CN108588813A - 一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液及其制备方法 - Google Patents

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温立哲
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Abstract

本发明公开了一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，按重量百分比计，包括以下组分：磷酸40％～80％，氧化膜剥离剂3％～15％，光亮剂3％～15％，水5％～30％。本发明的抛光液原料来源广，成本低廉，适合大规模工业生产应用；本发明的电解抛光处理工艺步骤简便，方便快捷，效率高；本发明的抛光液和电解抛光处理工艺可以在室温下直接电解剥离除去铜表面的厚氧化膜，获得光亮的表面。

Description

一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液及其制备方法
技术领域
本发明属于电解抛光液技术领域，具体涉及一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液及其制备方法。
背景技术
电解抛光，是以被抛光件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电化学反应而产生有选择性的阳极溶解，从而达到工件表面除去细微毛刺和光亮度增大的效果。抛光的目的在于除去金属工件表面的毛刺、氧化皮、腐蚀痕、划痕、砂眼、锈及气孔等，使工件表面平整，光滑。
电解抛光的特点是处理后金属表面不存在擦痕、变形金属屑或磨料嵌入金属表面等问题，而且相对于机械抛光来讲，电解抛光能够使金属表面具有良好平整度，制样效率高，效果好，操作方便，有很好的发展空间和应用前景。目前的铜合金的电解抛光技术存在着抛光速度慢，效率低，抛光效果差，抛光之后表面容易出现划痕或/和过腐蚀现象等一系列问题。
目前的铜或铜合金抛光液，需要先要把铜或铜合金的氧化层去除，再进行抛光，而本发明的抛光液和技术方案能同时去除铜或铜合金表面的氧化层和抛光，属于二合一技术。
发明内容
针对现有技术存在的问题，本发明提供了一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液及其制备方法。
本发明采用以下技术方案：
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，按重量百分比计，包括以下组分：
进一步地，所述氧化膜剥离剂按重量百分比计，包括以下组分：
进一步地，所述光亮剂按重量百分比计，包括以下组分：
进一步优选地，所述抛光液按重量百分比计，包括以下组分：
进一步优选地，所述氧化膜剥离剂按重量百分比计，包括以下组分：
进一步优选地，所述光亮剂按重量百分比计，包括以下组分：
进一步优选地，所述有机磺酸盐包括磺基琥珀酸酯、脂肪酸羟基乙烷磺酸钠、芳基或脂肪醇醚磺酸钠、芳基烷烃磺酸钠中的一种或多种。在一些实施例中，所述有机磺酸盐为磺基琥珀酸酯；在一些实施例中，所述有机磺酸盐为脂肪酸羟基乙烷磺酸钠；在一些实施例中，所述有机磺酸盐为芳基或脂肪醇醚磺酸钠；在一些实施例中，所述有机磺酸盐为芳基烷烃磺酸钠。
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液的制备方法，按配比称取各原料，混合均匀即可制得所述抛光液。
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液的应用，将所述抛光液用于对铜或铜合金的电解抛光。
进一步地，所述电解抛光的电流密度为18～45安/平方分米。
本发明的有益效果：
(1)本发明的抛光液原料来源广，成本低廉，适合大规模工业生产应用；
(2)本发明的电解抛光处理工艺步骤简便，方便快捷，抛光速度快，效率高；
(3)本发明的抛光效果好，抛光之后表面不会出现划痕或/和过腐蚀现象；
(4)本发明的抛光液和电解抛光处理工艺可以在室温下直接电解剥离除去铜表面的厚氧化膜，获得光亮的表面。
具体实施方式
为了更好的解释本发明，现结合以下具体实施例做进一步说明，但是本发明不限于具体实施例。
实施例1
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液：
(1)按重量百分比配制氧化膜剥离剂：20％脂肪醇聚氧乙烯醚、20％乙醇、20％草酸、40％水。
称取2公斤脂肪醇聚氧乙烯醚、2公斤乙醇、2公斤草酸、4公斤水，复配制成氧化膜剥离剂。
(2)按重量百分比配制光亮剂：10％明胶、10％烯丙基硫脲、10％有机磺酸盐、70％水。
称取1公斤明胶、1公斤烯丙基硫脲、1公斤有机磺酸盐、7公斤水，混合均匀配制成光亮剂。
(3)按重量百分比配制成抛光液：65％磷酸、10％氧化膜剥离剂、10％光亮剂、15％水。
称取6.5公斤磷酸、1公斤氧化膜剥离剂、1公斤光亮剂、1.5公斤水，混合均匀配制成抛光液，即可用于铜或铜合金的电解抛光。
本实施例抛光液的应用和效果：对激光雕刻铜板进行电解抛光，电流密度为40安/平方分米，在室温下可直接电解剥离除去铜表面的厚氧化膜；氧化膜剥离后，延长抛光时间即可获得镜面光亮的表面。
实施例2
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液：
(1)按重量百分比配制氧化膜剥离剂：15％脂肪醇聚氧乙烯醚、25％乙醇、20％草酸、40％水。
称取1.5公斤脂肪醇聚氧乙烯醚、2.5公斤乙醇、2公斤草酸、4公斤水，复配制成氧化膜剥离剂。
(2)按重量百分比配制光亮剂：10％明胶、15％烯丙基硫脲、5％有机磺酸盐、70％水。
称取1公斤明胶、1.5公斤烯丙基硫脲、0.5公斤有机磺酸盐、7公斤水，混合均匀配制成光亮剂。
(3)按重量百分比配制成抛光液：65％磷酸、10％氧化膜剥离剂、10％光亮剂、15％水。
称取6.5公斤磷酸、1公斤氧化膜剥离剂、1公斤光亮剂、1.5公斤水，混合均匀配制成抛光液，即可用于铜或铜合金的电解抛光。
本实施例抛光液的应用和效果：对激光雕刻铜板进行电解抛光，电流密度为45安/平方分米，在室温下可直接电解剥离除去铜表面的厚氧化膜；氧化膜剥离后，延长抛光时间即可获得镜面光亮的表面。
实施例3
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液：
(1)按重量百分比配制氧化膜剥离剂：25％脂肪醇聚氧乙烯醚、5％乙醇、10％草酸、60％水。
称取2.5公斤脂肪醇聚氧乙烯醚、0.5公斤乙醇、1公斤草酸、6公斤水，复配制成氧化膜剥离剂。
(2)按重量百分比配制光亮剂：5％明胶、10％烯丙基硫脲、5％有机磺酸盐、80％水。
称取0.5公斤明胶、1公斤烯丙基硫脲、0.5公斤有机磺酸盐、8公斤水，混合均匀配制成光亮剂。
(3)按重量百分比配制成抛光液：70％磷酸、10％氧化膜剥离剂、10％光亮剂、10％水。
称取7公斤磷酸、1公斤氧化膜剥离剂、1公斤光亮剂、1公斤水，混合均匀配制成抛光液，即可用于铜或铜合金的电解抛光。
本实施例抛光液的应用和效果：对激光雕刻铜板进行电解抛光，电流密度为38安/平方分米，在室温下可直接电解剥离除去铜表面的厚氧化膜；氧化膜剥离后，延长抛光时间即可获得镜面光亮的表面。
实施例4
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液：
(1)按重量百分比配制氧化膜剥离剂：10％脂肪醇聚氧乙烯醚、2％乙醇、8％草酸、80％水。
称取1公斤脂肪醇聚氧乙烯醚、0.2公斤乙醇、0.8公斤草酸、8公斤水，复配制成氧化膜剥离剂。
(2)按重量百分比配制光亮剂：2％明胶、2％烯丙基硫脲、26％有机磺酸盐、70％水。
称取0.2公斤明胶、0.2公斤烯丙基硫脲、2.6公斤有机磺酸盐、7公斤水，混合均匀配制成光亮剂。
(3)按重量百分比配制成抛光液：80％磷酸、3％氧化膜剥离剂、12％光亮剂、5％水。
称取8公斤磷酸、0.3公斤氧化膜剥离剂、1.2公斤光亮剂、0.5公斤水，混合均匀配制成抛光液，即可用于铜或铜合金的电解抛光。
本实施例抛光液的应用和效果：对激光雕刻铜板进行电解抛光，电流密度为40安/平方分米，在室温下可直接电解剥离除去铜表面的厚氧化膜；氧化膜剥离后，延长抛光时间即可获得镜面光亮的表面。
实施例5
一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液：
(1)按重量百分比配制氧化膜剥离剂：40％脂肪醇聚氧乙烯醚、28％乙醇、2％草酸、30％水。
称取4公斤脂肪醇聚氧乙烯醚、2.8公斤乙醇、0.2公斤草酸、3公斤水，复配制成氧化膜剥离剂。
(2)按重量百分比配制光亮剂：30％明胶、2％烯丙基硫脲、28％有机磺酸盐、40％水。
称取3公斤明胶、0.2公斤烯丙基硫脲、2.8公斤有机磺酸盐、4公斤水，混合均匀配制成光亮剂。
(3)按重量百分比配制成抛光液：80％磷酸、12％氧化膜剥离剂、3％光亮剂、5％水。
称取8公斤磷酸、1.2公斤氧化膜剥离剂、0.3公斤光亮剂、0.5公斤水，混合均匀配制成抛光液，即可用于铜或铜合金的电解抛光。
本实施例抛光液的应用和效果：对激光雕刻铜板进行电解抛光，电流密度为18安/平方分米，在室温下可直接电解剥离除去铜表面的厚氧化膜；氧化膜剥离后，延长抛光时间即可获得镜面光亮的表面。
以上所述仅为本发明的具体实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明作的等效变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围之中。

