CN109676327A - 一种金属件高光镜面logo制作工艺 - Google Patents
一种金属件高光镜面logo制作工艺 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及镜面标识的制作，尤其涉及一种金属件高光镜面LOGO制作工艺，包括以下步骤：S1：打磨S2：喷砂或阳极氧化：将金属件表面进行喷砂或阳极氧化处理；S3：镭雕LOGO：使用紫外线激光机在金属件待制造LOGO区域涂抹遮蔽剂，并进行制造LOGO；S4：树脂覆膜：在步骤（3）形成的LOGO上附上一层树脂；S5：NCVM或烫金：通过NCVM不导电电镀或烫金工艺将步骤（4）处理后的LOGO上电镀一层高亮金属层；S6：纳米喷漆：将步骤（5）形成的高亮金属层上进行纳米喷漆，然后晾干或烘干即可。本发明可以通过不同的印刷树脂的选择，NCVM选择不同镀层，产生更多的高亮面颜色和效果；纳米喷漆喷漆发生不良，可对树脂覆膜进行打磨后重新纳米喷漆，减少浪费，提高产品合格率。
Description
技术领域
本发明涉及镜面标识的制作，尤其涉及一种金属件高光镜面LOGO制作工艺。
背景技术
在金属表面制造LOGO是现代化流行工艺产物，现有技术中多数采用贴附的方式，也就是将制造好的Logo粘贴在金属件上，这种粘贴工艺不仅不牢固还会造成Logo与金属件表面产生间隙，影响美观度。目前较为流行的工艺是采用镭雕Logo再遮蔽阳极氧化处理，其工艺步骤主要包括抛光-预阳极-点胶（油墨印刷）-镭雕Logo-退预阳极-喷砂&阳极-退胶-纳米漆（保护Logo区域），采用以上工艺存在的缺点如下：
1. 在点胶制程之后，金属件还有后续约10道制程工序才能完成单件的生产，Logo镭雕的工序在整个生产流程中较前的位置，Logo镭雕出现异常无法返修，该方案中logo出现问题要到10个制程之后的退胶工序完成之后才能发现，影响生产良率和生产时间。
2. 后续的退阳极膜、喷砂、阳极等制程都会对镭雕后logo的点胶遮蔽区域产生破坏，从而影响高亮Logo的外观。
发明内容
本发明的目的就是克服现有技术的诸多缺陷，而提出的一种不良率低且可修护的金属件高光镜面LOGO制作工艺。
本发明采用的技术方案如下：
一种金属件高光镜面LOGO制作工艺，包括以下步骤：
S1：打磨：使用研磨机对金属件表面进行打磨处理；
S2：喷砂或阳极氧化：将金属件表面进行喷砂或阳极氧化处理；
S3：镭雕LOGO：使用紫外线激光机在金属件待制造LOGO区域涂抹遮蔽剂，并进行制造LOGO；
S4：树脂覆膜：在步骤（3）形成的LOGO上附上一层树脂；
S5：NCVM或烫金：通过NCVM不导电电镀或烫金工艺将步骤（4）处理后的LOGO上电镀一层高亮金属层；
S6：纳米喷漆：将步骤（5）形成的高亮金属层上进行纳米喷漆，然后晾干或烘干即可。
优选地，所述步骤（2）采用的阳极氧化工艺为将金属件放入电解液中进行电解，电解时间为500～800秒，阳极膜厚5～7微米，电解后进行水洗。
与已有技术相比，本发明的有益效果如下：
本发明一种金属件高光镜面LOGO制作工艺，镭雕LOGO时发生的不良可以在制程中及时发现，避免后续不必要的制程生产投入浪费，提高产出效率；并可以通过不同的印刷树脂的选择，NCVM选择不同镀层，产生更多的高亮面颜色和效果；纳米喷漆喷漆发生不良，可对树脂覆膜进行打磨后重新纳米喷漆，减少浪费，提高产品合格率。
附图说明
图1为本发明工艺流程示意图。
具体实施方式
参见附图1所示，一种金属件高光镜面LOGO制作工艺，包括以下步骤：
S1：打磨：使用研磨机对金属件表面进行打磨处理；具体为采用气动或电动研磨机对金属件表面进行底纹前期处理，底纹前期处理打磨5-6次，打磨时间在1分钟，打磨后金属件表面光泽度为600±100GU。
S2：喷砂或阳极氧化：将金属件表面进行喷砂或阳极氧化处理；
如果采用喷砂，砂材型号为150号铁砂，喷砂压力为1 .6～1 .8kg，输送速度为10～11Hz，RA值1 .1～18。
如果采用阳极氧化为将金属件放入电解液中进行电解，电解时间为500～800秒，阳极膜厚5～7微米，电解后进行水洗。
S3：镭雕LOGO：使用紫外线激光机在金属件待制造LOGO区域涂抹遮蔽剂，并进行制造LOGO；
S4：树脂覆膜：在步骤（3）形成的LOGO上附上一层树脂；
S5：NCVM或烫金：通过NCVM不导电电镀或烫金工艺将步骤（4）处理后的LOGO上电镀一层高亮金属层；
