CN108500573A - 金属中框的表面处理方法、金属中框及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种金属中框的处理方法、金属中框及电子设备，金属中框的处理方法包括如下步骤：对本体部的外表面进行镜面抛光处理；对抛光处理后的本体部的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，以使本体部的外表面具有第一渐变色氧化膜；采用镭雕设备对设有第一渐变色氧化膜的镭雕区域进行镭雕，以在镭雕区域形成外观纹理；对具有外观纹理的镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，以使镭雕区域具有第二渐变色氧化膜。根据本申请的金属中框的表面处理方法，操作比较方便，不仅可以节省金属中框的加工成本，还可以提升金属中框的外观美观度，具有很强的实用性。

Description

金属中框的表面处理方法、金属中框及电子设备

技术领域

本申请涉及表面处理技术领域，尤其是涉及一种金属中框的表面处理方法、金属中框及电子设备。

背景技术

在相关技术中，电子设备设有金属中框，为提升电子设备的外观美观度，通常采用数控加工的方式在金属中框的表面上雕刻外观纹理。但是，当金属中框的尺寸较小时，需要选用尺寸很小的刀具进行雕刻，从而增大了加工难度。而且，金属中框通常具有弧形面，数控加工只能加工一些简单的外观纹理且外观纹理容易形成段差，不仅加工成本高，而且还将低了金属中框的外观美观度。

申请内容

本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种金属中框的表面处理方法，所述表面处理方法具有操作简单、节省加工成本且可以提升金属中框的外观美观度的优点。

本申请还提出了一种采用上述表面处理方法进行处理的金属中框，所述金属中框包括：本体部，所述本体部上设有镭雕区域。

本申请又提出了一种设有上述金属中框的电子设备。

根据本申请实施例的金属中框的表面处理方法，包括如下步骤：对所述本体部的外表面进行镜面抛光处理；对抛光处理后的所述本体部的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，以使所述本体部的外表面具有第一渐变色氧化膜；采用镭雕设备对设有所述第一渐变色层的所述镭雕区域进行镭雕，以在所述镭雕区域形成外观纹理；对具有外观纹理的所述镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，以使所述镭雕区域具有第二渐变色氧化膜。

根据本申请实施例的金属中框的表面处理方法，通过采用镭雕的方式在镭雕区域内形成外观纹理，不仅可以节省加工成本，还可以实现镭雕区域的外观纹理的多样化。通过对本体部进行第一次渐变色阳极氧化处理、对镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，可以使镭雕区域与本体部的其余外表面之间区分开，由此可以提升外观纹理的装饰效果，从而可以提升金属中框的外观美观度。

根据本申请实施例的金属中框，所述金属中框具有本体部，所述本体部包括基板和侧板，所述侧板从所述基板的外周沿的至少一部分相对所述基板向上延伸，所述侧板的至少一部分形成镭雕区域，所述本体部和所述镭雕区域采用根据本申请上述实施例的表面处理方法进行处理。

