CN108545753B - 一种网络状SiO2镀膜溶胶及其制备方法和应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种网络状SiO2镀膜溶胶及其制备方法和应用，具体的，利用正硅酸四甲酯、甲基三乙氧基硅烷及三甲基甲氧基硅烷三种有机硅共缩聚制备可以稳定120天以上的网络状SiO2镀膜溶胶，再利用上述镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射涂层。利用上述镀膜溶胶，以提拉‑浸渍法在玻璃表面镀制双面减反射膜，经450℃煅烧后，得到的减反射膜在可见光(400‑800nm)的平均透光率为97％以上，接触角为165°，减反射膜在150W紫外线照射1000小时后，其平均透光率下降不超过0.5％，疏水角仍可保持150°以上的超疏水状态。

Description

一种网络状SiO2镀膜溶胶及其制备方法和应用
技术领域
本发明属于光学薄膜材料领域，特别涉及一种网络状SiO2镀膜溶胶及其制备方法和应用。
背景技术
减反膜在新能源光伏发电和太阳能热发电技术中有着重要的作用，用于太阳能光伏和光热组件玻璃表面的减反膜，可以提高其光电或光热效率。一个没有减反膜的光伏组件，其表面反射光的损失超过30％，这从根本上限制了光电效率的提高。而采用减反膜技术使太阳能热发电站所用的玻璃真空管表面的太阳光反射减少4％，将会提高50MW电站的系统效能10％以上。但减反膜在实际使用中极大的机遇和挑战。第一，现有的膜机械性差，具有自清洁性能的减反膜在日常的使用过程中，极容易因为手指的触摸、风沙的侵蚀、雨水的反复冲刷、有机污染物的吸附等因素造成薄膜的微观细微结构的损伤，甚至使薄膜脱落失去自清洁特性；其次，成本高，规模小。现今报道的具有自清洁特性减反膜的制备工艺大多都涉及了复杂的工艺过程、较为严苛的制备环境、昂贵的试剂和设备等，成本较高，并且只适用于较小的基底或者特定的基底材料，规模较小。目前大多数减反膜不具备自洁性能，需要花费大量的人力物力成本对玻璃表面进行定期的清洗，以保证必要的光线透过率，少数减反膜表面镀有疏水层，但这种后修饰到表面的疏水结构极易受到清洗的影响而脱离。野外长期的紫外线照射也会对自洁涂层带来比较大的影响。影响其耐久性。在太阳能减反膜领域，目前自洁的需求已经大于减反的需求，因此，研制具有良好耐久性的自洁减反膜对蓬勃兴起的太阳能产业具有重要的意义。
表面自清洁的解决方案之一是赋予涂层具有超疏水性能，疏水性的自清洁性原理是基于“荷叶效应”，荷叶的自洁效应是源于其表面的空气层、乳头状突起和蜡质层共同组成的细微结构，这种粗糙的细微结构可以提高水滴在材料表面的接触角，使水滴极容易滚落，水滴在材料表面滚动时会带走灰尘和污染物，从而达到自清洁的效果，即当表面的水接触角大于150°且滞后角低于5°时，则把该表面定义为超疏水表面。因此，要实现超疏水的方法有两种，一是提高物体表面粗糙度，二是降低物体表面自由能。1996年，Tsujii团队首次报道了基于理论和实验的仿生超疏水性表面的研究，从而掀起了超疏水表面研究的新热潮。为了制备粗糙的表面以获得超疏水性，各种方案被相继提了出来，如浸渍-提拉法。Shang等人使用层层自组装法通过羟基和氯硅烷基团进行偶联得到自组装的单分子层，获得超疏水减反膜、Atsushi Hozumi等人使用化学气相沉积法(CVD) 低表面能的全氟烷基和甲基硅烷制备超疏水薄膜、P.Favia等使用离子体沉积法制备了针状的超疏水性减反射涂层、Nakajima A和Watanabe T等人相分离技术利用有机相和无机相的相分离现象，经过氟硅烷修饰后得到超疏水减反膜，Qu A 等人使用溶胶-凝胶法制备类草莓结构的复合粒子等，通过低表面能的氟硅烷修饰后得到超疏水减反射薄膜。自组装，相分离技术方法复杂，需要严格控制条件；化学气相沉积速率低，工作温度较高，限制了其使用范围。而溶胶凝胶技术所制备的胶体均匀，容易掺杂元素，且反应所需温度较低，方便快捷。
发明内容
本发明目的是，克服现有技术中的不足，提供网络状SiO2镀膜溶胶及其制备方法和应用，为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：
一种网络状SiO2镀膜溶胶，包括由正硅酸四甲酯(缩写TMOS)、甲基三乙氧基硅烷(缩写MTES)及三甲基甲氧基硅烷(缩写MMS)三者共缩聚形成的具有网络状结构的SiO2溶胶，网络状结构的SiO2溶胶在常温下的稳定期为120 天。
