过高而具有不刺眼的印象的高档感的外观)、优异的耐腐蚀性、以及优异的耐摩擦性、耐磨性的钟表用部件的钟表W10。
以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但本发明并未限定于这些实施方式。
例如，在本发明的钟表用部件以及钟表中，各部的结构能够置换为发挥同样的功能的任意的结构，另外，还能够附加任意的结构。
例如，钟表用部件也可以具备由Ti以外的材料构成的基底层，或者具备由含氟有机硅化合物以外的材料构成的涂布层等。
另外，在前述的实施方式中，作为具有基底层的钟表用部件的方式，对具有一层或两层基底层的结构进行了说明，但钟表用部件也可以具备3层以上的基底层。另外，在前文所述的实施方式中，作为具有第二被膜的钟表用部件的方式，对具有一层第二被膜的结构进行了说明，但钟表用部件也可以具备两层以上的第二被膜。
另外，钟表用部件也可以具备多套基底层与第二被膜。
另外，在所述实施方式中，以使用钟表用部件等时的观察者的视点为钟表用部件的设置有第一被膜的面侧的情况为中心而进行说明，但，也在基材由具有透明性的材料构成的情况等下，观察者的视点也可以在相反的面侧。换言之，也可以经由基材而对第一被膜进行目视确认。在这样的情况下，优选为，作为第一被膜的观察者侧的表面的与基材对置的一侧的表面满足如前文所述的表面积增加率的条件。
实施例
接下来，对本发明的具体的实施例进行说明。并且，在以下的说明中的阴极真空喷镀使用作为磁控管阴极真空喷镀装置的ProChina公司制的AS14G(内径：1250mm；高度：1000mm)而实施。
[1]钟表用部件的制造
实施例1
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成第一被膜的一侧的表面)上实施抛光研磨，并在对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为0.7％。
接下来，清洗实施了该研磨处理的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成由CoCrMo合金构成的厚度0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，含氧原子的气体的流量被设定为0ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的含氧原子的气体的分压被设为0Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-120V，基材温度被设定为200℃。
此后，在被加热至350℃的还原性气体即氢气(压力：10Pa)中使第一被膜暴露1分钟，从而获得作为钟表用部件的手表用外壳。
利用与在上述的钟表用部件的制造中所使用的装置相同的磁控管阴极真空喷镀装置(ProChina公司制、AS14G)，并在Ar气体流量：100ccm、环境压力：0.3Pa、功率：5kW、偏置电压：-80V、基材温度：160℃的条件下，将具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜作为标准样品来制造。可获得的标准样品中的除了Co、Cr、Mo、C以及Ar之外的成分的含有率在500ppm以下。在将该膜作为标准样品来使用的情况下的、利用SIMS而被测量的第一被膜中的氧的平均信号强度为20count/sec。
另外，第一被膜的表面(第二面)中，实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率为0.7％。
并且，使用了原子力显微镜的测量是，针对改变了样品表面的测量视野的5处的5μm角的区域而进行的，针对各自区域，而求出表面积增加率，将作为这些表面增加率的平均值的表面积增加率设为该表面的表面积增加率。作为原子力显微镜，使用了数字仪器(Digital Instruments)公司制的“纳米内窥镜IIIa”。关于以下的各个实施例以及各个比较例，均相同。
实施例2
作为基材，使用作为未实施研磨处理的铁氧体类不锈钢的SUS444制的材料(形成第一被膜的一侧的表面的在实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并将第一被膜形成时的Ar气体流量设为100ccm、将包含氧原子的气体的流量设为0ccm、将环境压力设为0.3Pa、将包含环境中的氧原子的气体的分压设为10-5Pa以下、将功率设为9kW、将偏置电压设为-120V、将基材温度设为200℃，并且在被形成的第一被膜的表面上实施抛光研磨，除此之外，以与所述实施例1同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
实施例3
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成基底层、第一被膜的一侧的表面)实施抛光研磨，并对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为0.7％。
接下来，清洗被实施了该研磨处理的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成由Ti构成的厚度为0.1μm的基底层(第一基底层)。基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基底层的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度为0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，含氧原子的气体的流量被设定为0ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的含氧原子的气体的分压被设定为10-5Pa以下，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-120V，基材温度被设定为200℃。
此后，在被加热至350℃的还原性气体即氢气(压力：10Pa)中使第一被膜暴露1分钟，从而可以获得作为钟表用部件的手表用外壳。
实施例4
