CN108369308A - 偏振膜的制造装置及制造方法、以及偏振膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用于制造在应用于液晶显示装置时不易产生亮点(漏光)的偏振膜的装置及方法。本发明提供一种制造装置，其是用于由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置，包括：多个辊，其构成聚乙烯醇系树脂膜的输送路径，并以与聚乙烯醇系树脂膜的表面相接触的方式配置；湿式处理部，其配置于输送路径上，并包含1个以上的处理槽，所述处理槽容纳要浸渍聚乙烯醇系树脂膜的处理液；以及干燥处理部，其配置于输送路径上，用于使湿式处理后的聚乙烯醇系树脂膜干燥，上述多个辊含有旋转阻力为0.025N以下的低旋转阻力辊；本发明还提供一种使用了该制造装置的制造方法；以及一种特定的凹凸缺陷的密度为20个/m。以下的偏振膜。

Description

偏振膜的制造装置及制造方法、以及偏振膜
技术领域
本发明涉及例如可作为偏振板的构成构件而使用的偏振膜的制造装置及制造方法。并且，本发明涉及偏振膜。
背景技术
作为偏振膜，以往是使用由经单轴拉伸的聚乙烯醇系树脂膜吸附取向如碘或二色性染料那样的二色性色素而成者。一般而言，偏振膜是依次实施：将聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色的染色处理、以交联剂进行处理的交联处理、及膜干燥处理，并且在制造工序之间实施单轴拉伸处理而制造〔例如，日本特开2001-141926号公报(专利文献1)〕。
偏振膜的制造装置通常具有经过染色处理槽、交联处理槽等处理槽、以及干燥设备等的聚乙烯醇系树脂膜的输送路径。沿着该路径输送的聚乙烯醇系树脂膜是由导引辊、夹持膜的轧辊等辊所支撑。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2001-141926号公报
发明内容
发明要解决的问题
偏振膜的主要用途之一是作为液晶显示装置的必要构件的偏振板用途。偏振板是指在偏振膜的单面或双面将保护层(保护膜等)典型地使用粘接剂进行层叠贴合而成的光学构件。近年来，逐渐要求液晶显示装置的辨识性(明亮度)提升，伴随此要求，对液晶显示装置逐渐使用起具有更高亮度的背光。
在如此的状况下，本发明人面临以下的新课题：若将背光的亮度提高至某种程度以上，则在亮度较上述情况低时，在液晶显示装置的画面中未被观察到而不会造成问题的点状的亮点(漏光)会被辨识出。例如，在液晶面板中，将偏振板贴合于液晶单元的粘合剂层与该液晶单元之间混入气泡时，该气泡会成为主因而产生亮点(漏光)已为人所知，虽然也提出了若干种抑制该气泡混入的技术，但发现：本发明人崭新面临的上述亮点并非因在粘合剂层与液晶单元之间混入的气泡所导致者。而且，经过本发明人的研究得知，上述亮点的主因在于构成偏振板的偏振膜。
本发明的目的是提供一种用于制造在应用于液晶显示装置时不易产生如上述那样的本发明人崭新面临的亮点(漏光)的偏振膜的装置及方法。而且，本发明的其他目的是提供一种不易产生上述亮点(漏光)的偏振膜。
用于解决问题的方法
由本发明人发现，上述亮点(漏光)的主因在于在偏振膜的制造过程中在聚乙烯醇系树脂膜的表面产生的特定的凹凸缺陷(以下也称为“特定凹凸缺陷”)，以及通过下述所示的本发明的偏振膜的制造装置及制造方法而可有效地抑制偏振膜的特定凹凸缺陷、甚至亮点(漏光)。
即，本发明提供以下所示的偏振膜的制造装置及制造方法、以及偏振膜。
[1]一种制造装置，其是用于由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置，包括：
多个辊，其构成上述聚乙烯醇系树脂膜的输送路径，并以与上述聚乙烯醇系树脂膜的表面相接触的方式配置；
湿式处理部，其配置于上述输送路径上，并包含1个以上的处理槽，所述处理槽容纳要浸渍上述聚乙烯醇系树脂膜的处理液；以及
干燥处理部，其配置于上述输送路径上，用于使湿式处理后的聚乙烯醇系树脂膜干燥，
上述多个辊包含旋转阻力为0.025N以下的低旋转阻力辊。
[2]如[1]所述的制造装置，其中，上述低旋转阻力辊配置于从上述湿式处理部至上述干燥处理部的输送路径中的任意位置。
[3]如[2]所述的制造装置，其中，上述湿式处理部依次包含：容纳含有二色性色素的染色处理液的染色处理槽；以及容纳含有交联剂的交联处理液的交联处理槽，
上述低旋转阻力辊配置于上述交联处理槽或上述交联处理槽之后。
[4]如[1]～[3]中任一项所述的制造装置，其中，上述低旋转阻力辊具有对于水的接触角为60度以上的表面。
[5]如[4]所述的制造装置，其中，上述表面由氟系树脂、含硅原子的树脂、碳或类金刚石碳形成。
[6]如[1]～[5]中任一项所述的制造装置，其中，上述低旋转阻力辊的每单位体积的重量为1500kg/m3以下。
[7]如[1]～[6]中任一项所述的制造装置，其中，上述低旋转阻力辊为导引辊。
[8]如[1]～[7]中任一项所述的制造装置，其中，与上述低旋转阻力辊相接触的上述聚乙烯醇系树脂膜的厚度为15μm以下。