Claims (10)

1.一种用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，其特征在于，按重量百分比计，包括以下组分：
2.根据权利要求1所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，其特征在于，所述氧化膜剥离剂按重量百分比计，包括以下组分：
3.根据权利要求1所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，其特征在于，所述光亮剂按重量百分比计，包括以下组分：
4.根据权利要求1所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，其特征在于，所述抛光液按重量百分比计，包括以下组分：
5.根据权利要求2所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，其特征在于，所述氧化膜剥离剂按重量百分比计，包括以下组分：
6.根据权利要求3所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，其特征在于，所述光亮剂按重量百分比计，包括以下组分：
7.根据权利要求3所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液，其特征在于，所述有机磺酸盐包括磺基琥珀酸酯、脂肪酸羟基乙烷磺酸钠、芳基或脂肪醇醚磺酸钠、芳基烷烃磺酸钠中的一种或多种。
8.一种根据权利要求1-7中任一项所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液的制备方法，其特征在于，按配比称取各原料，混合均匀即可制得所述抛光液。
9.一种根据权利要求1-7中任一项所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液的应用，其特征在于，将所述抛光液用于对铜或铜合金的电解抛光。
10.根据权利要求9所述的用于铜合金的高速电解除氧化膜抛光液的应用，其特征在于，所述电解抛光的电流密度为18～45安/平方分米。
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