CN108130578A - 金属镜面logo制作工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种金属镜面LOGO制作工艺，包括抛光产品表面、第一次阳极氧化形成氧化膜、遮蔽保护、激光打标、脱模、喷砂打磨、化抛和第二次阳极氧化形成氧化膜。本发明采用激光技术，LOGO的字体边缘整齐，无危害物质，生产效率快。

Description

金属镜面LOGO制作工艺
技术领域
本发明涉及镜面标识的制作，尤其涉及一种金属镜面LOGO的制作工艺。
背景技术
金属镜面标识即镜面LOGO，是在金属表面进行加工形成预设图形的一种现代化工艺产物。目前的金属镜面标识普遍采用曝光显影制作完成，经过药水蚀刻来完成LOGO制作，制作的LOGO有以下不足之处：
1、字体边缘不齐，有锯齿状；
2、药水蚀刻是有毒，腐蚀性的，容易造成环境污染；
3、生产周期较长。
为了解决现有技术中存在的不足，需要对金属镜面LOGO的制作工艺进行改进。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于提供一种LOGO清晰，制造过程无污染的金属镜面LOGO制作工艺，以克服现有技术上的缺陷。
为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种金属镜面LOGO制作工艺，包括以下步骤：
S1、抛光，使用背绒海绵砂和气动研磨机对金属产品表面进行底纹前期处理，最终达到的光泽度为800～1000GU；
S2、第一次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚3～4微米，电解后进行水洗；
S3、遮蔽，将稀释剂和油墨按照13/100～15/100的比例混合搅拌形成遮蔽剂，搅拌后涂抹在金属产品表面，静置15-30min；
S4、激光打标，使用紫外线激光机在金属产品涂抹遮蔽剂的位置进行打标造型，形成LOGO；
S5、脱模，使用碱液对金属产品清洗；
S6、喷砂，对金属产品进行喷砂；
S7、化抛，抛光时间为60～70秒；
S8、第二次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚8～12微米，电解后进行水洗。
优选地，S1中，底纹前期处理打磨8～9次。
优选地，S1中，在底纹前期处理结束后，先使用粗抛皮、气动研磨机、粗抛蜡对金属产品表面进行去底纹粗抛光处理，然后使用精抛皮、气动研磨机、精抛蜡对金属产品表面进行精抛光处理，最终达到的光泽度为800～1000GU。
进一步地，粗抛皮的粗糙度为750～850目，粗抛15～16次，精抛皮的粗糙度为1150～1250目，精抛24～26次。
优选地，S2中，电解后浸泡四道水洗，每次水洗时间不少于30秒。
优选地，S3中，遮蔽剂涂抹在金属产品的厚度为0.2～0.3毫米。
优选地，在S5中，清洗时间为25～30秒。
如上所述，本发明金属镜面LOGO制作工艺，具有以下有益效果：
本发明采用激光技术，LOGO的字体边缘整齐，无危害物质，生产效率快。在实际操作是，通过两次阳极氧化有效保证产品表面的硬度和耐磨性，提高产品质量。而通过遮蔽剂对LOGO起到保护作用，也起到了一定的吸附作用。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图。
图中：S1～S8为具体步骤。
具体实施方式
说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应落在本发明所揭示的技术内容所能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“前”、“后”、“中间”等用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。
如图1所示，本发明为一种金属镜面LOGO制作工艺，包括以下步骤：
S1、抛光。
(1)使用背绒海绵砂和气动研磨机对金属产品表面进行底纹前期处理，底纹前期处理打磨8～9次，每片金属产品的打磨时间为25～40秒。
(2)在底纹前期处理结束后，使用粗抛皮、气动研磨机、粗抛蜡对金属产品表面进行去底纹粗抛光处理，粗抛皮的粗糙度为750～850目，粗抛15～16次，每片金属产品的打磨时间为110～130秒。粗抛皮优选采用800目，粗抛15次。
(3)使用精抛皮、气动研磨机、精抛蜡对金属产品表面进行精抛光处理，精抛皮的粗糙度为1150～1250目，精抛24～26次，每片金属产品的打磨时间为300～320秒。精抛皮优选采用1200目，粗抛25次。通过粗抛光和精抛光让金属产品的表面最终达到的光泽度为800～1000GU。
S2、第一次阳极氧化。
将金属产品放入电解液中进行电解，电压9～11V，电解时间为900～1000秒，电解液温度16～18度，阳极膜厚3～4微米，电解后进行水洗。在优选方式中，电解后浸泡四道水洗，每次水洗时间不少于30秒，从而有效保证镜面效果。通过本次阳极氧化，对金属产品的表面进行耐磨性和硬度的提高，为后续激光造型做好准备，避免激光造型时对打标的位置造成过大损伤，影响整体的视觉效果和打标质量。
S3、遮蔽。
将稀释剂和油墨按照13/100～15/100的比例混合搅拌形成遮蔽剂，搅拌后涂抹在金属产品表面，静置15-30min；遮蔽剂涂抹在金属产品的厚度为0.2～0.3毫米。遮蔽是对金属产品在后续激光切割时起到保护作用。同时，因为遮蔽剂有一定的粘性，还能起到一定的吸附作用，在后续激光打标时产生的微小颗粒能够粘在遮蔽剂上，减少对环境的污染。
S4、激光打标。
使用紫外线激光机在金属产品涂抹遮蔽剂的位置进行打标造型，进而形成LOGO。在优选方式中，LOGO的轮廓经过4～5次重复造型，每次的速度为34～36(毫米/秒)，电流1～2A，频率20～25KHz。激光打标的优点在于能够加工各种形状，包括圆弧和直角等，而且对环境无危害。
S5、脱模。
使用碱液对打标造型后的金属产品进行清洗，去除表面的遮蔽剂，清洗时间为25～30秒。
S6、喷砂。
对金属产品的表面进行喷砂，喷砂的作用的对切割位置的附近进行打磨处理。砂材型号为150号铁砂，喷砂压力为1.6～1.8kg，输送速度为10～11Hz，RA值1.1～18。
S7、化抛。
抛光时间为60～70秒，确保LOGO不会与金属产品发生断层。
S8、第二次阳极氧化。
将金属产品放入电解液中进行电解，电压12～13V，电解时间为900～1000秒，电解液温度16～18度，阳极膜厚8～12微米，电解后进行水洗。
通过两次阳极氧化，提高表面硬度和耐磨性。
本发明主要用于铝合金。
综上所述，本发明金属镜面LOGO制作工艺，有效克服了现有技术中的一些实际问题从而有很高的利用价值和使用意义。
上述实施方式仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。本发明还有许多方面可以在不违背总体思想的前提下进行改进，对于熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，可对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (7)

