CN108535964B - 光刻设备 - Google Patents

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Abstract

一种光刻设备包括被构造为支撑图案形成装置(5)的图案形成装置支撑件，图案形成装置能够在辐射束的截面中施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构(3)，相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器(4)，配置用于相对于物体移动可移动结构(3)的致动器(8)，以及被配置用于相对于可移动结构(3)移动图案形成装置保持器(4)的超短冲程致动器(9)；被构造为保持衬底(W)的衬底支撑件(WT)；以及被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分(C)之上的投影系统(PS)，用于测量作为衬底相对于参考物体的所需位置(SPWS)与衬底相对于参考物体的实际位置之间的差的衬底位置误差(eWS)的位置测量系统(IF)，以及配置用于至少部分地基于衬底位置误差(eWS)而移动致动器(8)和超短冲程致动器(9)的控制器(100、200)。

Description

光刻设备
本申请是国际申请日为2013年4月5日、于2014年12月8日进入中国国家阶段的、申请号为201380030257.5、发明名称为“光刻设备”的中国发明专利申请的分案申请。
相关申请的交叉引用
本申请要求享有2012年4月27日提交的第61/639,545号美国临时申请的优先权，通过整体引用将其并入本文。
技术领域
本发明涉及一种光刻设备以及一种器件制造方法。
背景技术
光刻设备是施加所需图案至衬底之上(通常至衬底的目标部分之上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在该情形中，备选地称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生将要形成在IC的各个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个裸片的一部分)之上。图案的转移通常经由成像至设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层之上。通常，单个衬底将包含相继图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机，其中通过将整个图案一次曝光至目标部分之上而辐射每个目标部分，以及所谓的扫描机，其中在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案而同时平行于或反平行于该方向扫描衬底来辐射每个目标部分。也可能通过压印图案至衬底之上而将图案从图案形成装置转移至衬底。
已经提出了在光刻投影设备中将衬底浸入具有相对高折射率的液体(例如水)中，以便于填充投影系统的最终元件与衬底之间的空间。然而，另外的流体可以是合适的，特别是润湿流体，不可压缩的流体和/或具有比空气更高折射率的流体，希望的是比水更高的折射率。排除了气体的流体是特别希望得到的。该要点在于使得能够成像更细微特征，因为曝光辐射将在液体中具有更短波长。(液体的效应也可以视作增大了系统的有效数值孔径(NA)并且也增大了焦点的深度。)已经提出了其他沉浸液体，包括其中悬浮有固体颗粒(例如石英)的水，或者具有纳米颗粒悬浮物的液体(例如具有至多10nm的最大尺寸的颗粒)。悬浮颗粒可以或者可以不与它们悬浮在其中的液体具有类似或相同的折射率。可能合适的其他液体包括烃，诸如芳香烃、氟代烃、和/或水溶液。
在光刻设备中，使用了可移动支撑件以保持并定位诸如衬底或图案形成装置之类的可交换物体。在扫描类型光刻设备中，可移动支撑件用于支撑衬底以便于形成扫描运动。图案形成装置也可以支撑在可移动支撑件上。可移动支撑件能够以高精度定位衬底或图案形成装置。
为了获得高精度，由可相对于诸如框架之类的参考物体移动的长冲程部件以及相对于长冲程部件可移动地设置的短冲程部件组装已知的可移动支撑件。短冲程部件被配置为支撑可交换物体。长冲程部件相对于参考物体的最大冲程相对较大，而短冲程部件相对于长冲程部件的冲程相对较小。
提供长冲程致动器以相对于参考物体致动长冲程部件。提供短冲程致动器以相对于长冲程部件致动短冲程部件。该长冲程致动器例如是线性电动机，并且可以不是非常精确的。长冲程致动器的主要任务是将短冲程致动器的定子部件保持在运动部件附近。设计短冲程致动器以采用高精度定位短冲程部件。
为了控制可交换物体的位置，由位置测量系统(例如干涉仪系统或编码器系统)确定用于支撑衬底的第二支撑系统的位置。该测量例如以三个平面自由度或者以六个自由度而执行。测量位置与所需位置作比较。位置误差(也即测得与所需位置之间的差)被馈送至控制器中，控制器基于该信号提供了将用于致动短冲程致动器的控制信号。
通过使用基于短冲程部件与长冲程部件的实际位置之间的差的信号作为用于长冲程致动器控制器的输入信号而控制长冲程致动器。该控制器的输出使得长冲程部件跟随短冲程部件的运动，由此将短冲程部件的所需位置保持在短冲程致动器的范围内。
短冲程致动器可以是洛伦兹类型以使得与长冲程振动隔离。该洛伦兹类型致动器具有小的刚度。也可以精确地使用具有小刚度和高精度的任何其他类型致动器以控制由可移动支撑件支撑的可交换物体的位置。洛伦兹致动器的输入是电流，基本上正比于所需的力。
平台中的力型致动器可以限制从一个平台至另一平台之间可实现的前馈效应(例如馈送至图案形成装置支撑件的衬底台误差)。在该前馈中，一个平台的位置误差需要两次微分以产生前馈力，这耗费了一个取样延迟。这导致其他平台的延迟响应，限制了平台相对于彼此的定位精度。该前馈性能进一步由计算延迟、放大器(DAC)延迟和短冲程系统的高阶动力学所限制。
发明内容