进一步的，TMOS、MTES及MMS三者共缩聚时，MTES的添加体积占 MTES和TMOS总体积百分比的40％～95％，MMS的摩尔量占MTES和TMOS 总摩尔量的0.5～1.5％。
网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，包括如下步骤：
(1)向装有无水甲醇的反应容器中边搅拌边依次逐滴滴加TMOS和MTES，待滴加完成并搅拌均匀后，制得甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物；
(2)向步骤(1)制得的甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物中边搅拌边滴加草酸溶液，搅拌至均匀分散，然后在室温下静置陈化，制得第一陈化物；
(3)向步骤(2)制得的第一陈化物中，边搅拌边依次滴加蒸馏水和氨水，充分分散后在室温下陈化，制得凝胶状第二陈化物；
(4)向步骤(3)制得的第二陈化物中加入无水甲醇，经超声分散后，得到溶胶；
(5)边搅拌步骤(4)制得的溶胶边向其中依次滴加无水甲醇和MMS，搅拌至均匀分散后，在室温下静置保存，制得网络状SiO2镀膜溶胶。
进一步的，步骤(1)中无水甲醇的体积为TMOS和MTES总体积的10～12 倍，MTES的体积占MTES和TMOS总体积百分比的40％～95％；所述步骤(2) 中草酸溶液的体积为TMOS和MTES总体积的0.4～1.6倍，草酸溶液浓度为0.01 mol/L
进一步的，步骤(3)蒸馏水的体积为TMOS和MTES总体积的0.1～0.6倍；氨水的体积为TMOS和MTES总体积的0.2～0.8倍。
进一步的，步骤(4)中无水甲醇的体积为TMOS和MTES总体积的11～15 倍；所述步骤(5)中MMS的摩尔量占TMOS和MTES总摩尔量的0.5～1.5％，无水甲醇的体积为MMS体积的1000～1600倍。
进一步的，步骤(2)中静置陈化时间为至少24小时，步骤(3)中室温下陈化时间为8～10天，步骤(5)中在室温下静置保存的时间为保存5～8天。
上述网络状SiO2镀膜溶胶在制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜中的应用。
一种用上述的网络状SiO2镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的方法，包括如下步骤：
①将经清洗的洁净的玻璃基片浸入到预先制备好的所述网络状SiO2镀膜溶胶中，浸渍时间为400s，之后于提拉机上以1000～1667μm/s的提拉速度镀膜，制得镀有网络状SiO2减反射薄膜的玻璃基底；
②将步骤①制得的镀有网络状SiO2减反射薄膜的玻璃基底在室温下干燥至少10分钟，然后放入马弗炉中逐渐升温至450℃，并在450℃下煅烧2小时，制得紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜。
进一步的，步骤①所述的网络状SiO2减反射薄膜的厚度为120nm。
由于上述技术方案的运用，本发明取得的技术效果有：1)常温下，网络状结构的SiO2溶胶具有较长的稳定期，可长时间使用，且制备出的减反射涂层的透光性和疏水性不会降低。2)步骤(1)中TMOS和MTES以逐滴滴加的方式投料，是为了防止溶胶局部浓度过大，影响产品质量。3)选用TMOS和MTES 作为硅源能够更好保证透光性和疏水性，且能保证制得的网络状结构的SiO2溶胶具有较长的稳定期。4)甲醇用量的控制是为了控制溶胶浓度，进而使溶胶保持更久的稳定性。5)以提拉法镀制的薄膜是双面的，并且膜层均匀。6)本发明制得的网络状SiO2溶胶构建的减反膜具有较高的透光性，超疏水性和紫外耐久性。7)制备出的镀膜溶胶具有良好的稳定性。8)MTES和TMOS相互水解缩合形成网络状结构含有大量的孔隙，造成了高的透光性。9)两次陈化，且分别以草酸和氨水作为催化剂，可以更好保证成成膜性。10)煅烧条件的控制在于使薄膜固化，使薄膜更加紧实，优化薄膜结构，增加薄膜的透光性和机械性能。此外，本发明还取得了意想不到的技术效果：经过高温和紫外老化试验后本发明制得的减反射膜仍可以保持超疏水状态。
附图说明
图1为网络状SiO2溶胶的TEM图。
图2为本发明的当MTES占MTES和TMOS总体积的92％时制得的减反射膜在可见光(400～800nm)范围内的透光率及其水接触角示意图。