[9]一种制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，包括以下工序：
湿式处理工序，一边沿着输送路径输送上述聚乙烯醇系树脂膜，一边使其浸渍于1个以上的处理液中，所述输送路径包含以与上述聚乙烯醇系树脂膜的表面相接触的方式配置的多个辊；以及
干燥处理工序，一边沿着上述输送路径输送上述聚乙烯醇系树脂膜，一边使湿式处理后的聚乙烯醇系树脂膜干燥，
上述多个辊包含旋转阻力为0.025N以下的低旋转阻力辊。
[10]如[9]所述的制造方法，其中，上述低旋转阻力辊配置于从上述湿式处理工序至上述干燥处理工序的输送路径中的任意位置。
[11]如[10]所述的制造方法，其中，上述湿式处理工序依次包括：浸渍于含有二色性色素的染色处理液的工序；以及浸渍于含有交联剂的交联处理液的工序，
上述低旋转阻力辊配置于浸渍于上述交联处理液的工序或该工序以后的输送路径。
[12]如[9]～[11]中任一项所述的制造方法，其中，上述低旋转阻力辊具有对于水的接触角为60度以上的表面。
[13]如[12]所述的制造方法，其中，上述表面由氟系树脂、含硅原子的树脂、碳或类金刚石碳形成。
[14]如[9]～[13]中任一项所述的制造方法，其中，上述低旋转阻力辊的每单位体积的重量为1500kg/m3以下。
[15]如[9]～[14]中任一项所述的制造方法，其中，上述低旋转阻力辊为导引辊。
[16]如[9]～[15]中任一项所述的制造方法，其中，与上述低旋转阻力辊相接触的上述聚乙烯醇系树脂膜的厚度为15μm以下。
[17]一种偏振膜，其是二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜的偏振膜，
至少一个面的凹凸缺陷的密度为20个/m2以下，
上述凹凸缺陷包含1个凸部和1个凹部的组合，并且长径为0.5mm～5mm的范围内，所述1个凸部以上述凹凸缺陷以外的偏振膜面为基准，比该基准更突出，所述1个凹部比上述基准更下陷且与上述凸部相邻。
发明的效果
根据本发明，可提供一种即使应用于使用了高亮度背光的液晶显示装置时，仍不易产生因膜表面的特定凹凸缺陷所导致的亮点(漏光)的偏振膜。
附图说明
图1是示出本发明的偏振膜制造装置的一例的截面示意图。
图2是放大图1所示的偏振膜制造装置所具有的干燥处理部而显示的截面示意图。
图3是示出本发明的偏振膜的制造方法的一例的流程图。
具体实施方式
<偏振膜的制造装置和制造方法>
本发明涉及用于由聚乙烯醇系树脂膜(以下也称为“PVA系树脂膜”。)制造偏振膜的制造装置和制造方法。偏振膜是对PVA系树脂膜实施包括在处理槽中浸渍的浸渍处理(湿式处理)、干燥处理等在内的一连串处理而制造。偏振膜是在经拉伸的PVA系树脂膜吸附取向二色性色素而得者。
本发明的偏振膜制造装置的一例示于图1。图2是放大图1所示的偏振膜制造装置所具有的干燥处理部而显示的截面示意图。图1及图2所示的偏振膜制造装置是用于由作为原料膜的长条的PVA系树脂膜10连续地制造长条的偏振膜25的装置。图1及图2中的箭头表示膜的输送方向。在使用了图1及图2所示的制造装置的偏振膜25的制造中，将PVA系树脂膜10从卷出辊11连续地卷出，并且依次浸渍于溶胀处理槽13、染色处理槽15、交联处理槽17及清洗处理槽19中，最后通过干燥炉21，由此进行干燥处理而得到偏振膜25。制造成长条物的偏振膜25可依次卷绕于卷绕辊27。
在偏振膜制造装置中，针对使用溶胀处理槽13、染色处理槽15、交联处理槽17及清洗处理槽19等容纳要浸渍膜的处理液的1个以上的处理槽而进行湿式处理的区域，在本说明书中称为“湿式处理部”(图1所示的湿式处理部20)。而且，如干燥炉21那样地，对于湿式处理后的膜实施干燥处理的区域在本说明书中称为“干燥处理部”(图1及图2所示的干燥处理部22)。本发明的偏振膜制造装置具有包含湿式处理部与干燥处理部的PVA系树脂膜10的输送路径。通过沿着该输送路径而输送PVA系树脂膜10，可实施一连串的处理而得到偏振膜25。沿着输送路径输送的PVA系树脂膜10的输送速度通常为10m/分钟～50m/分钟，从生产效率的观点出发，优选为15m/分钟以上。
如图1所示，上述输送路径以通过湿式处理部20与干燥处理部22的方式由支撑/引导在移动中的膜(PVA系树脂膜10及偏振膜25)的多个辊而构筑。多个辊包括支撑膜的单面的作为自由辊的导引辊、和/或、1对辊(通常为驱动辊)，且可包含从双面包夹膜或包夹后按压膜的轧辊。在图1及图2所示的例子中，制造装置包括导引辊1a～1s及轧辊2a～2f。界定输送路径的多个辊也可包含作为1种驱动辊的吸取辊(抽吸辊)。通常，这些辊均与输送路径内的膜的一个表面或两个表面(主面)相接触而支撑着该膜。这些辊可配置于各处理槽及干燥机构(干燥炉)的前后、处理槽及干燥机构(干燥炉)内等的适当位置。
需要说明的是，驱动辊是指可对与其接触的膜赋予用于输送膜的驱动力的辊，可为与电机等辊驱动源直接或间接连接的辊等。自由辊是指只担任支撑移动中的膜的作用，并无法赋予用于输送膜的驱动力的辊。
本发明的偏振膜的制造方法的一例的流程图示于图3。参照图3，本发明的偏振膜的制造方法包括下述工序：
湿式处理工序S101，一边沿着输送路径输送PVA系树脂膜，一边使其浸渍于1个以上的处理液中，所述输送路径包含以与PVA系树脂膜的表面相接触的方式配置的多个辊；以及