作为基材，使用未实施研磨处理的SUS444制的材料(供形成基底层、第一被膜的一侧的表面的由原子力显微镜而进行的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并对在第一被膜的形成时作为目标物而使用的CoCrMo合金的组成进行变更，并将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体的流量设为0ccm，将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体的分压设为10-5Pa以下，将功率设为9kW，将偏置电压设为-120V，将基材温度设为200℃，并且在所形成的第一被膜的表面上实施抛光研磨，除此之外，以与所述实施例3同样的方式制造钟表用部件(手表用外壳)。
实施例5
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成基底层、第二被膜、第一被膜的一侧的表面)实施抛光研磨，并对该表面进行由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为0.7％。
接下来，清洗被实施了该研磨处理的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成了由Ti构成的厚度为0.1μm的基底层。基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基底层的表面上形成了由TiC构成的厚度为0.35μm的第二被膜。第二被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，C2H2气体流量被设定为22ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第二被膜的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度为0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，含氧原子的气体的流量被设定为0ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的含氧原子的气体的分压被设定为10-5Pa以下，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-120V，基材温度被设定为200℃。
此后，在被加热至350℃的还原性气体即氢气(压力：10Pa)中使第一被膜暴露1分钟，从而获得作为钟表用部件的手表用外壳。
实施例6
作为基材，使用未实施研磨处理的SUS444制的材料(供形成基底层、第二被膜、第一被膜的一侧的表面的由原子力显微镜而实施的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并对在第一被膜的形成时作为目标物而使用的CoCrMo合金的组成进行变更，并将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体的流量设为0ccm，将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体的分压设为10-5Pa以下，将功率设为9kW、将偏置电压设为-120V，将基材温度设为200℃，并且在所形成的第一被膜的表面上实施抛光研磨，除此之外，以与所述实施例5同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
实施例7
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜的一侧的表面)实施抛光研磨，并对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为0.7％。
接下来，清洗被实施了该研磨处理的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成了由Ti构成的厚度为0.1μm的第一基底层。第一基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第一基底层的表面上形成了由TiC构成的厚度为0.50μm的第二被膜。第二被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。另外，此时，将C2H2气体的流量从10ccm上升至20ccm，此后，通过将C2H2气体的流量从20ccm下降至10ccm，从而将第二被膜作为由在厚度的中心部附近C以及N的含有率之和较大、C以及N的含有率之和的值朝向两表面而逐渐减小的倾斜材料构成的被膜而形成。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第二被膜的表面上形成了由Ti构成的厚度为0.05μm的第二基底层。第二基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，气氛压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第二基底层的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度为0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，含氧原子的气体的流量被设定为0ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的含氧原子的气体的分压被设定为10-5Pa以下，基材温度被设定为200℃，并通过使功率随着时间的经过而从1kW向9kW发生变化，另外，使偏置电压随着时间的经过而从-80V向-120V发生变化，从而使第一被膜作为组成、膜质在厚度方向上倾斜地发生变化的倾斜材料来形成。
此后，在被加热至350℃的还原性气体即氢气(压力：10Pa)中使第一被膜暴露1分钟，从而获得作为钟表用部件的手表用外壳。
实施例8