具体实施方式
本发明下面结合实施例作进一步详述：
实施例1：
网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，具体包括如下步骤：
(1)在室温下，取10mL甲醇加入到反应容器，然后边搅拌边依次逐滴加入0.4mL的MTES和0.6mL的TMOS，待滴加完成并搅拌均匀后，制得甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物。
(2)向步骤(1)制得的甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物中边搅拌边滴加0.4mL的草酸溶液，其浓度为0.01mol/L，并在室温下搅拌0.5h，然后放置在室温下陈化24小时，制得第一陈化物。
(3)向步骤(2)制得的第一陈化物中，边搅拌边依次滴加0.2mL氨水和 0.1mL蒸馏水搅拌0.5h后，放置在室温下陈化8天，制得凝胶状第二陈化物。
(4)再向步骤(3)制得的凝胶状第二陈化物中加入11mL甲醇，超声分散后得到溶胶。
(5)边搅拌步骤(4)制得的溶胶边向其中滴加一定量的MMS和甲醇， MMS的用量范围在MTES和TMOS总摩尔量的0.5％，甲醇的用量为MMS体积的1000倍，搅拌0.5h，室温下陈化5天，得到网络状SiO2镀膜溶胶。
采用上述制得的网络状SiO2镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的方法，具体包括如下步骤：
①将规格为20mm*100mm*3mm，透光率为91％的玻璃基片，按顺序依次放入到溶质质量分数为10％的盐酸洗液和溶质质量分数为10％的氨水洗液中分别超声处理30分钟，超声波功率为60W，再用无水乙醇和去离子水超声洗涤，晾干，将经过上述处理的玻璃基片浸入到前述制得的网络状SiO2镀膜溶胶中，浸渍400s后，于提拉机上以1000μm/s提拉速度镀膜，得到膜厚为120nm的网络状SiO2减反射薄膜。
②将①制得的网络状SiO2减反射薄膜在室温下干燥10分钟，然后放入马弗炉中并逐渐升温至450℃，在450℃下煅烧2h，制得紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜。
制得的紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜在可见光(400～800nm)范围内平均透光率达到97％以上，水接触角可达到165°，镀膜溶胶可稳定保存120天。
实施例2
网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，具体包括如下步骤：
(1)在室温下，取11mL甲醇加入到反应容器，然后边搅拌边依次逐滴加入 0.95mL的MTES和0.05mL的TMOS，待滴加完成并搅拌均匀后，制得甲醇体系的 TMOS和MTES均匀混合物。
(2)向步骤(1)制得的甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物中边搅拌边滴加1mL的草酸溶液，浓度为0.01mol/L，并在室温下搅拌0.5h，然后放置在室温下陈化24小时，制得第一陈化物。
(3)向步骤(2)制得的第一陈化物中，边搅拌边依次滴加0.58mL氨水和 0.4mL蒸馏水，搅拌0.5h后，放置在室温下陈化8天，制得凝胶状第二陈化物。
(4)再向步骤(3)制得的凝胶状第二陈化物中加入13mL甲醇，超声分散后得到溶胶。
(5)边搅拌步骤(4)制得的溶胶边向其中滴加一定量的MMS和甲醇，MMS 的用量范围在MTES和TMOS总摩尔量的1.5％，甲醇的用量为MMS体积的1600 倍，搅拌0.5h，室温下陈化8天，得到网络状SiO2镀膜溶胶。
采用上述制得的网络状SiO2镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的方法，具体包括如下步骤：
①将规格为20mm*100mm*3mm，透光率为91％的玻璃基片，按顺序依次放入到溶质质量分数为10％的酸洗液和溶质质量分数为10％的氨水洗液中分别超声处理30分钟，超声波功率为60W，再用无水乙醇和去离子水超声洗涤，晾干，将经过上述处理的玻璃基片浸入到第一步制得的镀膜溶胶中，浸渍400s后，于提拉机上以1200μm/s提拉速度镀膜，得到膜厚为120nm的网络状SiO2减反射薄膜。
