CN108427442A - 一种蚀刻液浓度调整方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种蚀刻液浓度调整方法，包括步骤1：对于进行蚀刻液使用后的液体进行回收，得到回收液；步骤2：对回收液中的所有添加物使用浓度计进行浓度检测，得到各个添加物的浓度；步骤3：对回收液的体积使用液位计进行检测，得到回收液的体积；步骤4：对回收液添加含有各个添加物的调整溶液，各个添加物的溶剂相同，得到目标蚀刻液，本发明在使用蚀刻液后添加调整溶液，通过控制调整溶液的量，实现恢复蚀刻液浓度，使蚀刻液得到循环利用，减少污染，降低成本，而且添加的调整溶液的量很小。
Description
技术领域
本发明涉及蚀刻行业，具体是一种蚀刻液浓度调整方法。
背景技术
当前蚀刻行业中所使用的蚀刻液大多是多种质物的混合液。蚀刻过程中随时间推移，蚀刻液中的某些物质浓度会下不同程度的下降，并最终导致蚀刻率下降。当蚀刻率下降到一定程度时，蚀刻液就不能再使用了。蚀刻液本身的特性就是高腐蚀性，甚至是剧毒的，使用后的蚀刻液不能直排放，否则会造成严重的污染。目前对使用后的蚀刻液处理方法一般有两种，一种是送到专业处理厂进行无害化处理，另一种是由专业化学品供应厂回收，以上两种都会产生额处的费用，增加了企业成本。
为了降低企业成本及减少环境污染，蚀刻液循环利用成为当务之急。
发明内容
本发明目的是提供一种蚀刻液浓度调整方法，在使用蚀刻液后，添加调整溶液，通过控制调整溶液的量，实现恢复蚀刻液浓度，使蚀刻液得到循环利用，减少污染，降低成本。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：
一种蚀刻液浓度调整方法，包括以下步骤：
步骤1：对于进行蚀刻液使用后的液体进行回收，得到回收液；
步骤2：对回收液中的所有添加物使用浓度计进行浓度检测，得到各个添加物的浓度；
步骤3：对回收液的体积使用液位计进行检测，得到回收液的体积；
步骤4：对回收液添加含有各个添加物的调整溶液，各个添加物的溶剂相同，得到目标蚀刻液；
进一步的，回收液中含有W、X、Y三种物质，经过检测后，回收液中W、X、Y三种物质的浓度分别为Cw1、Cx1、Cy1，回收液的体积为V1，回收液通过添加W、X、Y后的目标浓度分别为：Cw2、Cx2、Cy2，通过调整后的蚀刻液目标体积为V2，三种调整溶液中W、X、Y三种物质的浓度分别为Cw0、Cx0、Cy0，调整溶液的溶剂均为Z，三种调整溶液W、X、Y及溶剂Z的密度为ρw、ρx、ρy、ρz，回收液的重量为M1,目标蚀刻液的重量为M2,
M1＝V1/[1-Cw1(1-ρw)/Cw0*ρw-Cx1(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy1(1-ρy)/Cy0*ρy]
M2=V2/[1–Cw2(1-ρw)/Cw0*ρw–Cx2(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy2(1-ρy)/Cy0*ρy]
W物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cw2 － M1* Cw1；
X物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cx2 － M1* Cx1；
Y物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cy2 － M1* Cy1；
进一步的，在使用流量计添加W、X、Y时，各个添加物的体积为：
添加物W添加体积＝（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw；
添加物X添加体积＝（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx；
添加物Y添加体积＝（M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρy；
添加的溶剂Z的体积＝V2－V1－（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw
－（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx － （M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρ；
利用逼近法计算，当V2的值变大到一定值时使所有添加量大于等于0，这时的V2是使添加物的添加量为最小的值，而此时的添加量为最小添加量；
优选的，调整溶液为单物质溶液。
本发明的有益效果是：
本发明在使用蚀刻液后添加调整溶液，通过控制调整溶液的量，实现恢复蚀刻液浓度，使蚀刻液得到循环利用，减少污染，降低成本。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明的实施例进行详细说明，但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
本发明公开一种蚀刻液浓度调整方法，包括以下步骤：
步骤1：对于进行蚀刻液使用后的液体进行回收，得到回收液；
步骤2：对回收液中的所有添加物使用浓度计进行浓度检测，得到各个添加物的浓度；
步骤3：对回收液的体积使用液位计进行检测，得到回收液的体积；
步骤4：对回收液添加含有各个添加物的调整溶液，各个添加物的溶剂相同，得到目标蚀刻液。
在本发明实施例中，回收液中含有W、X、Y三种物质，经过检测后，回收液中W、X、Y三种物质的浓度分别为Cw1、Cx1、Cy1，回收液的体积为V1，回收液通过添加W、X、Y后的目标浓度分别为：Cw2、Cx2、Cy2，通过调整后的蚀刻液目标体积为V2，三种调整溶液中W、X、Y三种物质的浓度分别为Cw0、Cx0、Cy0，调整溶液的溶剂均为Z，三种调整溶液W、X、Y及溶剂Z的密度为ρw、ρx、ρy、ρz，回收液的重量为M1,目标蚀刻液的重量为M2,
M1＝V1/[1-Cw1(1-ρw)/Cw0*ρw-Cx1(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy1(1-ρy)/Cy0*ρy]
M2=V2/[1–Cw2(1-ρw)/Cw0*ρw–Cx2(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy2(1-ρy)/Cy0*ρy]
W物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cw2 － M1* Cw1；
X物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cx2 － M1* Cx1；
Y物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cy2 － M1* Cy1。
在使用流量计添加W、X、Y时，各个添加物的体积为：
添加物W添加体积＝（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw；
添加物X添加体积＝（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx；
添加物Y添加体积＝（M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρy；
添加的溶剂Z的体积＝V2－V1－（M2* Cw2－M1* Cw1）/ Cw0*ρw