作为基材，使用未实施研磨处理的SUS444制的材料(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜的一侧的表面的实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并对各膜(各层)的成膜时间进行变更，在将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm、将包含氧原子的气体的流量设为0ccm、将环境压力设为0.3Pa、将环境中的包含氧原子的气体的分压设为10-5Pa以下、将功率设为9kW、将偏置电压设为-120V、将基材温度设为200℃，并在被形成的第一被膜的表面上实施抛光研磨，从而使成为如表1所示的结构，除此之外，以与所述实施例7同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
实施例9
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜、涂布层的一侧的表面)实施抛光研磨，对该表面而实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为0.7％。
接下来，清洗被实施了该研磨处理的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成了由Ti构成的厚度为0.1μm的第一基底层。第一基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第一基底层的表面上形成了由TiC构成的厚度为0.35μm的第二被膜。第二被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，C2H2气体流量被设定为22ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第二被膜的表面上形成了由Ti构成的厚度为0.05μm的第二基底层。第二基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为200℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第二基底层的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度为0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，含氧原子的气体的流量被设定为0ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的含氧原子的气体的分压被设定为10-5Pa以下，功率被设定为9kW，偏置电压被设定为-120V，基材温度被设定为200℃。
此后，在被加热至350℃的还原性气体即氢气(压力：10Pa)中使第一被膜暴露1分钟。
接下来，以如下的方式，在第一被膜的表面上形成由含氟有机硅化合物构成的厚度为0.03μm的涂布层，从而获得了作为钟表用部件的手表用外壳。
即，首先，将以通过氟类溶剂(信越化学工业公司制、FR稀料)而对含氟有机硅化合物(信越化学工业公司制、KY-130(3))进行稀释以使成为固形量为质量百分比3％的方式进行调制而成的物质，在事前填充有不锈钢钢丝(日本スチールウール(Steel Wool)公司制、#0、线径0.025mm)0.5g的容器(上方被开放的圆筒形的铜制容器、内径16mm×内高度6mm)中填充1.0g，在120℃干燥1小时。接下来，将该铜制容器与形成有第一基底层、第二被膜、第二基底层以及第一被膜的基材一起放置于真空蒸发装置内，并将装置内设为0.01Pa的压力之后，以成为的成膜速度(蒸镀速度)的方式从铜制容器中使含氟有机硅化合物蒸发。作为加热源，使用了钼化合物制阻力加热板。
实施例10
作为基材，使用未实施研磨处理的SUS444制的材料(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜、涂布层一侧的表面的实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体的流量设为0ccm，将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体的分压设为10-5Pa以下，将功率设为9kW，将偏置电压设为-120V，将基材温度设为200℃，并且在所形成的第一被膜的表面上实施抛光研磨，除此之外，以与所述实施例9同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例1
代替由CoCrMo合金构成的第一被膜，而形成了由Pt构成的膜，除此之外，以与所述实施例11同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例2～5
对第一被膜的形成时作为目标物而使用的CoCrMo合金的组成进行变更之外，以与所述实施例1同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例6
将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体的流量设为10ccm，将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体的分压设为0.03Pa，将功率设为9kW，将偏置电压设为-120V，将基材温度设为200℃，并且未对通过阴极真空喷镀而形成的第一被膜实施氢气的暴露，除此之外，以与所述实施例1同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例7
将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体的流量设为10ccm，将气氛压力设为0.3Pa，将气氛中的包含氧原子的气体的分压设为0.03Pa，将功率设为9kW，将偏置电压设为-120V，将基材温度设为200℃，并且未对通过阴极真空喷镀而形成的第一被膜实施氢气的暴露，除此之外，以与所述实施例5同样的方式制造钟表用部件(手表用外壳)。
实施例11
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成第一被膜的一侧的表面)实施抛光研磨，而且，此后，实施了等离子蚀刻处理。对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为2.0％。