②将①制得的网络状SiO2减反射薄膜在室温下干燥时间10分钟，然后放入马弗炉中，并逐渐升温至450℃，在450℃下煅烧2h，制得紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜。
制得的紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜在可见光(400～800nm)范围内平均透光率达到97％以上，水接触角可达到165°，溶胶可稳定保存120天。
实施例3
网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，具体包括如下步骤：
(1)在室温下，取12mL甲醇加入到反应容器，然后边搅拌边依次逐滴加入 0.8mL的MTES和0.2mL的TMOS，待滴加完成并搅拌均匀后，制得甲醇体系的 TMOS和MTES均匀混合物。
(2)向步骤(1)制得的甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物中边搅拌边滴加1.6mL的草酸溶液，其浓度为0.01mol/L，并在室温下搅拌0.5h，然后放置在室温下陈化24小时，制得第一陈化物。
(3)向步骤(2)制得的第一陈化物中，边搅拌边依次滴加0.8mL氨水和 0.6mL蒸馏水，搅拌30min后，放置在室温下陈化8天，制得凝胶状第二陈化物。
(4)再向步骤(3)制得的凝胶状第二陈化物中加入15mL甲醇，超声分散后得到溶胶。
(5)边搅拌步骤(4)制得的溶胶边向其中滴加一定量的MMS和甲醇，MMS 的用量范围在MTES和TMOS总摩尔量的1.0％，甲醇的用量为MMS体积的1300 倍，搅拌0.5h，室温下陈化5天，得到网络状SiO2镀膜溶胶。
采用上述制得的网络状SiO2镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的方法，具体包括如下步骤：
①将规格为20mm*100mm*3mm，透光率为91％的玻璃基片，按顺序依次放入到溶质质量分数为10％的盐酸洗液和溶质质量分数为10％的氨水洗液中分别超声处理30分钟，超声波功率为60W，再用无水乙醇和去离子水超声洗涤，晾干，将经过上述处理的玻璃基片浸入到第一步制得的镀膜溶胶中，浸渍400s后，于提拉机上以1667μm/s提拉速度镀膜，得到膜厚为120nm的网络状SiO2减反射薄膜。
②将①制得的网络状SiO2减反射薄膜在室温下干燥时间10分钟，然后放入马弗炉中并逐渐升温至450℃，在450℃下煅烧2h，制得紫外耐久型超疏水自清洁减反膜。
制得的紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜在可见光(400～800nm)范围内平均透光率达到97％以上，水接触角可达到165°，镀膜溶胶可稳定保存120天。
对比实施例1
网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，具体包括如下步骤：
(1)在室温下，取10mL甲醇加入到反应容器，然后边搅拌边依次逐滴加入 0.8mL的MTES和0.2mL的TMOS，待滴加完成并搅拌均匀后，制得甲醇体系的 TMOS和MTES均匀混合物。
(2)向步骤(1)制得的甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物中边搅拌边再滴加1mL的草酸溶液，其浓度为0.01mol/L，并溶胶在室温下搅拌0.5h，然后放置在室温下陈化24小时，制得第一陈化物。
(3)向步骤(2)制得的第一陈化物中，边搅拌边依次滴加0.58mL氨水和 0.4mL蒸馏水，搅拌30min后，放置在室温下陈化8天，制得凝胶状第二陈化物。
(4)再向步骤(3)制得的凝胶状第二陈化物中加入15mL甲醇，超声分散后得到网络状SiO2镀膜溶胶镀膜溶胶。
采用上述制得的网络状SiO2镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的方法，具体包括如下步骤：