根据本申请实施例的金属中框，通过采用本申请上述实施例的表面处理方法对其本体部和镭雕区域进行处理，可以实现金属中框的多样化，从而可以提升金属中框的外观美观度。

根据本申请实施例的电子设备，包括根据本申请上述实施例的金属中框。

根据本申请实施例的电子设备，通过设置上述金属中框，可以使电子设备的外观更加协调、美观度更高，从而可以满足用户的审美需求，使电子设备具有更强的市场竞争力。

本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本申请实施例的表面处理方法的流程示意图；

图2是根据本申请实施例的金属中框的整体结构示意图；

图3是根据本申请第一实施例的镭雕区域的外观纹理图；

图4是根据本申请第二实施例的镭雕区域的外观纹理图；

图5是根据本申请第三实施例的镭雕区域的外观纹理图；

图6是图5中A圈示部分的局部放大图；

图7是根据本申请实施例的金属中框的镭雕状态示意图；

图8是根据本申请实施例的金属中框的本体部进行渐变色阳极氧化处理的状态示意图；

图9是根据本申请实施例的金属中框的镭雕区域进行单色阳极氧化处理的状态示意图；

图10是根据本申请实施例的电子设备的结构示意图。

附图标记：

金属中框100，

本体部1，

基板11，侧板12，镭雕区域12a，外观纹理12b，

电子设备200，

镭雕设备300，

镭雕光束301，

电解槽400，

电解溶液401。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。

下面参考图1-图10描述根据本申请实施例的金属中框100的表面处理方法。其中，金属中框100可以包括本体部1，本体部1上可以设有镭雕区域12a。

如图1所示，根据本申请实施例的金属中框100的表面处理方法，包括如下步骤：

可以对本体部1的外表面进行镜面抛光处理，由此可以使金属中框100的外表面具有镜面光泽，提升金属中框100的外观美观度。可选地，镜面抛光可以包括机械镜面抛光和化学镜面抛光。机械镜面抛光可以包括粗磨和细磨两个工序。在粗磨工序中，可以采用砂轮和/或砂纸对本体部1粗糙的外表面上的凸起和凹坑进行打磨以对本体部1进行整形。在细磨工序中，可以采用抛光布和抛光膏相组合的方式对本体部1的外表面进行打磨，经过反复打磨后可以去除本体部1上细微的划痕和凹坑，由此可以使本体部1 的表面更加平整且具有镜面光泽。化学镜面抛光可以通过将金属中框100放置在化学溶液中，通过金属中框100与化学溶液发生化学反应以使本体部1的表面平整且具有镜面光泽。

可以对抛光处理后的本体部1的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，由此可以使本体部1的外表面具有第一渐变色氧化膜。具体而言，当对本体部1进行第一渐变色阳极氧化处理时，可以在电解溶液401内放置不同颜色的染料并搅拌均匀。当本体部1 在电解溶液401内进行电解时，可以控制本体部1上不同区域的电解时间来改变该区域的表面颜色。例如，可以将金属中框100放置在移动支架(图未示出)上，移动支架可以带动金属中框100在空间内进行移动。可以首先将本体部1全部放置在电解溶液401 内，然后可以采用匀速运动的方式将本体部1从电解溶液401内取出，也可以采用变速运动的方式将本体部1从电解溶液401内取出。本体部1从电解溶液401内取出时的运动形式、运动方向等均可以改变渐变色氧化膜的表面颜色，由此可以实现本体部1的外表面的多样化，可以提升金属中框100的外观美观度。

可以采用镭雕设备300对镭雕区域12a进行镭雕，由此可以在镭雕区域12a内形成外观纹理12b。具体而言，镭雕又称激光雕刻或者激光打标，镭雕设备300可以发出镭雕光束301，高能量的镭雕光束301可以聚焦在镭雕区域12a上，镭雕光束301可以使镭雕区域12a内的材料氧化以在镭雕区域12a表面形成痕迹，由此可以根据实际的需求将镭雕出的痕迹设计成多种多样的形状以形成外观纹理12b，从而可以提升金属中框100 的外观美观度。例如，如图4-图7所示，镭雕区域12a的外观纹理12b可以为直线形纹理，可以为波浪形纹理，还可以为渐变分布的纹理，可以根据实际的使用需求选择设置。

可以理解的是，采用镭雕工艺对镭雕区域12a进行加工形成外观纹理12b，可以根据金属中框100的尺寸和放置角度灵活调整镭雕光束301的角度，从而可以减小外观纹理12b的加工难度，可以在金属中框100的复杂曲面上加工多种形状的外观纹理12b，从而实现了镭雕区域12a的外观纹理12b的多样化。而且，镭雕的加工成本较低，稳定性高，不仅可以节省金属中框100的加工成本，还可以提升外观纹理12b的表面效果，提升金属中框100的产品良率。