希望提高由可移动支撑件支撑的诸如图案形成装置之类的可交换物体的定位的精度。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于物体移动可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于可移动结构而移动图案形成装置保持器的超短冲程致动器；被构造为保持衬底的衬底支撑件；以及投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上；位置测量系统，用于测量衬底位置误差，衬底位置误差是衬底相对于参考物体的所需位置与衬底相对于参考物体的实际位置之间的差；以及控制器，被配置用于至少部分地基于衬底位置误差而移动致动器和超短冲程致动器。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于物体移动可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于可移动结构而移动图案形成装置保持器的超短冲程致动器；被构造为保持衬底的衬底支撑件；以及投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上；位置测量系统，用于测量衬底位置误差，衬底位置误差是衬底相对于参考物体的所需位置与衬底相对于参考物体的实际位置之间的差；以及控制器，被配置用于排他地基于以下项而移动超短冲程致动器：衬底位置误差以及可选地图案形成装置保持器相对于可移动结构的测量位置。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置系统包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于物体移动可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于可移动结构而移动图案形成装置保持器的超短冲程致动器；被构造为保持衬底的衬底支撑件；以及投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上；位置测量系统，用于测量图案形成装置保持器和/或图案形成装置相对于可移动结构的位置；以及控制器，被配置用于基于位置误差信号以及由位置测量系统测得的图案形成装置保持器和/或图案形成装置的位置而移动超短冲程致动器。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置系统包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于物体移动可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于可移动结构而移动图案形成装置保持器的超短冲程致动器；被构造为保持衬底的衬底支撑件；投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上；以及开环控制器，被配置用于基于位置误差信号而移动超短冲程致动器。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置系统包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于物体移动可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于可移动结构而移动图案形成装置保持器的超短冲程致动器；被构造为保持衬底的衬底支撑件；投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上；透射图像传感器，用于测量投影系统下游的图案化的辐射束的位置；以及校准器，用于确定在施加至超短冲程致动器的控制信号的幅度与得到的图案化的辐射束和/或图案形成装置保持器和/或图案形成装置的位置改变之间的关系。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束施加图案以形成图案化的辐射束；衬底支撑件，被构造为保持衬底；以及投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上，其中，图案形成装置支撑件包括：可移动结构，相对于物体可移动地设置，图案形成装置保持器，相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置；致动器，被配置用于相对于物体移动可移动结构；以及超短冲程致动器，被配置用于相对于可移动结构移动图案形成装置保持器，并且包括位于图案形成装置保持器的周缘的至少一部分周围的多个致动器。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于物体移动可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于可移动结构而移动图案形成装置保持器的超短冲程致动器；被构造为保持衬底的衬底支撑件；以及投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上，其中，超短冲程致动器胶粘在图案形成装置保持器与可移动结构之间。
附图说明
现在将仅借由示例的方式、参照所附示意图描述本发明的实施例，其中对应的附图标记表示对应的部件，以及其中：
图1示出了根据本发明实施例的光刻设备；
图2示出了可以在本发明实施例中用作沉浸液体供应系统的阻挡构件的截面图；
图3示意性示出了根据本发明实施例的光刻设备的选定部分的截面图；
图4示出了根据本发明实施例的超短冲程致动器的截面图；
图5示出了根据本发明实施例的用于图案形成装置支撑件的控制方案；
图6示出了根据本发明实施例的用于图案形成装置支撑件的控制方案；
图7示出了根据本发明实施例的校准超短冲程致动器控制器的方法；
图8示出了根据本发明实施例的多个超短冲程致动器的平面图；以及
图9示出了根据本发明实施例的在图案形成装置弯曲期间使用图8的多个超短冲程致动器的截面图。
具体实施方式
图1示意性示出了根据本发明一个实施例的光刻设备。设备包括：
照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B(例如UV辐射、DUV辐射或EUV辐射)；
支撑结构(例如掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA并且连接至配置用于根据某些参数精确地定位图案形成装置的第一定位器PM；