干燥处理工序S102，一边沿着上述输送路径输送PVA系树脂膜，一边使湿式处理后的PVA系树脂膜干燥。
湿式处理工序S101是在上述湿式处理部20进行的处理，干燥处理工序S102是在上述干燥处理部22进行的处理。
所得的偏振膜25为经拉伸处理(通常为单轴拉伸处理)者。因此，本发明的偏振膜的制造装置可包括PVA系树脂膜10的拉伸机构(湿式拉伸机构)，并且，本发明的偏振膜的制造方法可包括PVA系树脂膜10的拉伸处理工序(湿式拉伸处理工序)。
(1)PVA系树脂膜
导入至湿式处理部20(供应至湿式处理工序S101)的PVA系树脂膜10是由聚乙烯醇系树脂形成的膜。作为聚乙烯醇系树脂，可使用将聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化而得者。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除了作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，还可例示乙酸乙烯酯及可与该乙酸乙烯酯共聚的其他单体的共聚物。作为可与乙酸乙烯酯共聚的其他单体，可列举例如不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的(甲基)丙烯酰胺类等。需要说明的是，“(甲基)丙烯酸类”表示选自丙烯酸类及甲基丙烯酸类中的至少1种。其他带有“(甲基)”的用语也是同样的。
聚乙烯醇系树脂的皂化度可以为80.0摩尔％～100.0摩尔％的范围，优选为90.0摩尔％～100.0摩尔％的范围，更优选为94.0摩尔％～100.0摩尔％的范围，进一步优选为98.0摩尔％～100.0摩尔％的范围。皂化度小于80.0摩尔％时，含有所得的偏振膜25的偏振板的耐水性及耐湿热性会降低。
所谓皂化度，是指作为聚乙烯醇系树脂的原料的聚乙酸乙烯酯系树脂中所含的乙酸基(乙酰氧基：-OCOCH3)通过皂化工序而变化成羟基的比率以单元比(摩尔％)表示者，其由下述式所定义：
皂化度(摩尔％)＝100×(羟基数)/(羟基数+乙酸基数)
皂化度可根据JIS K 6726(1994)而求出。
聚乙烯醇系树脂的平均聚合度优选为100～10000，更优选为1500～8000，进一步优选为2000～5000。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度也可根据JIS K 6726(1994)而求出。平均聚合度小于100时，难以得到具有优选偏振性能的偏振膜25，当超过10000时，在溶剂中的溶解性变差，变得难以形成(制膜)为PVA系树脂膜10。
PVA系树脂膜10的一例是由上述聚乙烯醇系树脂制膜而成的未拉伸薄。制膜方法并无特别限定，可采用熔融挤出法、溶剂流延法之类的公知方法。PVA系树脂膜10的其他一例是将上述未拉伸膜拉伸而成的拉伸膜。该拉伸通常为单轴拉伸，优选为纵向单轴拉伸。纵向拉伸是指向膜的机械流向(MD)、即膜的长度方向进行的拉伸。该拉伸优选为干式拉伸。干式拉伸是指在空气中进行的拉伸，通常为纵向单轴拉伸。就干式拉伸而言，可列举：热辊拉伸，使膜在表面经加热的热辊及圆周转速与该热辊不同的导引辊(或可为热辊)之间穿过，在利用了热辊的加热下进行纵向拉伸；辊间拉伸，一边穿过在保持距离而设置的两个轧辊之间存在的加热机构(烘箱等)，一边利用这两个轧辊之间的圆周转速差进行纵向拉伸；拉幅拉伸；压缩拉伸等。拉伸温度(热辊的表面温度、烘箱内温度等)例如为80℃～150℃，优选为100℃～135℃。
上述拉伸的拉伸倍率虽然取决于在后述的湿式处理工序S101中是否实施湿式拉伸、以及在该湿式拉伸时的拉伸倍率，但通常为1.1倍～8倍，优选为2.5倍～5倍。
PVA系树脂膜10可含有增塑剂等添加剂。增塑剂的优选例子为多元醇，其具体例包括乙二醇、甘油、丙二醇、二乙二醇、二甘油、三乙二醇、三甘油、四乙二醇、三羟甲基丙烷、聚乙二醇等。PVA系树脂膜10可含有1种或2种以上的增塑剂。增塑剂的含量相对于构成PVA系树脂膜10的聚乙烯醇系树脂100重量份，通常为5重量份～20重量份，优选为7重量份～15重量份。
导入至湿式处理部20(供应至湿式处理工序S101)的PVA系树脂膜10的厚度虽然取决于PVA系树脂膜10是否为经拉伸处理而得者，但通常为10μm～150μm，从所得的偏振膜25的薄膜化的观点出发，优选为100μm以下、更优选为65μm以下，进一步优选为50μm以下，特别优选为35μm以下(例如30μm以下，进而20μm以下)。存在PVA系树脂膜10的厚度、进而偏振膜25的厚度越小则越易于产生特定凹凸缺陷的倾向。因此，在使用厚度小的PVA系树脂膜10(例如厚度65μm以下，进而50μm以下，甚至进而35μm以下)时，或者制造厚度小的偏振膜25(例如厚度20μm以下，进而15μm以下，甚至进而10μm以下)时，对本发明特别有利。
(2)湿式处理部及湿式处理工序S101
湿式处理部20为配置于PVA系树脂膜10的输送路径上的区域，并包括1个以上的处理槽，所述处理槽容纳要浸渍PVA系树脂膜10的处理液。在该湿式处理部20中，实施一边输送PVA系树脂膜10一边使其浸渍于上述1个以上的处理液的湿式处理工序S101。如上所述，输送路径由支撑/引导在移动中的膜的多个辊所构筑，这些多个辊中的一部分通常配置于湿式处理部20内。