可以对具有外观纹理12b的镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，由此可以使镭雕区域12a具有第二渐变色氧化膜。具体而言，可以将本体部1上除了镭雕区域 12a以外的区域贴覆一层防电解保护膜。当对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理时，电解槽400内设有阴极，金属中框100可以作为阳极，分别对阴极和金属中框 100进行通电，移动支架可以带动金属中框100移动以使镭雕区域12a全部浸泡在电解溶液401内。然后可以采用匀速运动的方式将镭雕区域12a从电解溶液401内取出，也可以采用变速运动的方式将镭雕区域12a从电解溶液401内取出。镭雕区域12a从电解溶液401内取出时的运动形式、运动方向等均可以改变第二渐变色氧化膜的表面颜色。

可选地，第一渐变色氧化膜和第二渐变色氧化膜的颜色分布形式可以不同。例如，第一渐变色氧化膜可以为单一颜色的渐变分布。第一渐变色氧化膜可以为红色，在从左往右的方向上，第一渐变色氧化膜的表面颜色越来越深。第二渐变色氧化膜可以形成为多种颜色的渐变分布。第二渐变色氧化膜可以具有红黄蓝三种颜色，在从左往右的方向上，第二渐变色氧化膜可以具有顺序分布的红色区域、黄色区域和蓝色区域，每个区域内的颜色分布可以为渐变的。需要进行说明的是，上述描述仅是示例性的，第一渐变色氧化膜和第二渐变色氧化膜的表面颜色分布可以为多种形式，可以根据实际的设计需求选择设置，本申请对此不做具体限制。

下面参考图1以一个具体实施例详细描述本申请的金属中框100的表面处理方法。

首先，可以采用机械镜面抛光的方式对本体部1的外表面进行镜面抛光处理，由此可以使本体部1的外表面具有镜面光泽。接着可以对金属中框100进行清洗，由此可以将金属中框100上的污渍和油污清洗干净，将金属中框100进行晾干处理。

其次，将金属中框100固定在移动支架上，在电解槽400内放入电解溶液401，电解槽400内设有专门的阴极，将金属中框100作为阳极，分别对阴极和金属中框100进行通电。移动支架可以带动本体部1移动至电解溶液401内，采用至上而下匀速运动的方式对本体部1进行第一渐变色阳极氧化处理，由此可以在本体部1上形成一层具有渐变色的第一渐变色氧化膜。其中，第一渐变色氧化膜的表面颜色为红色，在从左往右的方向上，第一渐变色氧化膜的表面颜色越来越深。

然后，采用镭雕设备300对镭雕区域12a进行镭雕，镭雕光束301可以破坏掉镭雕区域12a表面的第一渐变色氧化膜，由此可以在镭雕区域12a内形成具有一定形状的外观纹理12b。

最后，可以将本体部1上除了镭雕区域12a以外的区域贴覆一层防电解保护膜。电解槽400内设有阴极，分别对阴极和金属中框100进行通电，移动支架可以带动金属中框100移动以使镭雕区域12a全部浸泡在电解溶液401内，然后可以采用加速运动的方式将镭雕区域12a从电解溶液401内取出，由此往复循环以在镭雕区域12a内形成一层具有渐变色的第二渐变色氧化膜。其中，第二渐变色氧化膜的表面颜色包括四种颜色，在从左往右的方向上，四个颜色区域均匀顺序分布，每个颜色区域内的颜色分布形式均形成为渐变分布。

由此，通过上述设置，采用首先对金属中框100的整体进行第一渐变色阳极氧化处理、然后对镭雕区域12a进行第二渐变色阳极氧化处理的方式，可以使镭雕区域12a与本体部1的其余外表面之间形成明显的区分，用户可以很直观的观察到镭雕区域12a的外观纹理12b。而且，镭雕区域12a表面的第二渐变色氧化膜还可以使镭雕区域12a的外观美观度更高，从而可以提升金属中框100的外观美观度。