S6：纳米喷漆：将步骤（5）形成的高亮金属层上进行纳米喷漆，然后晾干或烘干即可。
本发明一种金属件高光镜面LOGO制作工艺，镭雕LOGO时发生的不良可以在制程中及时发现，避免后续不必要的制程生产投入浪费，提高产出效率；并可以通过不同的印刷树脂的选择，NCVM选择不同镀层，产生更多的高亮面颜色和效果；纳米喷漆喷漆发生不良，可对树脂覆膜进行打磨后重新纳米喷漆，减少浪费，提高产品合格率。
以上所述，仅是对本发明的较佳实施例而已，并非是对本发明做其他形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是，凡是未脱离本发明方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本发明的保护范围。
Claims (2)
1.一种金属件高光镜面LOGO制作工艺，其特征在于：包括以下步骤：
S1：打磨：使用研磨机对金属件表面进行打磨处理；
S2：喷砂或阳极氧化：将金属件表面进行喷砂或阳极氧化处理；
S3：镭雕LOGO：使用紫外线激光机在金属件待制造LOGO区域涂抹遮蔽剂，并进行制造LOGO；
S4：树脂覆膜：在步骤（3）形成的LOGO上附上一层树脂；
S5：NCVM或烫金：通过NCVM不导电电镀或烫金工艺将步骤（4）处理后的LOGO上电镀一层高亮金属层；
S6：纳米喷漆：将步骤（5）形成的高亮金属层上进行纳米喷漆，然后晾干或烘干即可。
2.根据权利要求1所述的一种金属件高光镜面LOGO制作工艺，其特征在于：所述步骤（2）采用的阳极氧化工艺为将金属件放入电解液中进行电解，电解时间为500～800秒，阳极膜厚5～7微米，电解后进行水洗。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201910082163.1A CN109676327A (zh) | 2019-01-28 | 2019-01-28 | 一种金属件高光镜面logo制作工艺 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910082163.1A CN109676327A (zh) | 2019-01-28 | 2019-01-28 | 一种金属件高光镜面logo制作工艺 |
Publications (1)
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| CN109676327A true CN109676327A (zh) | 2019-04-26 |
Family
ID=66194914
Family Applications (1)
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| CN201910082163.1A Pending CN109676327A (zh) | 2019-01-28 | 2019-01-28 | 一种金属件高光镜面logo制作工艺 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN109676327A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111842594A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-10-30 | 昆山爱米特激光科技有限公司 | 一种在金属喷砂表面制作镜面logo的工艺 |
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2019
- 2019-01-28 CN CN201910082163.1A patent/CN109676327A/zh active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN111842594A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-10-30 | 昆山爱米特激光科技有限公司 | 一种在金属喷砂表面制作镜面logo的工艺 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20190426 |