衬底台(例如晶片台)WT，构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并且连接至配置用于根据某些参数精确地定位衬底的第二定位器PW。在下文中，对衬底台WT的引用也可以解读为对载物台(例如用于支撑一个或多个传感器的台)的引用，反之亦然；以及
投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，配置用于将由图案形成装置MA施加至辐射束B的图案投影至衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个裸片)之上。
照射系统可以包括用于引导、成形或控制辐射的各种类型的光学部件，诸如折射、反射、磁性、电磁、静电或其他类型的光学部件或其任意组合。
支撑结构MT保持了图案形成装置。支撑结构MT以取决于图案形成装置的朝向、光刻设备的设计、以及诸如例如图案形成装置是否保持在真空环境中之类的其他条件的方式来保持图案形成装置。支撑结构MT可以使用机械、真空、静电或其他夹持技术来保持图案形成装置。支撑结构MT可以是框架或台，例如根据需要可以是固定的或者可移动。支撑结构MT可以确保图案形成装置在所需位置处，例如相对于投影系统。在本文中术语“掩模版”或“掩模”的任何使用可以视作与更常用术语“图案形成装置”含义相同。
在本文中使用的术语“图案形成装置”应该广泛地解释为涉及可以用于在其截面中向辐射束施加图案以便于在衬底的目标部分中产生图案的任何装置。应该注意的是施加至辐射束的图案可以不精确地对应于衬底的目标部分中的所需图案，例如如果图案包括相移特征或者所谓的辅助特征。通常，施加至辐射束的图案将对应于在目标部分中正在形成的器件(诸如集成电路)的特定功能层。
图案形成装置可以是透射式或反射式。图案形成装置的示例包括掩模、可编程镜面阵列、以及可编程LCD面板。掩模在光刻中已知，并且包括诸如二元、交替相移、以及衰减相移之类的掩模类型，以及各种混合掩模类型。可编程镜面阵列的示例采用了小镜面的矩阵布置，每个镜面可以单独地倾斜以便于沿不同方向反射入射的辐射束。倾斜的镜面在由镜面矩阵反射的辐射束中施加了图案。
在本文中使用的术语“投影系统”应该广泛地解释为包含任何类型的投影系统，包括折射、反射、反折射、磁性、电磁和静电光学系统、或者其任意组合，如对于所使用的曝光辐射是合适的，或者对于诸如使用沉浸液体或使用真空的其他因素是合适的。在本文中术语“投影透镜”的任何使用可以视作与更常用术语“投影系统”含义相同。
如在此所示，设备是透射式类型(例如采用透射性掩模)。备选地，设备可以是反射式类型(例如采用反射性掩模)。光刻设备可以是具有两个(双平台)或多个衬底台(和/或两个或多个图案形成装置工作台)的类型。在该“多平台”机器中，可以并行使用附加的工作台，或者可以在一个或多个工作台上执行预备步骤而一个或多个其他工作台用于曝光。在实施例中，光刻设备是包括位于投影系统的曝光侧处的两个或多个工作台的多平台设备，每个工作台包括和/或保持一个或多个物体。在实施例中，工作台的一个或多个可以保持辐射敏感衬底。在实施例中，工作台的一个或多个可以保持传感器以感测来自投影系统的辐射。在实施例中，多平台设备包括被配置用于保持辐射敏感衬底的第一工作台(也即衬底台)以及并非被配置用于保持辐射敏感衬底的第二工作台(下文中通常称作并且不限于测量和/或清洁工作台)。第二工作台可以包括和/或可以保持一个或多个物体，而不是辐射敏感衬底。该一个或读个物体可以包括选自以下的一个或多个：用以测量来自投影系统的辐射的传感器，一个或多个对准标记，和/或清洁装置(用以清洁，例如液体限制结构)。
参照图1，照射器IL从辐射源SO接收辐射束。源和光刻设备可以是单独实体，例如当源是受激准分子激光器时。在这些情形中，源不视作形成光刻设备的一部分，并且辐射束借助于包括例如合适的引导镜面和/或扩束器的束传送系统BD而从源SO传至照射器IL。在其他情形中，源可以是光刻设备的一体部分，例如当源是水银灯时。源SO和照射器IL以及如果需要的话与束传送系统BD一起可以称作辐射系统。
照射器IL可以包括被配置用于调节辐射束的角强度分布的调节器AM。通常，可以调节在照射器的光瞳面中的强度分布的至少外径向范围和/或内径向范围(通常分别称作σ-外和σ-内)。此外，照射器IL可以包括各种其他部件，诸如积分器IN和聚光器CO。照射器可以用于调节辐射束以在其截面中具有所需的均匀性和强度分布。类似于源SO，照射器IL可以或者可以不视作形成光刻设备的一部分。例如，照射器IL可以是光刻设备的整体部分，或者可以是与光刻设备分离的实体。在后者情形中，光刻设备可以配置用于允许照射器IL安装在其上。可选地，照射器IL是可拆卸的，并且可以单独地提供(例如由光刻设备制造商或其他供应商)。
辐射束B入射在保持在支撑结构(例如掩模台)MT上的图案形成装置(例如掩模)MA上，并且由图案形成装置进行图案化。已经穿越图案形成装置MA，辐射束B穿过将束聚焦至衬底W的目标部分C之上的投影系统PS。借助于第二定位器PW和定位传感器IF(例如干涉测量装置、线性编码器或电容性传感器)，衬底台WT可以精确地移动，例如以便于在辐射束B的路径中定位不同的目标部分C。类似地，第一定位器PM和另一定位传感器(图1中未示明确出)可以用于相对于辐射束B的路径而精确地定位图案形成装置MA，例如在从掩模库机器检索之后、或者在扫描期间。通常，支撑结构MT的移动可以借助于形成第一定位器PM的一部分的长冲程模块(粗略定位)和短冲程模块(精细定位)而实现。类似地，衬底台面WT的移动可以使用形成第二定位器PW的一部分的长冲程模块和短冲程模块而实现。在步进机的情形中(与扫描机相反)，支撑结构MT可以仅连接至短冲程致动器，或者可以是固定的。图案形成装置MA和衬底W可以使用图案形成装置对准掩模M1、M2以及衬底对准掩模P1、P2而对准。尽管如所示的衬底对准掩模占据了专用目标部分，但是它们可以位于目标部分C之间的空间中(这些已知作为划片线对准掩模)。类似地，在其中多于一个裸片设置在图案形成装置MA上的情形中，图案形成装置对准掩模可以位于裸片之间。
可以在至少一个下述模式中使用所描绘的设备：
1.在步进模式中，支撑结构MT和衬底台WT保持基本上静止，而此时施加至辐射束的整个图案一次性投影至目标部分C之上(也即单次静态曝光)。衬底台WT随后沿X和/或Y方向偏移，以使得可以曝光不同的目标部分C。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单次静态曝光中成像的目标部分C的尺寸。