根据本申请实施例的金属中框100的表面处理方法，通过采用镭雕的方式在镭雕区域12a内形成外观纹理12b，可以减小外观纹理12b的加工难度，可以在金属中框100 的复杂曲面上加工外观纹理12b，不仅可以节省加工成本，还可以实现镭雕区域12a的外观纹理12b的多样化。通过对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理、对镭雕区域 12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，可以使镭雕区域12a与本体部1的其余外表面之间区分开，由此可以提升外观纹理12b的装饰效果，从而可以提升金属中框100的外观美观度。

如图3所示，根据本申请的一些实施例，本体部1可以具有相互垂直的长度方向(如图3所示的左右方向)和宽度方向(如图3所示的前后方向)，可以在本体部1的长度方向上对本体部1的外表面和镭雕区域12a中的至少一个进行渐变色阳极氧化处理。也就是说，可以在本体部1的长度方向上对本体部1的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，也可以在本体部1的长度方向上对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，还可以首先在本体部1的长度方向上对本体部1的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理、然后在本体部1的长度方向上对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理。由此，通过上述设置，可以实现第一渐变色氧化膜和第二渐变色氧化膜的多样化分布，从而可以提升金属中框100的外观美观度。

如图3所示，根据本申请的一些实施例，本体部1可以具有相互垂直的长度方向(如图3所示的左右方向)和宽度方向(如图3所示的前后方向)，可以在本体部1的宽度方向上对本体部1的外表面和镭雕区域12a中的至少一个进行渐变色阳极氧化处理。也就是说，可以在本体部1的宽度方向上对本体部1的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，也可以在本体部1的宽度方向上对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，还可以首先在本体部1的宽度方向上对本体部1的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理、然后在本体部1的宽度方向上对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理。由此，通过上述设置，可以实现第一渐变色氧化膜和第二渐变色氧化膜的多样化分布，从而可以提升金属中框100的外观美观度。

可选地，本体部1外表面上的第一渐变色氧化膜可以为单一颜色渐变分布。例如，第一渐变色氧化膜可以为红色，在从左往右的方向上，第一渐变色氧化膜的表面颜色越来越深。当然，本体部1上的第一渐变色氧化膜也可以形成为多种颜色的渐变分布，例如，第一渐变色氧化膜可以具有红黄蓝三种颜色，在从左往右的方向上，第一渐变色氧化膜可以具有顺序分布的红色区域、黄色区域和蓝色区域，每个区域内的颜色分布可以为渐变的，由此可以实现本体部1的外表面颜色的多样化、金属中框100的美观度更高。

如图3所示，根据本申请的一些实施例，根据本申请的一些实施例，本体部1可以具有相互垂直的长度方向(如图3所示的左右方向)和宽度方向(如图3所示的前后方向)，本体部1可以沿本体部1的长度方向进行第一次渐变色阳极氧化处理，可以沿与本体部1的长度方向和宽度方向具有夹角的方向对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，由此可以使镭雕区域12a和本体部1的其他外表面之间存在区分度，从而可以提升外观纹理12b的装饰效果。

例如，在本申请的一个具体示例中，本体部1可以沿左右方向进行第一次渐变色阳极氧化处理，镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理的方向与左右方向成60度夹角、与前后方向成30度夹角。

可选地，镭雕区域12a外表面上的第二渐变色氧化膜可以为单一颜色渐变分布。例如，第二渐变色氧化膜可以为黄色，在从左往右的方向上，第二渐变色氧化膜的表面颜色越来越深。当然，镭雕区域12a上的第二渐变色氧化膜也可以形成为多种颜色的渐变分布，例如，第二渐变色氧化膜可以具有绿黄蓝三种颜色，在从上往下的方向上，第二渐变色氧化膜可以具有顺序分布的绿色区域、黄色区域和蓝色区域，每个区域内的颜色分布可以为渐变的，由此可以实现镭雕区域12a的外表面颜色的多样化、金属中框100 的美观度更高。

根据本申请的一些实施例，可以从本体部1的中间位置分别朝向本体部1的外表面的两端进行第一次渐变色阳极氧化处理。也就是说，可以从本体部1的中间位置朝向本体部1的左右方向的两端对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理，也可以从本体部 1的中间位置朝向本体部1的前后方向的两端对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理，由此可以实现本体部1的外表面的多样化。