湿式处理部20中，就上述处理槽而言，通常包含染色处理槽15及交联处理槽17，优选进一步包含溶胀处理槽13及清洗处理槽19。这些处理槽通常从输送路径的上游侧起依次以溶胀处理槽13、染色处理槽15、交联处理槽17、清洗处理槽19的顺序进行配置(参照图1)。需要说明的是，图1中示出将溶胀处理槽13、染色处理槽15、交联处理槽17及清洗处理槽19分别设置1个的例子，但根据需要也可设置2个以上的染色处理槽15，或者设置2个以上的交联处理槽17。对于溶胀处理槽13、清洗处理槽19也同样。
溶胀处理槽13中容纳的处理液除了例如可为水(纯水等)以外，也可为添加有醇类之类的水溶性有机溶剂的水溶液。并且，该处理液(溶胀浴)也可含有硼酸、氯化物、无机酸、无机盐等。通过在溶胀浴中浸渍PVA系树脂膜10来进行溶胀处理。溶胀处理是基于去除PVA系树脂膜10的异物、去除增塑剂、赋予易染色性、膜增塑化等的目的根据需要所实施的处理。在溶胀处理中，可对PVA系树脂膜10实施湿式拉伸处理(通常为单轴拉伸处理)。此时的拉伸倍率通常为1.2倍～3倍，优选为1.3倍～2.5倍。溶胀浴的温度通常为10℃～70℃，优选为15℃～50℃。PVA系树脂膜10的浸渍时间(在溶胀浴中的滞留时间)通常为10秒～600秒，优选为20秒～300秒。
在染色处理槽15中容纳的处理液是含有二色性色素的染色处理液。通过在该染色处理液中浸渍PVA系树脂膜10来进行染色处理。由此，可使PVA系树脂膜10吸附二色性色素。二色性色素可为碘或二色性有机染料，优选为碘。二色性色素可单独使用1种或并用2种以上。
使用碘作为二色性色素时，上述染色处理液可使用含有碘及碘化钾的水溶液。可使用碘化锌等其他的碘化物来替代碘化钾，也可并用碘化钾与其他碘化物。并且，也可使碘化物以外的化合物、例如硼酸、氯化锌、氯化钴等共存。添加硼酸时，在含有碘的方面与后述的交联处理液有所区别。染色处理液中的碘含量通常相对于100重量份的水为0.003重量份～1重量份。染色处理液中的碘化钾等碘化物的含量通常相对于100重量份的水为0.1重量份～20重量份。染色处理液的温度通常为10℃～45℃，优选为10℃～40℃，更优选为20℃～35℃。PVA系树脂膜10的浸渍时间(在染色处理液中的滞留时间)通常为20秒～600秒，优选为30秒～300秒。
使用二色性有机染料作为二色性色素时，染色处理液可使用含有二色性有机染料的水溶液。该染色处理液中的二色性有机染料的含量通常相对于100重量份的水为1×10-4重量份～10重量份，优选为1×10-3重量份～1重量份。该染色处理液中可共存染色助剂等，例如可含有硫酸钠等无机盐或表面活性剂等。二色性有机染料可单独使用1种或并用2种以上。含有二色性有机染料的染色处理液的温度例如为20℃～80℃，优选为30℃～70℃。PVA系树脂膜10的浸渍时间通常为30秒～600秒，优选为60秒～300秒。
为了提高二色性色素的染色性，供应至染色处理的PVA系树脂膜10优选至少已实施一定程度的拉伸处理(通常为单轴拉伸处理)。替代染色处理前的拉伸处理，或者，在染色处理前的拉伸处理的基础上，也可一边进行染色处理一边实施拉伸处理。至染色处理为止的累积拉伸倍率(至染色处理为止尚未进行拉伸工序时，为染色处理中的拉伸倍率)通常为1.6倍～4.5倍，优选为1.8倍～4倍。
在交联处理槽17中容纳的处理液是含有交联剂的交联处理液。通过在该交联处理液中浸渍染色处理后的PVA系树脂膜10来进行交联处理。由此，利用交联来进行PVA系树脂膜10的耐水化或色相调整等。也可一边进行交联处理一边实施拉伸处理(通常为单轴拉伸处理)。
交联剂可列举硼酸、乙二醛、戊二醛等，优选使用硼酸。也可并用2种以上的交联剂。交联处理液中的交联剂的含量通常相对于100重量份的水为0.1重量份～15重量份，优选为1重量份～12重量份。二色性色素为碘时，交联处理液中除了含有交联剂以外，优选含有碘化物。交联处理液中的碘化物的含量通常相对于100重量份的水为0.1重量份～20重量份，优选为5重量份～15重量份。碘化物可列举碘化钾、碘化锌等。而且，交联处理液可含有除碘化物以外的化合物，例如氯化锌、氯化钴、氯化锆、硫代硫酸钠、亚硫酸钾、硫酸钠等。交联处理液的温度通常为50℃～85℃，优选为50℃～70℃。PVA系树脂膜10的浸渍时间(在交联处理液中的滞留时间)通常为10秒～600秒，优选为20秒～300秒。
在清洗处理槽19中容纳的处理液除了例如可为水(纯水等)以外，也可为添加有醇类之类的水溶性有机溶剂的水溶液。通过在该处理液(清洗浴)中浸渍交联处理后的PVA系树脂膜10来进行清洗处理。清洗处理是基于将附着于PVA系树脂膜10的多余的交联剂或二色性色素等试剂去除的目的，根据需要所实施的处理。清洗浴的温度例如为2℃～40℃。也可一边进行清洗处理，一边实施拉伸处理(通常为单轴拉伸处理)。
清洗处理可为对于交联处理后的PVA系树脂膜10以冲洗的方式喷雾清洗液的处理，也可组合在上述清洗浴中的浸渍与清洗液的喷雾。图1显示将PVA系树脂膜10浸渍于清洗处理槽19中的水而实施清洗处理时的例子。