①将规格为20mm*100mm*3mm，透光率为91％的玻璃基片，按顺序依次放入到溶质质量分数为10％(溶质质量分数，下同)的盐酸洗液和溶质质量分数为 10％的氨水洗液中分别超声波60W超声处理30分钟，超声波功率为60W，再用无水乙醇和去离子水超声洗涤，晾干，将经过上述处理的玻璃基片浸入到第一步制得的镀膜溶胶中，浸渍400s后，于提拉机上以1000μm/s提拉速度镀膜，得到膜厚为120nm的网络状SiO2减反射薄膜。
②将①制得的网络状SiO2减反射薄膜在室温下干燥10分钟，然后放入马弗炉中逐渐升温至450℃，在450℃下煅烧2h，制得紫外耐久型超疏水自清洁减反膜。
制得的紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜其薄膜在可见光(400～800nm)范围内平均透光率达到97％以上，水接触角为150°，但镀膜溶胶仅可稳定保存6 小时，在6小时后很快又形成凝胶，无法继续镀膜使用。
对比实施例2
网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，具体包括如下步骤：
(1)在室温下，取10mL甲醇加入到反应容器，然后边搅拌边依次逐滴加入0.1mL的MTES和0.9mL的TMOS，待滴加完成并搅拌均匀后，制得甲醇体系的 TMOS和MTES均匀混合物。
(2)向步骤(1)制得的甲醇体系的TMOS和MTES均匀混合物中边搅拌边再滴加1mL的草酸溶液，其浓度为0.01mol/L，并溶胶在室温下搅拌0.5h，然后放置在室温下陈化24小时，制得第一陈化物。
(3)向步骤(2)制得的第一陈化物中，边搅拌边依次24小时后再向其中搅拌滴加0.58mL氨水和0.4mL蒸馏水，搅拌30min后，放置在室温下陈化8天，制得凝胶状第二陈化物。
(4)再向步骤(3)制得的凝胶状第二陈化物中加入15mL甲醇，超声分散后得到溶胶。
(5)边搅拌步骤(4)制得的溶胶边向其中再向已得到的溶胶中搅拌滴加一定量的MMS和甲醇，MMS的用量范围在MTES和TMOS总摩尔量的0.5％，甲醇的用量为MMS体积的1000倍，搅拌0.5h，室温下陈化5天，得到镀膜溶胶。
采用上述制得的网络状SiO2镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的方法，具体包括如下步骤：
①将规格为20mm*100mm*3mm，透光率为91％的玻璃基片，按顺序依次放入到溶质质量分数为10％(溶质质量分数，下同)的盐酸洗液和溶质质量分数为10％的氨水洗液中分别超声波60W超声处理30分钟，超声波功率为60W，再用无水乙醇和去离子水超声洗涤，晾干，将经过上述处理的玻璃基片浸入到第一步制得的镀膜溶胶中，浸渍400s后，于提拉机上以1000μm/s提拉速度镀膜，得到膜厚为120nm的网络状SiO2减反射薄膜，。
②将①制得的网络状SiO2减反射薄膜在室温下干燥10分钟，然后放入马弗炉中逐渐升温至450℃，在450℃下煅烧2h，制得紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜。
制得的紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜其薄膜在可见光(400～800nm) 范围内平均透光率达到97％以上，但水接触角只有80°，不具备疏水性。
效果实施例
应用透射电子显微镜对本发明制得的网络状SiO2溶胶进行测试分析，其 TEM图见图1，从图中可以看出SiO2溶胶的网络结构。
应用紫外-可见-近红外分光光度计对本发明制得减反射膜进行透光率测试并采用光学接触角测量仪测试出本发明制得减反射膜的水接触角。见图2，图2为本发明的当MTES占MTES和TMOS总体积的92％时制得的减反射膜在可见光(400～800nm)范围内的透光率及其水接触角示意图。

Claims (10)

1.一种网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：
（1）向装有无水甲醇的反应容器中边搅拌边依次逐滴滴加正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷，待滴加完成并搅拌均匀后，制得甲醇体系的正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷均匀混合物；
（2）向步骤（1）制得的甲醇体系的正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷均匀混合物中边搅拌边滴加草酸溶液，搅拌至均匀分散，然后在室温下静置陈化，制得第一陈化物；