当然可以理解的是，本体部1进行第一次渐变色阳极氧化的形式不仅限于此。例如，可以仅从本体部1的中间位置朝向本体部1的左端对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理，也可以仅从本体部1的中间位置朝向本体部1的右端对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理，还可以仅从本体部1的中间位置朝向本体部1的前端对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理，又可以仅从本体部1的中间位置朝向本体部1的后端对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理。

根据本申请的一些实施例，可以从镭雕区域12a的中间位置分别朝向镭雕区域12a的两端对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理。也就是说，可以从镭雕区域12a 的中间位置朝向镭雕区域12a的左右方向的两端对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，也可以从镭雕区域12a的中间位置朝向镭雕区域12a的上下方向的两端对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，由此可以实现镭雕区域12a的外表面的多样化。

当然可以理解的是，镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化的形式不仅限于此。例如，可以仅从镭雕区域12a的中间位置朝向镭雕区域12a的左端对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，也可以仅从镭雕区域12a的中间位置朝向镭雕区域12a的右端对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，还可以仅从镭雕区域12a的中间位置朝向镭雕区域12a的上端对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理，又可以仅从镭雕区域12a的中间位置朝向镭雕区域12a的后端对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理。

需要进行说明的是，在本申请的上述描述中，术语“中心”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。上述描述中的“多个”的含义是两个或两个以上。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

如图8所示，根据本申请的一些实施例，控制镭雕设备300发出的镭雕光束301与镭雕区域12a之间可以具有夹角α，α满足：30°≤α≤60°，由此可以提升外观纹理 12b的镭雕效果。可以理解的是，镭雕区域12a可以具有复杂的曲面，如果镭雕光束301 以垂直镭雕区域12a的方向对镭雕区域12a进行镭雕，镭雕光束301的能量不能完全作用的镭雕区域12a上，由此不仅影响外观纹理12b的镭雕效果，还降低了镭雕设备300 的工作效率。

通过在镭雕光束301与镭雕区域12a之间设置夹角α，30°≤α≤60°，可以提升镭雕设备300的镭雕效率和镭雕效果，可以使镭雕后的外观纹理12b分布更加均匀、表面更加平滑。可选地，镭雕后的外观纹理12b的外表面可以形成为镜面，也可以形成为磨砂面，可以通过控制镭雕设备300的工艺参数以控制外观纹理12b的表面效果。可选地，α可以为45°。

在本申请的一些实施例中，镭雕设备300的镭雕功率可以为P、镭雕速度可以为v、镭雕频率可以为f，其中，40W≤P≤60W，1500mm/s≤v≤2000mm/s，25khz≤f≤45khz，由此可以提升镭雕区域12a内的外观纹理12b的镭雕效果。

具体而言，当镭雕设备300的镭雕功率过大时，作用在镭雕区域12a上的能量太大，镭雕区域12a内会出现烧焦的情况。当镭雕设备300的镭雕功率过小时，作用在镭雕区域12a上的能量太小，外观纹理12b的深度太小，从而影响了外观纹理12b的显示效果。当镭雕设备300的镭雕速度太大时，单位时间内作用在镭雕区域12a上的镭雕光束301 的能量太少，外观纹理12b的深度太小，从而影响了外观纹理12b的显示效果。当镭雕设备300的镭雕速度太小时，单位时间内作用在镭雕区域12a上的镭雕光束301的能量太多，镭雕区域12a内会出现烧焦的情况。当镭雕设备300的镭雕频率太大时，单位时间内喷出的镭雕光束301量增大，镭雕区域12a内会出现烧焦的情况。同理，当镭雕设备300的镭雕频率太小时，会出现外观纹理12b镭雕不充分、显示效果差的问题。经发明人多次试验验证，当40W≤P≤60W、1500mm/s≤v≤2000mm/s、25khz≤f≤45khz时，镭雕设备300的镭雕出的外观纹理12b清晰度高、表面光滑。可选地，镭雕功率P可以为50W、镭雕速度v可以为1800mm/s、镭雕频率f可以为30khz。