如上所述，在湿式处理工序S101中，可对PVA系树脂膜10实施湿式拉伸。湿式拉伸通常为单轴拉伸，可以一边进行溶胀处理、染色处理、交联处理、清洗处理中的任一处理一边进行拉伸，或者，在从这些中选出的2种以上的处理中进行拉伸。湿式拉伸优选在交联处理工序的阶段或交联处理工序之前的1个或2个以上的阶段进行拉伸处理。如上所述，为了提高二色性色素的染色性而得到具有良好偏振特性的偏振膜25，供应至染色处理的PVA系树脂膜10更优选至少已实施一定程度的拉伸处理。从所得的偏振膜25的偏振特性的观点出发，湿式拉伸的拉伸倍率优选以使偏振膜25的最终累积拉伸倍率(供应至湿式处理的PVA系树脂膜10为经拉伸处理而得者时，是还包含该拉伸在内的累积拉伸倍率)成为3倍～8倍的方式进行调整。
实施湿式拉伸处理工序时，偏振膜制造装置包括PVA系树脂膜10的湿式拉伸机构。湿式拉伸机构优选为进行辊间拉伸的拉伸机构。若列举在交联处理中以湿式进行辊间拉伸的情况为例，进行辊间拉伸的拉伸机构为配置于交联处理槽17前后的2个轧辊2c、2d。在其他的湿式处理中进行拉伸时也同样，可将分离配置的2个轧辊作为湿式拉伸机构。
(3)干燥处理部及干燥处理工序S102
干燥处理部22是位于PVA系树脂膜10的输送路径上且配置于湿式处理部20的下游侧、用于使经湿式处理工序S101后的PVA系树脂膜10干燥的区域。通过一边继续输送经湿式处理工序S101后的PVA系树脂膜10，一边将该膜导入至干燥处理部22，可实施干燥处理，由此可得到偏振膜25。
干燥处理部22包含膜的干燥机构(加热机构)。干燥机构的合适的一例为干燥炉。干燥炉优选为可控制炉内温度者。干燥炉是例如可通过供应热风等使炉内温度提高的热风烘箱。而且，利用干燥机构所进行的干燥处理可为使具有凸曲面的1个或2个以上的加热体与经湿式处理工序S101后的PVA系树脂膜10密合的处理，或使用加热器加热该膜的处理。
作为上述加热体，可列举在内部具备热源(例如温水等热介质或红外线加热器)、且可提高表面温度的辊(例如兼作热辊的导引辊)。作为上述加热器，可列举红外线加热器、卤素加热器、平板加热器等。在图1及图2中，显示将经湿式处理工序S101后的PVA系树脂膜10导入至干燥炉21内，一边使该膜沿着炉内的导引辊1m～1s输送，一边进行干燥处理的例子。如此，偏振膜制造装置所具有的构筑成PVA系树脂膜10的输送路径的多个辊的一部分(1个或2个以上)可配置于干燥处理部22(干燥机构)内。
干燥处理的温度(例如干燥炉21的炉内温度、热辊的表面温度等)通常为30℃～100℃，优选为50℃～90℃。干燥时间并无特别限制，例如为30秒～600秒。
通过干燥处理可降低膜的含水率。经过干燥处理所得的偏振膜25的含水率通常为5重量％～20重量％，优选为8重量％～15重量％。含水率小于5重量％时，有时会造成偏振膜25的可挠性过度降低，使偏振膜25在之后的输送或处理时产生损伤或破裂。此外，偏振膜25的含水率高于20重量％时，偏振膜25的热稳定性容易降低。在此所称的含水率是通过干燥重量法而测定者。
偏振膜25是在经拉伸(通常为单轴拉伸)的PVA系树脂膜吸附取向二色性色素者。偏振膜25的厚度通常为2μm～40μm。从含有偏振膜25的偏振板的薄膜化的观点出发，偏振膜25的厚度优选为20μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下。如上所述，本发明在制造厚度小的偏振膜25(例如厚度20μm以下，进而15μm以下，甚至进而10μm以下)时特别有利。
考虑到与能见度校正偏振度Py的平衡，所得的偏振膜25的能见度校正单体透射率Ty优选为40％～47％，更优选为41％～45％。能见度校正偏振度Py优选为99.9％以上，更优选为99.95％以上。偏振膜25的能见度校正单体透射率Ty越大时，应用于液晶显示装置时越容易辨识出上述的亮点(漏光)。因此，本发明在制造能见度校正单体透射率Ty为41％以上、进而42％以上、甚至进而43％以上的偏振膜25时特别有利。Ty及Py是根据后述的实施例一项的记载而测定者。
所得的偏振膜25可依次卷绕于卷绕辊27而形成卷形态者，也可不经卷绕便直接供应至偏振板制作工序(在偏振膜25的单面或双面层叠保护层(保护膜等)的工序)。
(4)低旋转阻力辊
构筑/界定偏振膜制造装置的输送路径、且以与输送的PVA系树脂膜10的表面相接触的方式配置的上述多个辊包含至少1个旋转阻力为0.025N以下的低旋转阻力辊。由此，可抑制产生于偏振膜25的表面的特定凹凸缺陷。从更有效地抑制特定凹凸缺陷的观点出发，低旋转阻力辊的旋转阻力优选为0.01N以下。该辊的旋转阻力通常为0.001N以上。
在此所称的辊的旋转阻力是指依下述方式所测定的旋转阻力值。即，将薄膜卷绕于辊后，将经卷绕的膜的外侧端部固定于弹簧秤，当以一定速度拉取弹簧秤以使辊的转速成为100rpm时施加在弹簧秤上的载重。
通过使用低旋转阻力辊可抑制特定凹凸缺陷，推测是因为：与低旋转阻力辊接触时的输送中的PVA系树脂膜10的张力得以降低，低旋转阻力辊及与其接触的PVA系树脂膜10之间的密合力变低，结果是，PVA系树脂膜10从低旋转阻力辊离开时产生的、与基于想要使PVA系树脂膜10继续密合于低旋转阻力辊的上述密合力的阻力相伴的PVA系树脂膜10的变形受到抑制。