2.在扫描模式中，支撑结构MT和衬底台WT同时被扫描，而此时施加至辐射束的图案被投影至目标部分C之上(也即单次动态曝光)。衬底台WT相对于支撑结构MT的速度和方向可以由投影系统PS的缩放和成像翻转特性来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单次动态曝光中目标部分的宽度(沿非扫描方向)，而扫描运动的长度确定了目标部分的高度(沿扫描方向)。
3.在另一模式下，支撑结构MT保持基本上静止，从而保持可编程图案形成装置，并且衬底台WT被移动或扫描，此时施加至辐射束的图案被投影至目标部分C之上。在该模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在扫描期间根据需要在衬底台WT的每次移动之后或者在相继辐射脉冲之间更新可编程图案形成装置。该操作模式可以容易地应用于利用了诸如如上所述类型的可编程镜面阵列的可编程图案形成装置的无掩模光刻。
也可以采用对于如上所述的使用模式的组合和/或变形或者采用完全不同的使用模式。
在许多光刻设备中，使用液体供应系统IH在投影系统的最终元件与衬底之间提供流体、特别是液体例如沉浸液体，以使得能够成像越小的特征和/或提高设备的有效NA。以下参照该沉浸式设备描述本发明的实施例，但是可以等同地体现为非沉浸式设备。用于在投影系统的最终元件与衬底之间提供液体的装置可以划分为至少两个大类。这些是浴型装置以及所谓的局部沉浸系统。在浴型装置中，基本上整个衬底以及可选地衬底台的一部分浸入液浴中。所谓的局部沉浸系统使用液体供应系统，其中液体仅提供至衬底的局部区域。在后一种类中，由液体填充的空间在平面图中小于衬底的顶表面，并且由液体填充的区域在衬底在该区域下方移动时相对于投影系统保持基本上静止。本发明实施例所涉及的另一设置是全浸湿解决方案，其中液体不受约束。在该设置中，基本上衬底的整个顶表面以及衬底台的全部或一部分覆盖在沉浸液体中。覆盖了至少衬底的液体的深度是小的。液体可以是在衬底上液体的膜，诸如薄膜。
在实施例中，液体是蒸馏水，尽管可以使用其他液体。将参照液体描述本发明的实施例。
已经提出的设置是提供具有沿着投影系统的最终元件与衬底台之间空间的边界的至少一部分延伸的液体限制构件的液体供应系统。该设置示出在图2中。液体限制构件在XY平面中相对于投影系统基本上静止，尽管沿Z方向(沿光轴方向)可以存在一些相对运动。密封形成在液体限制构件与衬底的表面之间。在实施例中，密封形成在液体限制结构与衬底的表面之间，并且可以是诸如气体密封的无接触密封。该系统公开在第US2004-0207824号美国专利申请公开中。
图2示意性示出了具有流体处理结构12的局部液体供应系统。流体处理结构沿着投影系统的最终元件与衬底台WT或衬底W之间空间边界的至少一部分延伸。(请注意在以下文本中对衬底W的表面的引用也附加地或者备选地涉及衬底台的表面，除非明确给出相反指示。)流体处理结构12在XY平面中相对于投影系统基本上静止，尽管沿Z方向(沿光轴方向)可以有一些相对运动。在实施例中，密封形成在阻挡构件与衬底W的表面之间，并且可以是诸如流体密封(希望的是气体密封)之类的无接触密封。
流体处理结构12至少部分地在投影系统PS的最终元件与衬底W之间空间11中保持了液体。至衬底W的无接触密封16可以形成在投影系统的像场周围以使得液体限制在衬底W表面与投影系统PS的最终元件之间空间内。空间至少部分地由位于投影系统PS的最终元件下方并且围绕投影系统PS的最终元件的流体处理结构12所形成。液体由液体入口13引入投影系统下方并且在流体处理结构12内的空间中。液体可以由液体出口13移除。流体处理结构12可以延伸在稍微位于投影系统的最终元件之上。液面升到最终元件之上以使得提供了液体的缓冲。在实施例中，流体处理结构12具有内周缘，内周缘在上端部处接近符合投影系统或其最终元件的形状并且可以例如为圆形。在底部处，内周缘接近符合像场的形状，例如矩形，尽管无需是该情形。
在实施例中，液体由气体密封16保持在空间11中，在使用期间气体密封16形成在流体处理结构12的底部与衬底W的表面之间。气体密封由气体形成，例如空气或合成空气，但是在一个实施例中为N2或其他惰性气体。气体密封中的气体经由入口15在压力下提供至流体处理结构12与衬底W之间的间隙。气体经由出口14抽取。设置气体入口15上的过压、出口14上的真空水平以及间隙的几何形状以使得存在限制了液体的向内的高速气流16。气体施加在流体处理结构12与衬底W之间的液体上的力将液体保持在空间11中。入口/出口可以是环绕空间11的环形沟槽。环形沟槽可以是连续或间断的。气流16对于将液体保持在空间11中是有效的。该系统公开在第US2004-0207824号美国专利申请公开中。
在实施例中，光刻设备包括具有液体移除装置的液体限制结构，液体移除装置具有采用网格或类似多孔材料覆盖的入口。网格或类似多孔材料提供了接触投影系统的最终元件与可移动工作台(例如衬底台)之间的空间中的沉浸液体的二维孔洞阵列。在实施例中，网格或类似多孔材料包括蜂巢或其他多边形网格。在实施例中，网格或类似多孔材料包括金属网格。在实施例中，网格或类似多孔材料在光刻设备的投影系统的像场周围全程延伸。在实施例中，网格或类似多孔材料位于液体限制结构的底表面上并且具有朝向工作台的表面。在实施例中，网格或类似多孔材料具有总体与工作台的顶表面平行的其底表面的至少一部分。
许多其他类型液体供应系统是可能的。本发明既不限于任何特定类型的液体供应系统，又不限于沉浸式光刻。本发明可以等同地应用于任何光刻。在EUV光刻设备中，束路径基本上是抽真空的并且并未使用如上所述的沉浸设置。
控制系统或控制器500控制了光刻设备的整体操作并且特别地执行了如下进一步所述的控制方案。控制系统500可以体现为合适地编程的通用计算机，包括中央处理单元、易失性和非易失性存储装置、一个或多个输入和输出装置(诸如键盘和屏幕)、一个或多个网络连接以及至光刻设备的各个部件的一个或多个接口。应该知晓的是控制计算机与光刻设备之间的一对一关系并非是必须的。在本发明的实施例中，一个计算机可以控制多个光刻设备。在本发明的实施例中，多个联网计算机可以用于控制一个光刻设备。控制系统500也可以被配置为在光刻设备形成了其一部分的光刻单元或集群中控制一个或多个相关联的处理装置和衬底处理装置。控制系统500也可以被配置为从属于光刻单元或集群的监控控制系统和/或工厂的整个控制系统。