如图3所示，根据本申请实施例的金属中框100，可以具有本体部1，本体部1可以包括基板11和侧板12，侧板12可以从基板11的外周沿的至少一部分相对基板11向上延伸，侧板12的至少一部分可以形成为镭雕区域12a，本体部1和镭雕区域12a可以采用根据本申请上述实施例的表面处理方法进行处理。

例如，在图3所示的具体示例中，金属中框100的本体部1包括基板11和侧板12，侧板12相对于基板11向上延伸并形成为闭环形。其中，侧板12的外表面上设有镭雕区域12a。可以首先对金属中框100进行镜面抛光处理；然后对本体部1进行第一次渐变色阳极氧化处理，由此可以在本体部1的外表面上形成第一渐变色氧化膜，接着可以采用镭雕设备300对镭雕区域12a进行镭雕，由此镭雕光束301可以破坏镭雕区域12a 内的第一渐变色氧化膜以形成外观纹理12b，最后可以对镭雕区域12a进行第二次渐变色阳极氧化处理以在镭雕区域12a表面形成第二渐变色氧化膜，第一渐变色氧化膜和第二渐变色氧化膜的颜色分布不同。由此可以使镭雕区域12a与本体部1的其余外表面之间具有区分度，从而可以提升外观纹理12b的显示效果。

根据本申请实施例的金属中框100，通过采用本申请上述实施例的表面处理方法对其本体部1和镭雕区域12a进行处理，可以实现金属中框100的多样化，从而可以提升金属中框100的表面美观度。

在本申请的一些实施例中，金属中框100可以为铝材料件。可以理解的是，铝材料件的生产成本较低，而且铝材料方便加工，可以采用机械冲压和数控加工相结合的方式进行制作金属中框100，从而可以提升金属中框100的加工效率。可选地，铝材料件可以为6系铝(主要包括镁元素和硅元素)，也可以为7系铝(主要包括锌元素)。

根据本申请实施例的电子设备200，可以包括根据本申请上述实施例的金属中框100。示例性的，电子设备200可以为移动或便携式并执行无线通信的各种类型的计算机系统设备中的任何一种(图10中所示的手机)。具体的，电子设备200可以为移动电话或智能电话(例如，基于iPhone TM，基于Android TM的电话)，便携式游戏设备(例如Nintendo DSTM，PlayStation Portable TM，Gameboy Advance TM，iPhone TM)、膝上型电脑、PDA、便携式互联网设备、音乐播放器以及数据存储设备，其他手持设备以及诸如手表、入耳式耳机、吊坠、头戴式耳机等。

根据本申请实施例的电子设备200，通过设置上述金属中框100，可以使电子设备200的外观更加协调、美观度更高，从而可以满足用户的审美需求，具有更强的市场竞争力。

下面参考图2-图6、图7-图9详细描述根据本申请具体实施例的金属中框100及其表面处理方法。其中，该金属中框100可以用于手机中。值得理解的是，下面描述仅是示例性的，而不是对本申请的具体限制。

如图3-图6所示，根据本申请实施例的金属中框100，包括本体部1，本体部1的底部设有基板11，基板11的外周沿部分相对基板11向上延伸以形成闭环形的侧板12，侧板12上设有镭雕区域12a。

其次，将金属中框100固定在移动支架上，在电解槽400内放入电解溶液401，电解槽400内设有专门的阴极，将金属中框100作为阳极，分别对阴极和阳极进行通电。移动支架可以带动本体部1移动至电解溶液401内，采用至上而下匀速运动的方式对本体部1进行第一渐变色阳极氧化处理，由此可以在本体部1上形成一层具有渐变色的第一渐变色氧化膜。其中，第一渐变色氧化膜的表面颜色为红色，在从左往右的方向上，第一渐变色氧化膜的表面颜色越来越深。