接下来，清洗被实施了该表面加工(抛光研磨以及等离子蚀刻处理)的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，包含氧原子的气体(O2气体)的流量被设定为10ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压被设定为0.03Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
由此，获得作为钟表用部件的手表用外壳。
利用与在上述的钟表用部件的制造中所使用的装置相同的磁控管阴极真空喷镀装置(ProChina公司制、AS14G)，在Ar气体流量：100ccm、包含氧原子的气体的流量：0ccm、环境压力：0.3Pa、环境中的包含氧原子的气体的分压：0Pa、功率：5kW、偏置电压：-80V、基材温度：160℃的条件下，将具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜作为标准样品来制造。可获得的标准样品中的Co、Cr、Mo、C以及Ar以外的成分的含有率为500ppm以下。在将该膜作为标准样品来使用的情况下的、利用SIMS而被测量的第一被膜中的氧的平均信号强度为270count/sec。
另外，第一被膜的表面(第二面)中，在实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％。
实施例12
作为基材，使用未实施表面加工(研磨加工、粗面化加工等)的作为铁氧体类不锈钢的SUS444制的材料(供形成第一被膜的一侧的表面的实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm、将包含氧原子的气体(O2气体)的流量设为10ccm，将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压设为0.03Pa，将功率设为1kW，将偏置电压设为-80V、将基材温度设为160℃，并且在所形成的第一被膜的表面上依次实施抛光研磨以及等离子蚀刻处理，除此之外，以与所述实施例11同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
实施例13
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成基底层、第一被膜的一侧的表面)实施抛光研磨，而且，此后，实施了等离子蚀刻处理。对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为2.0％。
接下来，清洗被实施了该表面加工(抛光研磨以及等离子蚀刻处理)的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成由Ti构成的厚度0.1μm的基底层(第一基底层)。基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过阴极真空喷镀，而在基底层的表面上形成由CoCrMo合金构成的厚度0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，包含氧原子的气体(O2气体)的流量被设定为10ccm，气氛压力被设定为0.3Pa，气氛中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压被设定为0.03Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
由此，获得作为钟表用部件的手表用外壳。
实施例14
作为基材，使用未实施表面加工(研磨加工、粗面化加工等)的SUS444制的材料(供形成基底层、第一被膜的一侧的表面的实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体(O2气体)的流量设为10ccm，将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压设为0.03Pa，将功率设为1kW，将偏置电压设为-80V，将基材温度设为160℃，并且在所形成的第一被膜的表面上依次实施抛光研磨以及等离子蚀刻处理，除此之外，以与所述实施例13同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
实施例15
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成基底层、第二被膜、第一被膜的一侧的表面)实施抛光研磨，而且，此后，实施了等离子蚀刻处理。对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为2.0％。
接下来，清洗被实施了该表面加工(抛光研磨以及等离子蚀刻处理)的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成由Ti构成的厚度0.1μm的基底层。基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基底层的表面上形成了由TiC构成的厚度为0.35μm的第二被膜。第二被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，C2H2气体流量被设定为22ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为5kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过阴极真空喷镀，从而在第二被膜的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，包含氧原子的气体(O2气体)的流量被设定为10ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压被设定为0.03Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
由此，获得作为钟表用部件的手表用外壳。
实施例16
