CN108570711A - 一种多晶硅料酸洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种多晶硅料酸洗装置,包括槽盖、酸洗槽、电机、电磁阀、第一耐酸泵、第二耐酸泵和储液箱,所述酸洗槽的上端口罩设有槽盖,且酸洗槽内侧设置有水平的酸洗滚筒,所述酸洗滚筒内设置有螺带,且酸洗滚筒的左右两端分别固定设置有转轴和排料管。本发明通过设置的酸洗滚筒进行不断的翻滚保证多晶硅料与酸溶液的充分接触,保证较好的酸洗效果,并且通过设置的螺带能够通过酸洗滚筒的正反转实现酸洗装置的进出料控制,同时本发明通过在酸洗池内侧底部设置的喷液管以及喷液管设置的对个喷头实现了酸溶液对多晶硅表面的冲刷防止多晶硅表面覆盖杂质,使多晶硅酸洗更彻底。

Description

一种多晶硅料酸洗装置
技术领域
本发明涉及多晶硅料生产技术领域,具体是一种多晶硅料酸洗装置。
背景技术
在多晶硅的生产过程中,多晶硅需要进行酸洗将多晶硅上的杂质去处以保证多晶硅的纯度,而多晶硅的酸洗则需要使用酸洗设备,现有的多晶硅酸洗设备不能保证多晶硅与酸溶液的充分接触,酸洗效果不佳,同时杂质在酸溶液中化学反应后残留的杂质会覆盖在多晶硅的表面造成酸洗不彻底影响多晶硅质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种多晶硅料酸洗装置,以解决现有技术中多晶硅酸洗设备酸洗效果不佳和酸洗不彻底影响多晶硅质量的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种多晶硅料酸洗装置,包括槽盖、酸洗槽、电机、电磁阀、第一耐酸泵、第二耐酸泵和储液箱,所述酸洗槽的上端口罩设有槽盖,且酸洗槽内侧设置有水平的酸洗滚筒,所述酸洗滚筒内设置有螺带,且酸洗滚筒的左右两端分别固定设置有转轴和排料管,所述转轴左端穿过酸洗槽的侧壁且通过齿轮啮合与电机连接,所述排料管与酸洗滚筒内腔连通,且排料管出料口设置有密封盖,所述酸洗槽的内侧底部设置有喷液管,且喷液管进液口通过管道与第一耐酸泵连接,所述第一耐酸泵的进液口通过管道与酸洗槽底部连接,所述酸洗槽的右下角通过管道连接有电磁阀,且电磁阀的出液口通过管道连接有出液箱,所述储液箱的左下角通过管道与第二耐酸泵连接,且第二耐酸泵的出液口通过管道与酸洗槽连接。
优选的,所述储液箱内设置有将上下腔隔开的过滤板,所述过滤板外侧为方形边框,且方形边框中间设置有聚四氟乙烯过滤网。
优选的,所述酸洗滚筒为玻璃钢材料制成的网格状滚筒,且酸洗滚筒内侧的螺带为玻璃钢材料制成的网格状螺旋条带。
优选的,所述喷液管上设置有多个均匀排列的喷头,且喷头内孔略小于喷液管的内径。
优选的,所述槽盖与酸洗槽之间设置有密封圈,所述密封盖与排料管之间设置有密封圈。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:1、本发明通过设置的酸洗滚筒进行不断的翻滚保证多晶硅料与酸溶液的充分接触,保证较好的酸洗效果,并且通过设置的螺带能够通过酸洗滚筒的正反转实现酸洗装置的进出料控制;2、同时本发明通过在酸洗池内侧底部设置的喷液管以及喷液管设置的对个喷头实现了酸溶液对多晶硅表面的冲刷防止多晶硅表面覆盖杂质,使多晶硅酸洗更彻底,并且通过设置的储液箱能够在多晶硅酸洗结束后将酸洗槽内的酸溶液排空,实现酸洗滚筒内的多晶硅上的酸溶液的控液,避免将酸溶液带出造成污染和腐蚀。
附图说明
图1为本发明一种多晶硅料酸洗装置的剖视图。
图2为本发明一种多晶硅料酸洗装置的结构示意图。
图中:1-槽盖、2-酸洗槽、3-转轴、4-电机、5-酸洗滚筒、6-螺带、7-排料管、8-密封盖、9-电磁阀、10-第一耐酸泵、11-喷液管、12-第二耐酸泵、13-储液箱、14-过滤板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1和图2,本发明实施例中,一种多晶硅料酸洗装置,包括槽盖1、酸洗槽2、电机4、电磁阀9、第一耐酸泵10、第二耐酸泵12和储液箱13,酸洗槽2的上端口罩设有槽盖1实现对酸洗槽2的密封,且酸洗槽2内侧设置有水平的酸洗滚筒5用于搅拌多晶硅料,酸洗滚筒5内设置有螺带6实现酸洗滚筒5正反转控制多晶硅料的进出,且酸洗滚筒5的左右两端分别固定设置有转轴3和排料管7,转轴3用于传递扭矩,排料管7用于排料和加料,转轴3左端穿过酸洗槽2的侧壁且通过齿轮啮合与电机4连接,排料管7酸洗滚筒5内腔连通,且排料管7出料口设置有密封盖8实现对排料管7的管口密封避免酸性气体外泄,酸洗槽2的内侧底部设置有喷液管11实现对多晶硅料的冲刷,且喷液管11进液口通过管道与第一耐酸泵10连接,第一耐酸泵10的进液口通过管道与酸洗槽2底部连接实现循环供液,酸洗槽2的右下角通过管道连接有电磁阀9控制向储液箱13排液的管道通闭,且电磁阀9的出液口通过管道连接有储液箱13用于临时储存排空酸洗槽2的酸溶液,储液箱13的左下角通过管道与第二耐酸泵12连接将储液箱13内的酸溶液送回酸洗槽2内,且第二耐酸泵12的出液口通过管道与酸洗槽2连接,储液箱13内设置有将上下腔隔开的过滤板14实现对酸溶液内的杂质的过滤,过滤板14外侧为方形边框,且方形边框中间设置有聚四氟乙烯过滤网,均由较强的耐酸性,酸洗滚筒5为玻璃钢材料制成的网格状滚筒,且酸洗滚筒5内侧的螺带6为玻璃钢材料制成的网格状螺旋条带,玻璃钢材料机械强度高、耐腐蚀性强,喷液管11上设置有多个均匀排列的喷头实现酸洗溶液的喷泉式的冲刷,且喷头内孔略小于喷液管11的内径避免酸溶液冲击力度过大造成喷溅,槽盖1与酸洗槽2之间设置有密封圈,密封盖8与排料管7之间设置有密封圈避免酸性气体外泄污染空气。
本发明的工作原理是:当进行多晶硅料酸洗时,通过电机4控制酸洗滚筒5缓慢转动使多晶硅料通过排料管7进入到酸洗滚筒5内部进行酸洗,而酸洗滚筒5缓慢的滚动使多晶硅料不断的搅动充分均匀接触酸溶液,而第一耐酸泵10则将酸洗槽2内的酸溶液抽出并通过喷液管11上的喷头喷出实现对多晶硅表面的冲刷,当酸洗完毕后通过打开电磁阀9将酸洗槽2内的酸溶液排放到储液箱13内并在过滤板14的作用下进行杂质过滤,而排空的酸洗槽2实现对多晶硅料上的酸溶液的控液,通过电机4带动酸洗滚筒5的反方向缓慢转动将控干的多晶硅料通过排料管7排出,然后关闭电磁阀9并通过第二耐酸泵12将储液箱13内过滤后的酸溶液送回酸洗槽2内。
对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (5)