图3示出了根据本发明的实施例的图案形成装置支撑件的侧视图。总体上由附图标记1标记的图案形成装置支撑件包括长冲程部件2。长冲程部件2支撑了短冲程部件3，并且短冲程部件3支撑了图案形成装置保持结构或图案形成装置保持器4。图案形成装置保持结构或图案形成装置保持器4(例如掩模台)支撑了可交换物体，例如图案形成装置5。
长冲程部件2相对于例如框架(诸如例如度量框架)的参考物体6可移动地安装。提供长冲程致动器7以相对于参考物体6移动长冲程部件2。长冲程致动器7并未对参考物体6施加反作用力。提供短冲程致动器8以相对于长冲程部件2移动短冲程部件3。短冲程致动器8在相对于长冲程部件2定位短冲程部件3方面具有相对高的精度，但是具有受限的工作范围。长冲程致动器7具有大工作范围，通常为图案形成装置支撑件1的整体工作空间，以及具有相对低的精度。长冲程致动器8的主要任务是使得图案形成装置支撑件1的所需位置在短冲程致动器8的范围内，以使得短冲程致动器8可以以高精度定位图案形成装置5。
已经提供了位置测量系统11以测量短冲程部件3例如相对于参考物体6的位置。在实施例中，参考物体6是投影透镜PS或度量框架MF。位置测量系统11可以是能够以高精度测量短冲程部件3的位置的任何系统，诸如干涉仪系统或编码器测量系统。
为了将短冲程部件3与长冲程部件2的振动隔离，短冲程致动器8可以是具有低刚度的类型。该致动器例如是洛伦兹电动机。该类型致动器的输入是正比于所需的力的电流。对输入力的位置响应稍微有些延迟，因为计算延迟以及电子部件中的延迟。该效应与高阶动力学一起限制了短冲程控制回路的带宽，这接着限制了可实现的平台定位精度。在备选实施例中，短冲程致动器8可以是设置有磁通反馈的磁阻致动器(如US2012/0019794中所述，其通过整体引用并入本文)。
进一步注意的是力型短冲程致动器8也限制了从衬底台WT至图案形成装置支撑件1的可获得的前馈效应。在该前馈中，一个平台的位置误差两次微分以产生前馈力，这耗费了一个取样延迟。这导致其他平台的延迟响应，限制了平台相对于彼此的定位精度。
此外，由于短冲程致动器8的低刚度，在平台加速期间，短冲程部件3和图案形成装置保持器4的加速所需的全部力必须由短冲程致动器8施加。与此同时，短冲程致动器8必须能够以高精度施加小量力以进行短冲程部件3的精确定位。这使得对短冲程致动器8以及类似放大器的驱动电子器件的要求甚至更高。
随着对成像精度和产量的需求增大，进一步需要在诸如衬底或图案形成装置之类的可交换物体的定位中提高精度并且减少安置时间。
根据本发明的实施例，已经提出了超短冲程致动器9以引起在短冲程部件3与图案形成装置保持结构或图案形成装置保持器4之间的运动。在短冲程部件3与图案形成装置保持结构或图案形成装置保持器4之间设置一个或多个超短冲程致动器9。这些超短冲程致动器9具有相对高的刚度并且例如是压电元件，其在短冲程部件3与图案形成装置保持结构或图案形成装置保持器4之间产生运动。该运动通常小于约+100nm。
超短冲程致动器9可以具有相对较高的刚度，因为已经由短冲程致动器8以及可能的长冲程致动器7执行了长冲程振动的隔离。优选地，超短冲程致动器9是位置型致动器，也即其直接根据位置而响应。该位置型致动器的示例是压电元件，其给出形变作为电压或电荷的结果。
类似的图案形成装置支撑件描述在US2009/0201477中，通过整体引用将其并入本文。本发明涉及参照图5和图6所述的不同控制系统，参照图3、图8和图9描述的不同物理实施方式，以及参照图7所述的校准器。
在实施例中，图案形成装置保持器4是由超短冲程致动器9支撑在短冲程致动器3上的工作台。在实施例中，超短冲程致动器9一侧粘合至短冲程部件3而另一侧粘合至图案形成装置保持器4。超短冲程致动器9希望的为压电堆叠，希望的为剪切压电堆叠。在该实施例中，对于超短冲程致动器9可能的是支撑了图案形成装置保持器4和图案形成装置5的重量。压电堆叠可以是允许xy运动的剪切压电堆叠(平面中的运动垂直于设备的光轴O)。每个压电堆叠沿x和y方向均剪切。在实施例中，单独的压电堆叠可以提供用于仅沿x方向的运动以及仅沿y方向的运动。
图4示出了超短冲程致动器9的典型压电堆叠91的截面图。压电堆叠91包括绝缘材料，电极，以及用于剪切运动的剪切压电材料的至少一层。典型的厚度约为1mm。在图4的实施例中，外层22是具有典型0.1mm厚度的非活性材料(例如电绝缘的)。提供了三个电极层24、25、26。顶部两个电极24、25用于跨压电层32施加电势差，其可以用于沿x方向运动并且在顶部两个电极24、25之间。底部两个电极25、26提供用于跨第二压电层34施加电势差，第二压电层设置用于沿y方向的剪切运动并且在底部两个电极25、26之间。电极层24、25、26通常具有0.1mm的厚度，并且每个压电剪切层通常具有0.25mm的厚度。
在图案形成装置保持器4与短冲程致动器8之间定位超短冲程致动器9的优点在于可以由图案形成装置支撑件1的z支撑件(未示出)如正常实施运动学定位并且高xy刚度保持未变。
图5示出了用于图案形成装置支撑件1的控制方案。控制方案在单个或多个控制器的控制下实施，每个控制器可以是或者不是控制系统500的一部分。
在图5的实施例中，存在超短冲程致动控制器100以及短冲程致动器控制器200。提供用于短冲程部件3的所需位置的设置点SPrs作为输入信号。短冲程部件3的所需位置SPrs可以例如由控制系统500确定。使用了简单控制回路，该控制回路使用定位测量系统11以确定短冲程部件3的实际位置。在短冲程致动器控制器200的比较器255处从所需位置SPrs减去来自位置测量系统11的信号。比较器255的输出因此是关于短冲程部件3的位置误差的误差信号ers，该位置误差是短冲程部件3相对于参考物体6的所需位置与短冲程部件3相对于参考物体6的实际位置之间的差。该信号标注为ers并且提供至短冲程控制器250。短冲程控制器250基于该信号提供控制信号至短冲程致动器8以移动短冲程部件3更靠近所需位置。