作为基材，使用未实施表面加工(研磨加工、粗面化加工等)的SUS444制的材料(供形成基底层、第二被膜、第一被膜的一侧的表面的实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并对第一被膜的形成时作为目标物而使用的CoCrMo合金的组成进行变更，将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体(O2气体)的流量设为10ccm，将环境压力设为0.3Pa、将环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压设为0.03Pa，将功率设为1kW，将偏置电压设为-80V，将基材温度设为160℃，并且在所形成的第一被膜的表面上依次实施抛光研磨以及等离子蚀刻处理，除此之外，以与所述实施例15同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
实施例17
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜的一侧的表面)实施抛光研磨，而且，此后，实施了等离子蚀刻处理。对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为2.0％。
接下来，清洗被实施了该表面加工(抛光研磨以及等离子蚀刻处理)的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成由Ti构成的厚度0.1μm的第一基底层。第一基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过阴极真空喷镀，从而在第一基底层的表面上形成由TiC构成的厚度为0.50μm的第二被膜。第二被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为5kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。另外，此时，通过将C2H2气体的流量从10ccm上升至20ccm，此后，将C2H2气体的流量从20ccm下降至10ccm，从而将第二被膜作为由在厚度的中心部附近C以及N的含有率之和较大、且C以及N的含有率之和的值朝向两表面而逐渐减小的倾斜材料构成的被膜而形成。
接下来，通过阴极真空喷镀，从而在第二被膜的表面上形成了由Ti构成的厚度为0.05μm的第二基底层。第二基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过阴极真空喷镀，而在第二基底层的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，包含氧原子的气体(O2气体)的流量被设定为10ccm，环境压力被设定为0.3Pa，环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压被设定为0.03Pa，基材温度被设定为160℃，使功率随着时间的变化从0.3kW变化为1kW，另外，通过使偏置电压随着时间的经过而从-40V向-80V变化，从而将第一被膜作为在厚度方向上组成、膜质倾斜地发生变化的倾斜材料而形成。
由此，获得作为钟表用部件的手表用外壳。
实施例18
作为基材，使用未实施表面加工(研磨加工、粗面化加工等)的SUS444制的材料(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜的一侧的表面的实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，并且，对各膜(各层)的成膜时间进行变更，将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体(O2气体)的流量设为10ccm，将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压设为0.03Pa，将功率设为1kW，将偏置电压设为-80V，将基材温度设为160℃，并且通过在所形成的第一被膜的表面上依次实施抛光研磨以及等离子蚀刻处理从而成为如表1所示的结构，除此之外，以与所述实施例17同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
实施例19
首先，准备与手表用外壳对应的形状的纯Ti制的基材。
接下来，对基材的表面(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜、涂布层的一侧的表面)实施抛光研磨，而且，此后，实施了等离子蚀刻处理。对该表面实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下，以平坦面为标准时的表面积增加率为2.0％。
接下来，清洗被实施了该表面加工(抛光研磨以及等离子蚀刻处理)的基材。作为基材的清洗，首先，进行30秒钟的碱电解脱脂，接下来，进行10秒钟的中和、10秒钟的水洗、10秒钟的纯水清洗。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在基材的表面上形成由Ti构成的厚度为0.1μm的第一基底层。第一基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过阴极真空喷镀，从而在第一基底层的表面上形成由TiC构成的厚度为0.35μm的第二被膜。第二被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，C2H2气体流量被设定为22ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为5kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过阴极真空喷镀，从而在第二被膜的表面上形成了由Ti构成的厚度为0.05μm的第二基底层。第二基底层的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，环境压力被设定为0.3Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，通过进行阴极真空喷镀，从而在第二基底层的表面上形成了由CoCrMo合金构成的厚度为0.5μm的第一被膜。第一被膜的形成时的Ar气体流量被设定为100ccm，含氧原子的气体(O2气体)的流量被设定为10ccm，气氛压力被设定为0.3Pa，功率被设定为1kW，偏置电压被设定为-80V，基材温度被设定为160℃。