然后，采用镭雕设备300对镭雕区域12a进行镭雕，镭雕光束301可以破坏掉镭雕区域12a表面的第一渐变色氧化膜，由此可以在镭雕区域12a内形成具有一定形状的外观纹理12b。其中，镭雕设备300发出的镭雕光束301与镭雕区域12a之间的夹角α＝60°，镭雕功率P＝45W、镭雕速度v＝1700mm/s、镭雕频率f＝30khz。

最后，可以在本体部1上除了镭雕区域12a以外的区域贴覆一层防电解保护膜。电解槽400内设有阴极，分别对阴极和金属中框100进行通电，移动支架可以带动金属中框100移动以使镭雕区域12a全部浸泡在电解溶液401内，然后可以采用加速运动的方式将镭雕区域12a从电解溶液401内取出，由此往复循环以在镭雕区域12a内形成一层具有渐变色的第二渐变色氧化膜。其中，第二渐变色氧化膜的表面颜色包括红、绿、黄、篮四种颜色，在从左往右的方向上，四个颜色区域均匀顺序分布，每个颜色区域内的颜色分布均形成为渐变分布。

由此，通过上述设置，采用首先对金属中框100整体进行第一渐变色阳极氧化处理、然后对镭雕区域12a进行第二渐变色阳极氧化处理的方式，可以使镭雕区域12a与本体部1的其余外表面之间形成明显的区分，用户可以很直观的观察到镭雕区域12a的外观纹理12b。而且，镭雕区域12a表面的第二渐变色氧化膜还可以使镭雕区域12a的外观美观度更高，从而可以提升金属中框100的外观美观度。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本申请的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本申请的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本申请的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (12)

1.一种金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述金属中框包括：本体部，所述本体部上设有镭雕区域，所述金属中框的表面处理方法包括如下步骤：

对所述本体部的外表面进行镜面抛光处理；

对抛光处理后的所述本体部的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，以使所述本体部的外表面具有第一渐变色氧化膜；

采用镭雕设备对设有所述第一渐变色氧化膜的所述镭雕区域进行镭雕，以在所述镭雕区域形成外观纹理；

对具有外观纹理的所述镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，以使所述镭雕区域具有第二渐变色氧化膜。

2.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和宽度方向，在所述长度方向上对所述本体部的外表面和所述镭雕区域中的至少一个进行渐变色阳极氧化处理。

3.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和宽度方向，在所述宽度方向上对所述本体部的外表面和所述镭雕区域中的至少一个进行渐变色阳极氧化处理。

4.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和宽度方向，所述本体部沿所述长度方向进行第一次渐变色阳极氧化处理，沿与所述长度方向和所述宽度方向具有夹角的方向对所述镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理。

5.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和宽度方向，所述本体部沿所述宽度方向进行渐变色阳极氧化处理，沿与所述长度方向和所述宽度方向具有夹角的的方向进行第二次渐变色阳极氧化处理。

6.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，从所述本体部的中间位置分别朝向所述本体部的外表面的两端进行第一次渐变色阳极氧化处理。

7.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，从所述镭雕区域的中间位置分别朝向所述镭雕区域的两端进行第二次渐变色阳极氧化处理。

8.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，控制所述镭雕设备发出的镭雕光束与所述镭雕区域之间具有夹角α，α满足：30°≤α≤60°。

9.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述镭雕设备的镭雕功率为P、镭雕速度为v、镭雕频率为f，其中，40W≤P≤60W，1500mm/s≤v≤2000mm/s，25khz≤f≤45khz。

10.一种金属中框，其特征在于，所述金属中框具有本体部，所述本体部包括基板和侧板，所述侧板从所述基板的外周沿的至少一部分相对所述基板向上延伸，所述侧板的至少一部分形成镭雕区域，所述本体部和所述镭雕区域采用根据权利要求1-9中任一项所述的表面处理方法进行处理。

11.根据权利要求10所述的金属中框，其特征在于，所述金属中框为铝材料件。

12.一种电子设备，其特征在于，包括根据权利要求10-11中任一项所述的金属中框。