衬底平台位置的误差可以通过减去衬底平台的实际位置(例如参照图1如上所述由位置传感器IF测得)与用于衬底平台的设置点(例如由控制系统500设置)而确定。衬底位置的误差是衬底位置误差ews，其是衬底/衬底平台相对于参考物体的所需位置与衬底/衬底平台相对于参考物体的实际位置之间的差。因为衬底台上衬底的位置是已知的，所以衬底台的位置误差ews可以假设为衬底W的位置误差。在实施例中，图5中的误差信号ews可以替代为衬底自身的位置误差而不是衬底平台的位置误差，尽管两个信号实际上表示了相同的误差。
在图5的实施例中，超短冲程致动器控制器100由两个控制部件构成。这包括了开环控制部件110和闭环控制部件150。开环和闭环控制部件110、150以及短冲程控制器250可以均为控制系统500的一部分或者可以是一起形成了控制器的单独控制部件。闭环控制部件150包括比较器155，并且需要使用位置测量装置160对图案形成装置5或图案形成装置保持器4的位置测量。在一个实施例中，仅使用开环控制110。在一个实施例中，仅使用闭环控制器150以及相关联的比较器和位置测量装置160。位置测量装置160测量图案形成装置5或图案形成装置保持器4相对于短冲程部件3的位置。因此，位置测量装置160测量了致动器9的运动的效果。备选地，位置测量系统160测量了图案形成装置5或图案形成装置保持器4相对于物体6的位置，并且图案形成装置5或图案形成装置保持器4相对于短冲程部件3的相对位置从位置测量11和160推导得到。
开环控制器110基于针对任何给定的所施加电压、电荷或电流的超短冲程致动器9的偏转量的知识而工作。可以使用参照图7如下所述的校准技术获得针对所施加电压、电荷或电流与位移之间关系的知识，或者可以例如由超短冲程致动器9的制造商提供该信息。知识或信息可以存储在开环控制器110的存储器上。在一些情形中，所施加电压、电荷或电流与位移之间的关系可以并非已知。在该情形中，开环控制器110可以包括乘法器111。乘法器111可以设置位置误差信号ews的乘法因子。例如使用1的乘法因子，其中所施加的电压或电流与位移之间的关系是众所周知的。较低的乘法因子可以应用于其中所施加电压和/或电流与位置之间关系鲜为人知的实施例中。乘法器111通常将位置误差信号ews的乘法因子设置在1和0.2之间。
闭环控制器150基于反馈而工作。控制器150施加控制信号至超短冲程致动器9。位置测量装置160记录了图案形成装置5和/或图案形成装置保持器4相对于短冲程部件3的位置改变。位置测量装置160提供信号至比较器155。比较器155从位置误差信号ews减去来自位置测量装置160的信号。以此方式，闭环控制器150基于反馈回路而调节了图案形成装置保持器4的位置。
在图5的实施例中，均实施了闭环控制器150和开环控制器110，来自两个控制器的信号由加法器170相加并且提供至超短冲程致动器9。
在图5的实施例中，超短冲程致动器控制器100因此专有地基于衬底位置误差ews并且可选地基于图案形成装置保持器相对于可移动结构的测量位置而控制了超短冲程致动器9。
如果仅使用开环控制器110，则仅基于衬底位置误差ews而控制超短冲程致动器9。在未使用闭环控制器150的情形中，由于图案形成装置5而引起的共振对于图案形成装置保持器4的刚度的有源阻尼并未发生。在该情形下，可以有利地由附加的阻尼装置来阻尼共振。在第一实施例中，这是通过产生与机械共振相同频率的电谐振并且因此将电能消散至电阻中而实现。在优选实施例中，无源RL阻尼网络与用于驱动压电致动器的电荷放大器组合。在第二实施例中，可以使用在超短冲程致动器9中的内部力反馈。这需要附加的压电堆叠91用作传感器并且向致动压电元件提供位置反馈。该压电堆叠可以通过参照图4所述组合两个压电堆叠91而实现。布置在图案形成装置保持器4与图案形成装置5之间的致动器压电元件和传感器压电元件的组合一起形成了提供有源阻尼的局部闭环控制系统。该附加的阻尼实施例是有利的，因为图案形成装置5/图案形成装置保持器4附近的所需空间可以在实际情形中限制。在第三实施例中，压电堆叠91同时用作压电致动器以及用作压电传感器。这可以通过在所施加的(驱动)电压顶部叠加高频检测电压而实现，其中检测电压的频率超过了所谓的尼奎斯特频率。基于检测电压，可以测量电容改变(例如使用LCR电桥)并且可以因此推导得到压电堆叠的位置(伸展或压缩)。如果备选地或附加地使用闭环控制器150，超短冲程致动器9仅基于衬底位置误差ews以及图案形成装置5和/或图案形成装置保持器4相对于短冲程部件3的测量位置而移动。以反馈方式使用后一信号。
在实施例中，超短冲程致动器控制器100使用开环控制器110和闭环控制器150的一个或两个，并且基于位置误差而不是衬底平台的位置误差移动超短冲程致动器9。位置误差可以是例如短冲程部件3的位置的误差。在图6的实施例中，超短冲程致动器控制器100具有衬底平台的误差ews以及短冲程部件的误差ers均作为其输入。
图6的实施例与图5的实施例除了如下所述之外相同。在图6的实施例中，短冲程致动器控制器200和超短冲程致动器100至少部分地基于衬底位置误差ews和短冲程部件误差ers而驱动它们相应的致动器。衬底平台误差ews和短冲程部件误差ers以与参照图5所述相同的方式计算。两个信号由加法器120、257相加在一起并且提供至对应的控制器100、250。超短冲程致动器控制器100可以随后根据参照图5所述的实施例采用开环控制器110和闭环控制器150的一个或两个以及来自位置测量装置160的位置测量信号而工作。
超短冲程致动器9的动态响应比短冲程致动器8的更好。然而，超短冲程致动器9的缺点在于对于大的工作范围(例如+/-200nm)滞后、非线性和漂移可以是难点。压电非线性是所施加电压、电荷或电流与位移之间的非线性关系，并且结果非线性可以导致控制压电致动器的极端困难。图6的实施例通过对于衬底平台位置误差ews使用超短冲程致动器9和短冲程致动器8校正而解决了这些问题。这具有将超短冲程致动器9的所需工作范围减小至约+/-50nm的优点，这减小了压电非线性、滞后性和漂移。
在实施例中，提供了高通滤波器130和低通滤波器140。设置这些以使得过滤了衬底位置误差ews(和/或短冲程部件3误差ers)，以使得由超短冲程致动器9处理具有高频率(例如在预定幅度之上)的误差分量，而由短冲程致动器8处理具有低频率(例如在预定幅度之下)的误差分量。这是有利的，因为其利用了每种类型致动器的强度。