接下来，以如下的方式，在第一被膜的表面上形成由含氟有机硅化合物构成的厚度为0.03μm的涂布层，从而获得了作为钟表用部件的手表用外壳。
即，首先，将以通过氟类溶剂(信越化学工业公司制、FR稀料)而对含氟有机硅化合物(信越化学工业公司制、KY-130(3))进行稀释以使成为固形量为质量百分比3％的方式进行了调制的物质，在事前填充有不锈钢钢丝(日本スチールウール(Steel Wool)公司制、#0、线径0.025mm)0.5g的容器(上方被开放的圆筒形的铜制容器、内径16mm×内高度6mm)中填充1.0g，并在120℃干燥1小时。接下来，将该铜制容器与形成有第一基底层、第二被膜、第二基底层以及第一被膜的基材一起放置于真空蒸发装置内，在将装置内设为0.01Pa的压力之后，以成为的成膜速度(蒸镀速度)的方式从铜制容器中使含氟有机硅化合物蒸发。作为加热源，使用了钼化合物制阻力加热板。
实施例20
作为基材，使用未实施表面加工(研磨加工、粗面化加工等)的SUS444制的材料(供形成第一基底层、第二被膜、第二基底层、第一被膜、涂布层一侧的表面的实施了由原子力显微镜而进行的测量的情况下的、以平坦面为标准时的表面积增加率为2.5％的材料)，将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体(O2气体)的流量设为10ccm、将环境压力设为0.3Pa，将环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压设为0.03Pa，将功率设为1kW，将偏置电压设为-80V、将基材温度设为160℃，并且在所形成的第一被膜的表面上依次实施抛光研磨以及等离子蚀刻处理，除此之外，以与所述实施例19同样的方式制造钟表用部件(手表用外壳)。
比较例8
除了代替由CoCrMo合金构成的第一被膜，而形成由Pt构成的膜之外，以与所述实施例11同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例9～12
除了对在第一被膜的形成时作为目标物而使用的CoCrMo合金的组成进行变更之外，以与所述实施例11同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例13
将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm、将包含氧原子的气体的流量设为0ccm、将环境压力设为0.3Pa、将环境中的包含氧原子的气体的分压设为0Pa、将功率设为9kW、将偏置电压设为-120V、将基材温度设为200℃，除此之外，以与所述实施例11同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例14
将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm、将包含氧原子的气体的流量设为0ccm、将环境压力设为0.3Pa、将环境中的包含氧原子的气体的分压设为0Pa、将功率设为9kW、将偏置电压设为-120V、将基材温度设为200℃，除此之外，以与所述实施例15同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
比较例15
将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm、将包含氧原子的气体(O2气体)的流量设为50ccm、将环境压力设为0.4Pa、将环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压设为0.15Pa、将功率设为1kW、将偏置电压设为-70V、将基材温度设为150℃，并且将通过阴极真空喷镀而形成的第一被膜在被加热至200℃的氧化性气体即氧气(压力：10Pa)中暴露1分钟，除此之外，以与所述实施例11同样的方式制造钟表用部件(手表用外壳)。
比较例16
将第一被膜的形成时的Ar气体流量设为100ccm，将包含氧原子的气体(O2气体)的流量设为50ccm，将气氛压力设为0.4Pa，将环境中的包含氧原子的气体(O2气体)的分压设为0.15Pa，将功率设为1kW，将偏置电压设为-70V，将基材温度设为150℃，并且在被加热至200℃的氧化性气体即氧气(压力：10Pa)中使通过阴极真空喷镀而形成的第一被膜暴露1分钟，除此之外，以与所述实施例15同样的方式制造了钟表用部件(手表用外壳)。
表1以及表2中汇总地表示各个实施例以及各个比较例的钟表用部件的结构。并且，关于比较例1、8，将由Pt构成的膜的条件表示于第一被膜的栏中。另外，关于各个实施例以及各个比较例中的任意一个，第一被膜中的表1、2所示的以外的成分的含有率(多个成分的含有率之和)均在质量百分比0.1％以下。另外，关于构成钟表用部件的各个部位，表中所示的成分的含有率均在质量百分比99.9％以上。
表1
表2
[2]评价
[2-1]由目视而产生的外观评价
关于在所述各个实施例以及各个比较例中制造的各个钟表用部件，进行由目视而实现的观察，根据以下的标准，进行评价。
实施例1～10、以及比较例1～7
A：呈现出富于高档感、并具有较高的光泽感的极其优异的外观。
B：呈现出富于高档感、并具有较高的光泽感的非常优异的外观。
C：呈现出具有高档感、并具有较高的光泽感的优异的外观。
D：呈现出光泽感不充分而稍微变差的外观。
E：呈现出光泽感较低而变差的外观。
实施例10～20、以及比较例8～16
A：呈现出具有适度的光泽感的同时亮度并不过高而具有不刺眼的印象的高档感的极其优异的外观。
B：呈现出具有适度的光泽感的同时亮度并不过高而具有不刺眼的印象的高档感的非常优异的外观。
C：呈现出具有适度的光泽感的同时亮度并不过高而具有不刺眼的印象的高档感的优异的外观。
D：呈现出光泽感不充分、或亮度过高而稍微变差的外观。
E：呈现出光泽感较低、或亮度极高而变差的外观。
[2-2]由分光测色计所实施的外观评价
[2-2-1]关于L*的评价
关于在所述各个实施例以及各个比较例中制造出的钟表用部件，实施使用了分光测色计(Konica Minolta Business Solutions Japan Co.，Ltd.公司制、CM-5)的测量，根据以下的标准而进行评价。
实施例1～10、以及比较例1～7
A：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在82.0以上且88.0以下的范围内。