低旋转阻力辊的种类并无特别限制，可为导引辊之类的自由辊，也可为轧辊、吸取辊之类的驱动辊。将低旋转阻力辊应用于轧辊时，构成轧辊的一对辊中，可仅一者为低旋转阻力辊，也可两者均为低旋转阻力辊。若低旋转阻力辊为不具有用于输送膜的驱动力的自由辊时，可提高抑制特定凹凸缺陷的效果，因此优选为导引辊。
例如，通过减少辊的每单位体积的重量，或是使用摩擦力矩小的轴承，皆可减少辊的旋转阻力。这些之中，减少辊的每单位体积的重量的方法在减少辊的旋转阻力上为有效。为了将辊的旋转阻力设为上述范围，低旋转阻力辊的每单位体积的重量优选为1500kg/m3以下，更优选为1000kg/m3以下，进一步优选为700kg/m3以下。通过在辊的芯材(或辊整体的材料)使用碳、铝等轻质材料，或者使用中空的辊，皆可降低辊的每单位体积的重量。该辊的每单位体积的重量通常为200kg/m3以上。
经过本发明人的研究，已明白低旋转阻力辊的表面(与输送中的PVA系树脂膜10相接触的表面)的低润湿性对于抑制特定凹凸缺陷而言有利地发挥作用。推测这是因为：其有助于降低低旋转阻力辊及与其接触的PVA系树脂膜10之间的上述密合力。因此，低旋转阻力辊优选具有润湿性低的表面(与输送中的PVA系树脂膜10相接触的表面)，具体而言，低旋转阻力辊具有对于水的接触角(对水接触角)优选为60度以上、更优选为80度以上、进一步优选为100度以上的表面。对于水的接触角的最大值通常为120度左右。低旋转阻力辊的表面对于水的接触角是根据后述的实施例一项的记载而测定者。
具有如上述的对水接触角大的表面的辊可为在辊表面设置有由对水接触角大的材料形成的表面层(涂布层)者。对水接触角大的材料的具体例包括：聚四氟乙烯等氟系树脂；硅氧烷系树脂等含硅原子的树脂；碳、类金刚石碳(DLC)等碳材料。
低旋转阻力辊的配置数目没有特别限定，而且低旋转阻力辊可配置在偏振膜制造装置所具有的输送路径的任意位置。因此，可在输送路径配置2个以上的低旋转阻力辊，或者，与输送中的PVA系树脂膜10的表面相接触的所有辊均可为低旋转阻力辊，但为了得到抑制特定凹凸缺陷的效果，优选在至少从湿式处理部20(湿式处理工序S101)至干燥处理部22(干燥处理工序S102)的输送路径的任意位置配置低旋转阻力辊。所谓的“从湿式处理部20(湿式处理工序S101)”，在例如最初的湿式处理为溶胀处理时，是指溶胀处理槽13的上游端(PVA系树脂膜10要浸渍于溶胀浴的时刻)。所谓的“至干燥处理部22(干燥处理工序S102)”是指干燥处理部22(干燥机构)的下游端(干燥处理结束的时刻)。
其中，更优选考虑下述几点后再选择低旋转阻力辊的配置位置。
〔a〕已由本发明人确认，相较于在交联处理前，经交联处理后的PVA系树脂膜10在与辊接触时有更容易产生特定凹凸缺陷的倾向。因此，优选为在交联处理槽17及其之后(交联处理槽17或其下游侧)的输送路径配置至少1个低旋转阻力辊，在交联处理槽17及其之后的输送路径存在多个辊时，优选使这些辊全部为低旋转阻力辊。
〔b〕已由本发明人确认，相较于在湿式处理中，湿式处理结束后的PVA系树脂膜10在与辊接触时有更容易产生特定凹凸缺陷的倾向。因此，优选在比交联处理槽17更下游侧的输送路径配置至少1个低旋转阻力辊，在比交联处理槽17更下游侧的输送路径存在有多个辊时，优选使这些辊全部为低旋转阻力辊。在交联处理后进行清洗处理之类的湿式处理时，优选为在比湿式处理部20更下游侧的输送路径配置至少1个低旋转阻力辊，在比湿式处理部20更下游侧的输送路径存在多个辊时，优选使这些辊全部为低旋转阻力辊。
〔c〕已由本发明人确认，具有较刚结束湿式处理后(刚从最后的湿式处理槽取出后)的含水率更低的含水率的PVA系树脂膜10与辊接触时，有容易产生特定凹凸缺陷的倾向。因此，在这一方面，也优选在比湿式处理部20更下游侧的输送路径配置至少1个低旋转阻力辊，在比湿式处理部20更下游侧的输送路径存在多个辊时，优选使这些辊全部为低旋转阻力辊。尤其是，刚结束湿式处理后，通过干燥处理的完成而成为具有所期望的含水率的偏振膜25前的PVA系树脂膜10与辊接触时，容易产生特定凹凸缺陷。因此，优选在将湿式处理部20与干燥处理部22连接的输送路径、或者在干燥处理部22前半部的输送路径配置至少1个低旋转阻力辊，当将湿式处理部20与干燥处理部22连接的输送路径、及在干燥处理部22前半部的输送路径存在多个辊时，优选使这些辊全部为低旋转阻力辊。上述的“具有较刚结束湿式处理后(刚从最后的湿式处理槽取出后)的含水率更低的含水率的PVA系树脂膜10”的含水率例如为8重量％～30重量％，进而为10重量％～25重量％。含水率的意义(测定方法)与上述同样。
〔d〕存在与辊接触的PVA系树脂膜10的厚度越小则越容易产生特定凹凸缺陷的倾向。因此，与供应至湿式处理工序S101的时刻的PVA系树脂膜10的厚度相比，因湿式拉伸处理而使厚度变小的PVA系树脂膜10所接触的辊优选设为低旋转阻力辊，存在多个该辊时，优选使这些辊全部为低旋转阻力辊。具体而言，优选在时常进行湿式拉伸的染色处理槽15及其之后(染色处理槽15或其后的下游侧)或交联处理槽17及其之后(交联处理槽17或其后的下游侧)的输送路径配置至少1个低旋转阻力辊，在该输送路径存在有多个辊时，优选使这些辊全部为低旋转阻力辊。上述的“与供应至湿式处理工序S101的时刻的PVA系树脂膜10的厚度相比，因湿式拉伸处理而使厚度变小的PVA系树脂膜10”的厚度例如为15μm以下，进而为12μm以下，甚至进而为10μm以下。