以下表格示出了图6实施例的建模结果，该建模结果以三列示出了衬底的位置误差WS-x、仅使用短冲程致动器8以控制衬底平台位置误差的结果WR，original，以及在最右列中的对于图6的实施例的结果WR，Piezo addiditon。该模型假设短冲程部件3的位置没有误差(也即ers等于零)。第一行指示了图像位置的最大移动平均误差，第二行表示图像位置误差的最大移动标准偏差，以及下两行给出了两个误差的三个西格玛值。如可见，除了短冲程致动器8还使用超短冲程致动器9来校正衬底平台位置误差获得了重大改进。
[nm] WS-xWR，original WR<sub>+</sub>Piezo addition
MA max 3.730.95 0.05
MSD max 5.754.55 3.01
MA m+3s 2.250.58 0.03
MSD m+3s 4.334.49 3.27
闭环控制器150和开环控制器110均需要对于超短冲程致动器9而言关于位移与所施加电压或电流之间关系的一些信息。在实施例中，控制器100将已知的电压、电荷和/或电流施加至致动器9。监控来自位置测量装置160的信号以感测图案形成装置5和/或图案形成装置保持器4的运动的量。该信息可以存储在控制器100的存储器180中，并且可以由开环控制器110和/或闭环控制器150使用。
图7示意性示出了其中超短冲程致动器100可以包括可以在所施加电压、电荷和/或电流与超短冲程致动器9的位移之间建立关系的校准器170的不同方式。在实施例中，控制器100备选地或者附加地使用来自透射图像传感器(TIS)300而不是来自位置测量装置160的信号。透射图像传感器300可以例如提供在衬底台WT上。透射图像传感器300可以用于确定在施加之后在投影系统的下游(例如在衬底的水平面处)的图案化的辐射束的位置改变或者所施加至超短冲程致动器9的电压、电荷和/或电流的改变。该信息可以特别有用，其提供了在由控制器100施加至超短冲程致动器9的电压、电荷或电流与在衬底水平面处图案化的图像位置改变之间的直接链接。因此，关于衬底位置误差的信号可以与在图案化的图像的运动量的校准期间获得的数值、以及施加至超短冲程致动器9以校正位置误差的对应电压直接作比较。
通过整体引用并入本文的US2011/0222039中，公开了图案形成装置5弯曲的概念。在图8和图9的实施例中，超短冲程致动器9可以用于该系统中。该实施例中，超短冲程致动器9用于施加力至图案形成装置5以便于使其弯曲。在实施例中，在图案形成装置致动器400已经用于施加扭矩或力至图案形成装置5以便于使其弯曲(如图9所示和US2011/0222039所述)之后，超短冲程致动器9用于减小在图案形成装置保持器4和图案形成装置5之间的力。
如图8平面图所示，超短冲程致动器9可以实际上由多个压电堆叠91、92构成。在实施例中，各个压电堆叠91、92提供在物体保持器4的周界周围。例如，压电堆叠91、92可以等间距提供在周界周围。每个压电堆叠91、92可以由超短冲程致动器控制器100单独地控制。因此，为了施加力至图案形成装置5或者为了当由图案形成装置致动器400施加力至图案形成装置5时减小在图案形成装置5和图案形成装置保持器4之间的力，超短冲程致动器堆叠91、92可以用于在可移动构件4的周界周围施加非恒定力。在图9的示例中，使得图案形成装置保持器4由多个压电堆叠91、92沿着x方向径向向内移动以便于减小图案形成装置5与图案形成装置保持器4之间的力。这减小了在图案形成装置保持器4与图案形成装置5之间滑动的可能性；当图案形成装置5沿x方向弯曲时，图案形成装置5的端部之间沿x方向的距离变得较小。在不对应地减小图案形成装置5所贴附至的图案形成装置保持器4的部件之间的距离的情况下，可以在图案形成装置5和图案形成装置保持器4之间发生有害的滑动。
在附加或者备选实施例中，补偿了施加至图案形成装置5的热负载，其可以导致图案形成装置的热膨胀/收缩以及因此导致在图案形成装置5和图案形成装置保持器4之间产生力。这些力如上所述由压电堆叠91、92减小。该控制可能需要估算热膨胀/收缩的量，例如基于测得的温度分布或测得的应力/应变。
在实施例中，光刻设备可以包括编码器系统以测量设备的部件的位置、速率等等。在实施例中，部件包括衬底台。在实施例中，部件包括测量和/或清洁工作台。编码器系统可以添加至在此所述的干涉仪系统以用于工作台。编码器系统包括与刻度或者栅格相关联的例如成对的传感器、换能器或读取头。在实施例中，可移动部件(例如衬底台和/或测量和/或清洁工作台)具有一个或多个刻度或栅格，并且部件相对于其移动的光刻设备的框架具有一个或多个传感器、换能器或读取头。一个或多个传感器、换能器或读取头与刻度或栅格协作以确定部件的位置、速率等。在实施例中，部件相对于其移动的光刻设备的框架具有一个或多个刻度或栅格，并且可移动部件(例如衬底台和/或测量和/或清洁工作台)具有与刻度或栅格协作以确定部件的位置、速率等的一个或多个传感器、换能器或读取头。
如应该知晓的，任何上述特征可以与任何其他特征一起使用，并且不仅是本申请中所覆盖的明确所述的那些组合。
尽管在该文本中可以对于在IC制造中使用光刻设备做出具体参考，但是应该理解的是在此所述的光刻设备可以在制造具有微米级甚至纳米级特征的部件中具有其他应用，诸如集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头等的制造。本领域技术人员将知晓的是在该备选应用的上下文中，在此术语“晶片”或“裸片”的任何使用可以视作分别于更通用术语“衬底”或“目标部分”含义相同。可以在曝光之前或之后、在例如导轨(通常施加抗蚀剂层至衬底并且显影了已曝光抗蚀剂的工具)、度量工具和/或检查工具中处理在此涉及的衬底。当可应用时，在此本公开可以适用于这些其他衬底处理工具。此外，衬底可以处理多于一次，例如以便于形成多层IC，以使得在此使用的术语也涉及已经包含了多个已处理层的衬底。
在此使用的术语“辐射”和“束”包括所有类型的电磁辐射，包括紫外(UV)辐射(例如具有约365、248、193、157或126nm的波长)。
其中上下文允许的术语“透镜”可以涉及各种类型光学部件的任何一个或组合，包括折射和反射式光学部件。
尽管以上已经描述了本发明的具体实施例，但是应该知晓的是本发明可以与所述不同而实施。例如，本发明的实施例可以采取包含了描述如上所述方法的机器可读指令的一个或多个序列的计算机程序、或者具有计算机程序存储其中的数据存储媒介(例如半导体存储器、磁盘或光盘)的形式。此外，机器可读指令可以包括在两个或多个计算机程序中。两个或多个计算机程序可以存储在一个或多个不同存储器和/或数据存储媒介上。