B：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在80.0以上且88.5以下的范围内(但是，除了A的范围之外)。
C：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在78.5以上且89.0以下的范围内(但是，除了A以及B的范围)。
D：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在74.0以上且小于78.5的范围内。
E：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*大于89.0或小于74.0的值。
实施例10～20、以及比较例8～16
A：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在74.0以上且78.2以下的范围内。
B：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在72.0以上且78.3以下的范围内(但是，除了A的范围之外)。
C：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在70.0以上且78.4以下的范围内(但是，除了A以及B的范围之外)。
D：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在68.0以上且80以下的范围内(但是，除了A、B以及C的范围之外)。
E：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，L*在68.0以上且80以下的范围外的值。
并且，作为分光测色计的光源，使用在JIS Z 8720中所规定的D65的光源，以视野角度：2°进行测量。
[2-2-2]关于a*以及b*的评价
关于在所述各个实施例以及各个比较例中制造出的钟表用部件，实施使用了分光测色计(Konica Minolta Business Solutions Japan Co.，Ltd.公司制、CM-5)的测量，根据以下的标准，进行评价。
A：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，a*在-1.0以上且2.0以下且b*在1.0以上且8.0以下的范围内。
B：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，a*在-1.5以上且2.5以下且b*在0.0以上且9.0以下的范围内(但是，除了A的范围之外)。
C：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，a*在-2.0以上且3.0以下且b*在-1.0以上且10.0以下的范围内(但是，除了A以及B的范围之外)。
D：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，a*在-3.0以上且4.0以下且b*在-2.0以上且11.0以下的范围内(但是，除了A、B以及C的范围之外)。
E：在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中，a*在-3.0以上且4.0以下且b*在-2.0以上且11.0以下的范围之外。
并且，作为分光测色计的光源，使用了在JIS Z 8720中所规定的D65的光源，并以视野角度：2°进行测量。
[2-3]耐腐蚀性评价
在干燥器内加入人工汗，在45℃放置12小时。此后，在干燥器内放入各个钟表用部件，进而在45℃放置。此时，各个钟表用部件配置成，未浸渍于人工汗中。在120小时后，从干燥器中取出各个钟表用部件，使用分光测色计(Konica Minolta Business SolutionsJapan Co.，Ltd.公司制、CM-5)对钟表用部件的色調进行测量，求出实施了所述曝气试验的前后的色差，并根据以下的标准进行评价。
A：色差ΔE小于3。
B：色差ΔE在3以上且小于4。
C：色差ΔE在4以上且小于5。
D：色差ΔE在5以上且小于6。
E：色差ΔE在6以上。
并且，作为分光测色计的光源，使用了在JIS Z 8720中所规定的D65的光源，并以视野角度：2°进行测量。
[2-4]耐擦伤性/耐磨性评价
关于在所述各个实施例以及各个比较例中制造的各钟表用部件，实施如下所示的试验，并对耐擦伤性和耐磨性进行评价。
使用SUGA磨损试验机(Suga Test Instruments Co.，Ltd公司制、NUS-ISO-1)，在负载：200gf的条件下，通过目视，而对使各个钟表用部件的表面磨损了总计300DS(DoubleStroke，双行程)之后的各钟表用部件的外观进行观察，根据以下的标准而对这些部件的外观进行评价。并且，上述试验利用住友EM公司制、抛光薄膜(氧化铝、粒度：30μm)而实施。
A：在表面上完全看不到损伤的发生。
B：在表面上几乎看不到损伤的发生。
C：在表面上稍微能看到损伤的发生。
D：在表面上醒目地看到损伤的发生。或者，看到被膜(第一被膜、涂布层等)的剥离。
[2-5]耐压痕性评价
关于所述各个实施例以及各个比较例中制造的各个钟表用部件，通过实施如下所示的试验，从而对耐压痕性进行评价。
使不锈钢制的球(直径1cm)从高度100cm的位置朝向各个钟表用部件的特定的部位落下，实施对钟表用部件表面的凹部的大小(凹痕的直径)的测量，并根据以下的标准进行评价。
A：凹痕的直径小于0.5mm，或者未求出凹痕。
B：凹痕的直径在0.5mm以上且小于1.0mm。
C：凹痕的直径在1.0mm以上且小于1.5mm。
D：凹痕的直径在1.5mm以上。
表3以及表4中汇总表示这些结果。
表3
表4
根据表3、表4可知，在本发明中，能够获得优异的结果。另外，实施了基于由国际皮肤学会制定的ICDRG的标准的斑片试验的情况下，在本发明的钟表用部件中，未确认到过敏反应。另外，实施了基于JCWA-T003、EN1811的由人工汗而进行的溶解实验的情况下，未被确认到导致过敏反应的成分的溶解。与此相对，在比较例中，无法获得满意的结果。另外，在具有由包含含氟有机硅化合物的材料构成的涂布层的实施例9、10、19、20的钟表用部件中，防污性、手感等特别优异。