〔e〕相较于与辊接触之前之后的PVA系树脂膜10的输送方向未改变时，当方向发生改变时有容易产生特定凹凸缺陷的倾向。因此，优选使与其接触的PVA系树脂膜10的输送方向发生改变的辊设为低旋转阻力辊。使即将与辊接触前的PVA系树脂膜10的输送方向向量设为A，使刚从该辊离开后的PVA系树脂膜10的输送方向向量设为B，即将与辊接触前的PVA系树脂膜10的输送方向与刚从该辊离开后的PVA系树脂膜10的输送方向没有改变而呈相同方向时的向量A与B所成的角度(输送方向变化角度)α设为0°，而即将与辊接触前的PVA系树脂膜10的输送方向与刚从该辊离开后的PVA系树脂膜10的输送方向正好相反时的向量A与B所成的角度α设为180°时，本发明在角度α满足30°～180°、进而满足45°～180°时尤为有利。
(5)特定凹凸缺陷
可能在偏振膜的表面产生的本说明书所称的特定凹凸缺陷在将该偏振膜应用于液晶显示装置时使其产生亮点(漏光)。该亮点是在将背光的亮度提高至一定程度以上时方可被辨识出的缺陷，此点为本发明人首次发现的新课题。上述的“将背光的亮度提高至一定程度以上时”是指以亮度计测定的背光的亮度约为10,000cd/m2以上之时。若以从含有该背光及配置于其上的液晶面板(液晶面板具备液晶单元及配置于其两面的偏振板)所构成的液晶显示装置射出的光的亮度而言，该背光的亮度大约是相当于500cd/m2以上。
关于特定凹凸缺陷，典型而言，以该凹凸缺陷以外的偏振膜面为基准，由比该基准更突出的1个凸部及比上述基准更下陷且与该凸部相邻的1个凹部的组合形成。通常，在膜输送方向的上游侧具有凸部，其下游侧具有凹部。在现有的偏振膜中，多个这样的由凸部及凹部所形成的凹凸部几乎遍布在偏振膜的整个面而随机地形成为点状。从上方观察偏振膜时(从与膜面垂直的方向观察时)，该凹凸部的形状例如为圆形、椭圆形等，但有时也为不规则形状。从上方观察偏振膜时(从与膜面垂直的方向观察时)，特定凹凸缺陷的长径(最大径)为0.5mm～5mm左右(例如1mm～3mm)。关于特定凹凸缺陷，典型而言，相对于上述基准，凸部的高度及凹部的深度为0.05μm～0.5μm左右。特定凹凸缺陷中的高低差(从凸部的顶部至凹部的底部为止的膜厚度方向距离)为0.1μm～1μm左右。特定凹凸缺陷的长径或高低差在上述的范围外时，该凹凸缺陷不会产生亮点，有不易造成问题的倾向。特定凹凸缺陷的存在例如可利用放大镜等来确认。特定凹凸缺陷的长径及高低差是根据后述的实施例一项中所记载的方法而测定。
根据本发明，可抑制或防止在偏振膜表面产生如上述的特定凹凸缺陷。由此，即使将偏振膜应用在使用了亮度高的背光的液晶显示装置时，也可有效地抑制或防止亮点(漏光)。
对于本发明的偏振膜，优选其至少一个面的特定凹凸缺陷的密度为20个/m2以下，更优选为15个/m2以下，进一步优选为10个/m2以下。在偏振膜的至少一个面的特定凹凸缺陷的密度可以说期望为0个/m2，但如果为20个/m2以下，观看液晶显示装置的画面时的亮点不取决于其画面的尺寸，几乎不会影响画面的辨识性。与此相对，特定凹凸缺陷的密度超过20个/m2时，会因画面的尺寸而阻碍辨识性。特定凹凸缺陷的密度是根据后述的实施例一项所记载的方法而测定。需要说明的是，当在偏振膜的一个面发现有特定凹凸缺陷时，通常也会在另一面的相同位置形成凸部与凹部颠倒的特定凹凸缺陷。
<偏振板>
通过在偏振膜25的单面或双面形成保护层，可得到偏振板。保护层除了可为由热塑性树脂形成的保护膜以外，也可为活性能量射线固化性树脂组成物的固化物层。使用保护膜时，通过在偏振膜25的单面或双面借助粘接剂层来贴合保护膜，可得到偏振板。在偏振膜25的双面贴合有保护膜时，构成这些保护膜的热塑性树脂可为同种或不同种。
构成保护膜的热塑性树脂为具有透光性的热塑性树脂，优选为光学上透明的热塑性树脂。热塑性树脂例如可为：链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素之类的纤维素系树脂；聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯之类的聚酯系树脂；聚碳酸酯系树脂；甲基丙烯酸甲酯系树脂之类的(甲基)丙烯酸系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚氯乙烯系树脂；丙烯腈/丁二烯/苯乙烯系树脂；丙烯腈/苯乙烯系树脂；聚乙酸乙烯酯系树脂；聚偏二氯乙烯系树脂；聚酰胺系树脂；聚缩醛系树脂；改性聚苯醚系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚芳酯系树脂；聚酰胺酰亚胺系树脂；聚酰亚胺系树脂等。
作为链状聚烯烃系树脂，除了聚乙烯树脂、聚丙烯树脂之类的链状烯烃的均聚物以外，还可列举由2种以上的链状烯烃形成的共聚物。更具体的例子包含：聚丙烯系树脂(作为丙烯均聚物的聚丙烯树脂、以丙烯为主体的共聚物)、聚乙烯系树脂(作为乙烯均聚物的聚乙烯树脂、以乙烯为主体的共聚物)。