如上所述控制器可以具有用于接收、处理和发送信号的任何合适的配置。例如，每个控制器可以包括用于执行包括了用于如上所述方法的机器可读指令的计算机程序的一个或多个处理器。控制器也可以包括用于存储这些计算机程序的数据存储媒介，和/或用于接收该媒介的硬件。
本发明的一个或多个实施例可以适用于任何沉浸式光刻设备，特别是但并非排他地如上所述的那些类型，不论沉浸液体以液浴、仅在衬底的局部表面区域上、或者在衬底和/或衬底台上未限制的形式而提供。在未限制的设置中，沉浸液体可以流动在衬底和/或衬底台的表面之上以使得衬底台和/或衬底的基本上整个未覆盖表面均润湿。在该未限制沉浸系统中，液体供应系统可以不限制沉浸液体，或者其可以提供一定比例的沉浸液体限制、但是并非基本上完全限制了沉浸液体。
如在此预期设计的液体供应系统应该广泛地构造。在某些实施例中，其可以是向投影系统与衬底和/或衬底台之间空间提供液体的机构或结构的组合。其可以包括一个或多个结构、一个或多个液体入口、一个或多个气体入口、一个或多个气体出口、和/或提供液体至空间的一个或多个液体出口的组合。在实施例中，空间的表面可以是衬底和/或衬底台的一部分，或者空间的表面可以完全覆盖衬底和/或衬底台的表面，或者空间可以包封衬底和/或衬底台。液体供应系统可以可选地进一步包括一个或多个元件以控制液体的位置、数量、质量、形状、流速或任何其他特征。
如上的说明书意在为示意性并非限定性。因此，对于本领域技术人员明显的是可以不脱离如下列出的权利要求的范围而对于所述本发明做出修改。

Claims (7)

1.一种光刻设备，包括：
图案形成装置支撑件，所述图案形成装置支撑件用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的截面中向所述辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，所述图案形成装置支撑件具有：相对于参考物体可移动地设置的可移动结构；相对于所述可移动结构可移动地设置的用于保持所述图案形成装置的图案形成装置保持器；用于相对于所述参考物体移动所述可移动结构的致动器；以及用于相对于所述可移动结构移动所述图案形成装置保持器的超短冲程致动器，其中所述超短冲程致动器的工作范围小于所述致动器的工作范围；
用于保持衬底的衬底支撑件；
投影系统，所述投影系统用于将所述图案化的辐射束投影至所述衬底的目标部分上；
位置测量系统，所述位置测量系统用于测量所述衬底相对于所述参考物体的实际位置并且确定衬底位置误差，所述衬底位置误差是所述衬底相对于参考物体的所需位置与所述衬底相对于所述参考物体的实际位置之间的差；以及
控制器，所述控制器用于至少部分地基于所述衬底位置误差而移动所述致动器和所述超短冲程致动器，
其中，所述位置测量系统附加地测量所述可移动结构相对于所述参考物体的实际位置并且确定可移动结构位置误差，所述可移动结构位置误差是所述可移动结构相对于所述参考物体的所需位置与所述可移动结构相对于所述参考物体的实际位置之间的差，并且
其中所述控制器附加地至少部分地基于所述可移动结构位置误差而移动所述超短冲程致动器。
2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述控制器附加地能够至少部分地基于所述可移动结构位置误差而移动所述致动器。
3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述控制器能够至少部分地基于具有在预定幅度之下的频率的所述衬底位置误差和/或所述可移动结构位置误差的分量而移动所述致动器，并且至少部分地基于具有在所述预定幅度之上的频率的所述衬底位置误差和/或所述可移动结构位置误差的分量而移动所述超短冲程致动器。
4.一种光刻设备，包括：
图案形成装置支撑件，所述图案形成装置用于支撑件支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的截面中向所述辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，所述图案形成装置支撑件具有：相对于参考物体可移动地设置的可移动结构；相对于所述可移动结构可移动地设置的用于保持所述图案形成装置的图案形成装置保持器；用于相对于所述参考物体移动所述可移动结构的致动器；以及用于相对于所述可移动结构移动所述图案形成装置保持器的超短冲程致动器，其中所述超短冲程致动器的工作范围小于所述致动器的工作范围；
用于保持衬底的衬底支撑件；
投影系统，所述投影系统用于将所述图案化的辐射束投影至所述衬底的目标部分上；
位置测量系统，所述位置测量系统用于测量所述衬底相对于所述参考物体的实际位置并且确定衬底位置误差，所述衬底位置误差是所述衬底相对于参考物体的所需位置与所述衬底相对于所述参考物体的实际位置之间的差；以及
控制器，所述控制器用于仅基于所述衬底位置误差移动所述超短冲程致动器，或者仅基于所述衬底位置误差以及所述图案形成装置保持器相对于所述可移动结构的测量位置移动所述超短冲程致动器，
其中，所述位置测量系统附加地能够测量所述可移动结构相对于所述参考物体的实际位置并且确定可移动结构位置误差，所述可移动结构位置误差是所述可移动结构相对于所述参考物体的所需位置与所述可移动结构相对于所述参考物体的实际位置之间的差，并且
其中所述控制器附加地能够至少部分地基于所述可移动结构位置误差而移动所述超短冲程致动器。
5.根据权利要求4所述的光刻设备，其中，所述控制器能够基于所述衬底位置误差和/或所述可移动结构位置误差并且以反馈方式基于所述图案形成装置保持器相对于所述可移动结构的所述测量位置移动所述超短冲程致动器。
6.根据权利要求4或5所述的光刻设备，其中，所述控制器包括用于基于所述衬底位置误差以开环方式移动所述超短冲程致动器的开环电路。
7.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述开环电路包括乘法器，所述乘法器用于将所述衬底位置误差的乘法因子设置为在1和0.2之间。
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