－（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx －（M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρ。
由于添加后溶液的体积V2可以是无限种可能，导致各添加物的添加量得不到一个确定的值，从降低成本等考虑，应该使添加物的添加量越少越好。因此，利用逼近法计算，当V2的值变大到一定值时使所有添加量大于等于0，这时的V2是使添加物的添加量为最小的值，而此时的添加量为最小添加量。
其中，调整溶液为单物质溶液。
结合计算机计算，本发明有以下优点：
（1）使蚀刻液等循环回收液系统实现自动调整浓度。
（2）使蚀刻液等有毒有害物质循环利用更为方便。
（3）使蚀刻液等循环回收液系统更加高效。
以上所述的本发明实施方式，并不构成对本发明保护范围的限定,任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的权利要求保护范围之内。
Claims (5)
1.一种蚀刻液浓度调整方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：对于进行蚀刻液使用后的液体进行回收，得到回收液；
步骤2：对回收液中的所有添加物使用浓度计进行浓度检测，得到各个添加物的浓度；
步骤3：对回收液的体积使用液位计进行检测，得到回收液的体积；
步骤4：对回收液添加含有各个添加物的调整溶液，各个添加物的溶剂相同，得到目标蚀刻液。
2.根据权利要求1所述一种蚀刻液浓度调整方法，其特征在于,回收液中含有W、X、Y三种物质，经过检测后，回收液中W、X、Y三种物质的浓度分别为Cw1、Cx1、Cy1，回收液的体积为V1，回收液通过添加W、X、Y后的目标浓度分别为：Cw2、Cx2、Cy2，通过调整后的蚀刻液目标体积为V2，三种调整溶液中W、X、Y三种物质的浓度分别为Cw0、Cx0、Cy0，调整溶液的溶剂均为Z，三种调整溶液W、X、Y及溶剂Z的密度为ρw、ρx、ρy、ρz，回收液的重量为M1,目标蚀刻液的重量为M2,
M1＝V1/[1-Cw1(1-ρw)/Cw0*ρw-Cx1(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy1(1-ρy)/Cy0*ρy]
M2=V2/[1–Cw2(1-ρw)/Cw0*ρw–Cx2(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy2(1-ρy)/Cy0*ρy]
W物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cw2 － M1* Cw1；
X物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cx2 － M1* Cx1；
Y物质添加量＝添加后溶液中W物质含量－添加前溶液中W物质含量
＝M2* Cy2 － M1* Cy1。
3.根据权利要求2所述一种蚀刻液浓度调整方法，其特征在于，在使用流量计添加W、X、Y时，各个添加物的体积为：
添加物W添加体积＝（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw；
添加物X添加体积＝（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx；
添加物Y添加体积＝（M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρy；
添加的溶剂Z的体积＝V2－V1－（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw
－（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx － （M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρ。
4.根据权利要求3所述一种蚀刻液浓度调整方法，其特征在于，利用逼近法计算，当V2的值变大到一定值时使所有添加量大于等于0，这时的V2是使添加物的添加量为最小的值，而此时的添加量为最小添加量。
5.根据权利要求1所述一种蚀刻液浓度调整方法，其特征在于, 调整溶液为单物质溶液。
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| CN201710074794.XA CN108427442A (zh) | 2017-02-12 | 2017-02-12 | 一种蚀刻液浓度调整方法 |
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1379288A (zh) * | 2001-04-03 | 2002-11-13 | 三菱化学株式会社 | 蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法 |
| CN1645574A (zh) * | 2005-01-07 | 2005-07-27 | 友达光电股份有限公司 | 蚀刻液回收系统与方法 |
| CN101727023A (zh) * | 2008-10-28 | 2010-06-09 | 浩硕科技股份有限公司 | 蚀刻液浓度控制方法 |
| CN102967686A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-03-13 | 杭州格林达化学有限公司 | 在线测定和控制ito蚀刻液中各酸浓度的方法 |
| CN105278566A (zh) * | 2014-07-17 | 2016-01-27 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液管理装置、溶解金属浓度测定装置及测定方法 |
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2017
- 2017-02-12 CN CN201710074794.XA patent/CN108427442A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1379288A (zh) * | 2001-04-03 | 2002-11-13 | 三菱化学株式会社 | 蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法 |
| CN1645574A (zh) * | 2005-01-07 | 2005-07-27 | 友达光电股份有限公司 | 蚀刻液回收系统与方法 |
| CN101727023A (zh) * | 2008-10-28 | 2010-06-09 | 浩硕科技股份有限公司 | 蚀刻液浓度控制方法 |
| CN102967686A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-03-13 | 杭州格林达化学有限公司 | 在线测定和控制ito蚀刻液中各酸浓度的方法 |
| CN105278566A (zh) * | 2014-07-17 | 2016-01-27 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液管理装置、溶解金属浓度测定装置及测定方法 |
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