（3）向步骤（2）制得的第一陈化物中，边搅拌边依次滴加蒸馏水和氨水，充分分散后在室温下陈化，制得凝胶状第二陈化物；
（4）向步骤（3）制得的第二陈化物中加入无水甲醇，经超声分散后，得到溶胶；
（5）边搅拌步骤（4）制得的溶胶边向其中依次滴加无水甲醇和三甲基甲氧基硅烷，搅拌至均匀分散后，在室温下静置保存，制得网络状SiO2镀膜溶胶；
所述镀膜溶胶包括由正硅酸四甲酯、甲基三乙氧基硅烷及三甲基甲氧基硅烷三者共缩聚形成的具有网络状结构的SiO2溶胶，所述网络状结构的SiO2溶胶在常温下的稳定期为120天，用于制备减反射膜。
2.根据权利要求1所述的网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，其特征在于，所述正硅酸四甲酯、甲基三乙氧基硅烷及三甲基甲氧基硅烷三者共缩聚时，甲基三乙氧基硅烷的添加体积占甲基三乙氧基硅烷和正硅酸四甲酯总体积百分比的40%~95%，三甲基甲氧基硅烷的摩尔量占甲基三乙氧基硅烷和正硅酸四甲酯总摩尔量的0.5~1.5%。
3.根据权利要求1所述的网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中无水甲醇的体积为正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷总体积的10~12倍，甲基三乙氧基硅烷的体积占甲基三乙氧基硅烷和正硅酸四甲酯总体积百分比的40%~95%；所述步骤（2）中草酸溶液的体积为正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷总体积的0.4~1.6倍，草酸溶液浓度为0.01 mol/L。
4.据权利要求1所述的网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，其特征在于，所述步骤（3）中蒸馏水的体积为正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷总体积的0.1~0.6倍；氨水的体积为正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷总体积的0.2~0.8倍。
5.据权利要求1所述的网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，其特征在于，所述步骤（4）中无水甲醇的体积为正硅酸四甲酯和甲基三乙氧基硅烷总体积的11~15倍；所述步骤（5）中三甲基甲氧基硅烷的摩尔量占甲基三乙氧基硅烷和正硅酸四甲酯总摩尔量的0.5~1.5%；无水甲醇的体积为三甲基甲氧基硅烷体积的1000~1600倍。
6.据权利要求1所述的网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）中静置陈化时间为至少24小时，所述步骤（3）中室温下陈化时间为8~10天，所述步骤（5）中在室温下静置保存的时间为5~8天。
7.一种网络状SiO2镀膜溶胶，其特征在于：由如权利要求1至6中任一项所述的网络状SiO2镀膜溶胶的制备方法制得。
8.如权利要求7所述的网络状SiO2镀膜溶胶在制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜中的应用。
9.一种用如权利要求7中所述的网络状SiO2镀膜溶胶制备紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：
①将经清洗的洁净的玻璃基片浸入到预先制备好的所述网络状SiO2镀膜溶胶中，浸渍时间为400s，之后于提拉机上以1000~1667μm/s的提拉速度镀膜，制得镀有网络状SiO2减反射薄膜的玻璃基底；
②将步骤①制得的镀有网络状SiO2减反射薄膜的玻璃基底在室温下干燥至少10分钟，然后放入马弗炉中逐渐升温至450℃，并在450℃下煅烧2小时，制得紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜。
10.根据权利要求9所述的紫外耐久型超疏水自清洁减反射膜的制备方法，其特征在于，步骤①所述的网络状SiO2减反射薄膜的厚度为120nm。
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