1.一种多晶硅料酸洗装置,包括槽盖(1)、酸洗槽(2)、电机(4)、电磁阀(9)、第一耐酸泵(10)、第二耐酸泵(12)和储液箱(13),其特征在于:所述酸洗槽(2)的上端口罩设有槽盖(1),且酸洗槽(2)内侧设置有水平的酸洗滚筒(5),所述酸洗滚筒(5)内设置有螺带(6),且酸洗滚筒(5)的左右两端分别固定设置有转轴(3)和排料管(7),所述转轴(3)左端穿过酸洗槽(2)的侧壁且通过齿轮啮合与电机(4)连接,所述排料管(7)与酸洗滚筒(5)内腔连通,且排料管(7)出料口设置有密封盖(8),所述酸洗槽(2)的内侧底部设置有喷液管(11),且喷液管(11)进液口通过管道与第一耐酸泵(10)连接,所述第一耐酸泵(10)的进液口通过管道与酸洗槽(2)底部连接,所述酸洗槽(2)的右下角通过管道连接有电磁阀(9),且电磁阀(9)的出液口通过管道连接有出液箱(13),所述储液箱(13)的左下角通过管道与第二耐酸泵(12)连接,且第二耐酸泵(12)的出液口通过管道与酸洗槽(2)连接。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅料酸洗装置,其特征在于:所述储液箱(13)内设置有将上下腔隔开的过滤板(14),所述过滤板(14)外侧为方形边框,且方形边框中间设置有聚四氟乙烯过滤网。
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅料酸洗装置,其特征在于:所述酸洗滚筒(5)为玻璃钢材料制成的网格状滚筒,且酸洗滚筒(5)内侧的螺带(6)为玻璃钢材料制成的网格状螺旋条带。
4.根据权利要求1所述的一种多晶硅料酸洗装置,其特征在于:所述喷液管(11)上设置有多个均匀排列的喷头,且喷头内孔略小于喷液管(11)的内径。
5.根据权利要求1所述的一种多晶硅料酸洗装置,其特征在于:所述槽盖(1)与酸洗槽(2)之间设置有密封圈,所述密封盖(8)与排料管(7)之间设置有密封圈。
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