除了将基材的形状变更为表带之外，以与所述各个实施例以及各个比较例同样的方式制造钟表用部件(表带)，实施与前述内容同样的评价的情况下，可以获得与前述内容同样的结果。
另外，除了将第二被膜设为代替TiC而由TiCN构成的被膜而形成之外，以与所述实施例5～10以及实施例15～20同样的方式制造钟表用部件，实施与前述内容同样的评价，能够获得与前述内容同样的结果。
另外，使用在所述各个实施例以及各个比较例中制造的钟表用部件，组装如图11所示的手表。在这些手表中，实施与前述内容同样的评价，能够获得与前述内容同样的结果。
符号说明
10、110…钟表用部件；1、101…基材；2、102…第一被膜；21、121…第一面；22、122…第二面(表面)；3、103…基底层(第一基底层)；4、104…第二被膜；42、142…表面；5、105…基底层(第二基底层)；6、106…涂布层；W10…手表(钟表)；W22…主体(外壳)；W23…后盖；W24…表圈(边缘)；W25…玻璃板(防风玻璃)；W26…上条柄轴管；W27…表把；W271…轴部；W272…槽；W28…塑料衬垫；W29…塑料衬垫；W30…橡胶衬垫(表把衬垫)；W40…橡胶衬垫(后盖衬垫)；W50…接合部(密封部)。

Claims (15)

1.一种钟表用部件，其特征在于，具备：
基材；以及
第一被膜，其由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成，
在以具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜为标准的情况下的利用二次离子质谱法而被测量的所述第一被膜中的氧的平均信号强度在0count/sec以上且150count/sec以下。
2.一种钟表用部件，其特征在于，具备：
基材；以及
第一被膜，其由以Co为主要成分并以质量百分比26％以上且质量百分比30％以下的含有率包含Cr、以质量百分比5％以上且质量百分比7％以下的含有率包含Mo的材料构成，
在以具有Co：质量百分比62.8％、Cr：质量百分比28.2％、Mo：质量百分比6.0％、C：质量百分比1.5％、Ar：质量百分比1.5％的组成的厚度1.0μm的膜为标准的情况下的利用二次离子质谱法而被测量的所述第一被膜中的氧的平均信号强度在160count/sec以上且300count/sec以下。
3.如权利要求1所述的钟表用部件，其中，
所述第一被膜被目视确认的一侧的面中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的L*在78.5以上且89.0以下。
4.如权利要求2所述的钟表用部件，其中，
所述第一被膜被目视确认的一侧的面中，在JIS Z 8729中所规定的L*a*b*显示的色度图中的L*在70.0以上且78.4以下。
5.如权利要求3或4所述的钟表用部件，其中，
所述基材由包含不锈钢、Ti的至少一方的材料构成。
6.如权利要求3或4所述的钟表用部件，其中，
在所述基材与所述第一被膜之间，至少设置有一层由包含Ti的材料构成基底层。
7.如权利要求3或4所述的钟表用部件，其中，
在所述基材与所述第一被膜之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜。
8.如权利要求6所述的钟表用部件，其中，
在所述基材与所述第一被膜之间，设置有由包含TiC、TiCN的至少一方的材料构成的第二被膜，
在所述第二被膜的两面侧，分别设置有所述基底层。
9.如权利要求7所述的钟表用部件，其中，
所述第二被膜具有在厚度方向上组成倾斜地变化的部位。
10.如权利要求7所述的钟表用部件，其中，
所述第二被膜具有C以及N的含有率之和随着朝向该第二被膜的表面侧而降低的区域。
11.如权利要求10所述的钟表用部件，其中，
所述第二被膜在该第二被膜的两面侧分别具有所述区域。
12.如权利要求3或4所述的钟表用部件，其中，
所述第二被膜的厚度在0.05μm以上且4.0μm以下。
13.如权利要求3或4所述的钟表用部件，其中，
所述第一被膜的厚度在0.02μm以上且2.0μm以下。
14.如权利要求3或4所述的钟表用部件，其中，
钟表用部件为外壳或表带。
15.一种钟表，其特征在于，
具备权利要求1至14的任一项所述的钟表用部件。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115336845A (zh) * 2021-05-14 2022-11-15 北京小米移动软件有限公司 终端设备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4252862A (en) * 1977-06-10 1981-02-24 Nobuo Nishida Externally ornamental golden colored part
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EP1459644B1 (en) * 2001-12-28 2011-03-30 Citizen Holdings Co., Ltd. Decorative article having white coating and method for manufacture thereof
US8932437B2 (en) * 2011-06-03 2015-01-13 Frederick Goldman, Inc. Multi-coated metallic products and methods of making the same
CN103060617A (zh) * 2012-12-26 2013-04-24 北京融点金属有限公司 一种高耐磨性能的钴铬钼合金
CH707950B1 (fr) * 2013-04-24 2017-11-30 Lvmh Swiss Mft Sa Procédé de fabrication d'une pièce d'horlogerie, par exemple une corne, et montre comprenant une telle pièce.
JP6862793B2 (ja) * 2016-11-24 2021-04-21 セイコーエプソン株式会社 時計用部品および時計

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