1.一种金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、抛光，使用背绒海绵砂和气动研磨机对金属产品表面进行底纹前期处理，最终达到的光泽度为800～1000GU；
S2、第一次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚3～4微米，电解后进行水洗；
S3、遮蔽，将稀释剂和油墨按照13/100～15/100的比例混合搅拌形成遮蔽剂，搅拌后涂抹在金属产品表面，静置15-30min；
S4、激光打标，使用紫外线激光机在金属产品涂抹遮蔽剂的位置进行打标造型，形成LOGO；
S5、脱模，使用碱液对金属产品清洗；
S6、喷砂，对金属产品进行喷砂；
S7、化抛，抛光时间为60～70秒；
S8、第二次阳极氧化，将金属产品放入电解液中进行电解，电解时间为900～1000秒，阳极膜厚8～12微米，电解后进行水洗。
2.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S1中，底纹前期处理打磨8～9次。
3.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S1中，在底纹前期处理结束后，先使用粗抛皮、气动研磨机、粗抛蜡对金属产品表面进行去底纹粗抛光处理，然后使用精抛皮、气动研磨机、精抛蜡对金属产品表面进行精抛光处理，最终达到的光泽度为800～1000GU。
4.根据权利要求3所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：粗抛皮的粗糙度为750～850目，粗抛15～16次，精抛皮的粗糙度为1150～1250目，精抛24～26次。
5.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S2中，电解后浸泡四道水洗，每次水洗时间不少于30秒。
6.根据权利要求5所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：S3中，遮蔽剂涂抹在金属产品的厚度为0.2～0.3毫米。
7.根据权利要求1所述的金属镜面LOGO制作工艺，其特征在于：在S5中，清洗时间为25～30秒。
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