环状聚烯烃系树脂是以环状烯烃为聚合单元而聚合的树脂的总称。若列举环状聚烯烃系树脂的具体例，有环状烯烃的开环(共聚)聚合物；环状烯烃的加成聚合物；环状烯烃与乙烯、丙烯之类的链状烯烃的共聚物(代表性地为无规共聚物)；及它们经不饱和羧酸或其衍生物改性后的接枝聚合物；以及它们的氢化物等。其中，可优选采用：使用降冰片烯或多环降冰片烯系单体等降冰片烯系单体作为环状烯烃的降冰片烯系树脂。
所谓纤维素系树脂，是指由棉绒或木浆(阔叶木浆、针叶木浆)等原料纤维素所得的纤维素的羟基中的一部分或全部氢原子经乙酰基、丙酰基和/或丁酰基取代后的纤维素有机酸酯或纤维素混合有机酸酯。例如可列举包含纤维素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、及它们的混合酯等的物质。其中，优选为三乙酰纤维素、二乙酰纤维素、乙酸丙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素。
聚酯系树脂是具有酯键且除了上述纤维素系树脂以外的树脂，一般为由多元羧酸或其衍生物与多元醇的缩聚物所形成者。作为多元羧酸或其衍生物，可使用二元的二羧酸或其衍生物，例如可列举对苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。作为多元醇，可使用二元的二醇，可列举例如乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、环己烷二甲醇等。合适的聚酯系树脂的例子包括聚对苯二甲酸乙二醇酯。
聚碳酸酯系树脂是由单体单元借助碳酸酯基键合而成的聚合物所形成的工程塑料，其是具有高耐冲击性、耐热性、阻燃性、透明性的树脂。聚碳酸酯系树脂可以是为了降低光弹性系数而修饰了聚合物骨架之类的被称为改性聚碳酸酯的树脂、改良了波长依赖性的共聚聚碳酸酯等。
(甲基)丙烯酸系树脂为含有源自(甲基)丙烯酸系单体的结构单元的聚合物。该聚合物典型地为含有甲基丙烯酸酯的聚合物。优选为所含的源自甲基丙烯酸酯的结构单元的比率相对于全部结构单元为50重量％以上的聚合物。(甲基)丙烯酸系树脂可为甲基丙烯酸酯的均聚物，也可为含有源自其他聚合性单体的结构单元的共聚物。此时，源自其他聚合性单体的结构单元的比率相对于全部结构单元优选为50重量％以下。
可构成(甲基)丙烯酸系树脂的甲基丙烯酸酯优选为甲基丙烯酸烷基酯。甲基丙烯酸烷基酯可列举甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯之类的烷基的碳数为1～8的甲基丙烯酸烷基酯。甲基丙烯酸烷基酯中所含的烷基的碳数优选为1～4。(甲基)丙烯酸系树脂中，甲基丙烯酸酯可单独使用1种或并用2种以上。
可构成(甲基)丙烯酸系树脂的上述其他聚合性单体可举出丙烯酸酯、及其他在分子内具有聚合性碳-碳双键的化合物。其他聚合性单体可单独使用1种或并用2种以上。丙烯酸酯优选为丙烯酸烷基酯。丙烯酸烷基酯可举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-羟基乙酯之类的烷基的碳数为1～8的丙烯酸烷基酯等。丙烯酸烷基酯中所含的烷基的碳数优选为1～4。(甲基)丙烯酸系树脂中，丙烯酸酯可单独使用1种或并用2种以上。
其他在分子内具有聚合性碳-碳双键的化合物可列举乙烯、丙烯、苯乙烯等乙烯基系化合物；丙烯腈之类的乙烯基氰化合物。其他在分子内具有聚合性碳-碳双键的化合物可单独使用1种或并用2种以上。
保护膜也可为兼具相位差膜、增亮膜那样的光学功能的膜。例如可通过将由上述热塑性树脂形成的膜拉伸(单轴拉伸或二轴拉伸等)，或在该膜上形成液晶层等，从而形成赋予了任意相位差值的相位差膜。保护膜可具有被层叠于其表面的、如硬涂层、防眩层、抗反射层、抗静电层、防污层之类的表面处理层(涂布层)。
保护膜的厚度通常为1μm～100μm，从强度、处理性、偏振板的薄膜化等的观点出发，优选为5μm～60μm，更优选为5μm～50μm。
作为用于偏振膜25与保护膜的贴合时的粘接剂，可使用水性粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂或热固化性粘接剂，优选为水性粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂。在偏振膜25的双面贴合保护膜时，用于贴合这些保护膜的粘接剂可为同种类的粘接剂，也可为不同种类的粘接剂。
水性粘接剂是使粘接剂成分溶解于水中者或分散于水中者。优选可使用的水性粘接剂是例如使用聚乙烯醇系树脂或氨基甲酸酯树脂作为主成分的粘接剂组合物。
使用聚乙烯醇系树脂作为粘接剂的主成分时，该聚乙烯醇系树脂可为部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇之类的聚乙烯醇树脂，除此之外，也可为羧基改性聚乙烯醇、乙酰乙酰基改性聚乙烯醇、羟甲基改性聚乙烯醇、氨基改性聚乙烯醇之类的经改性的聚乙烯醇系树脂。聚乙烯醇系树脂除了作为乙酸乙烯酯均聚物的聚乙酸乙烯酯经皂化处理所得的乙烯醇均聚物以外，还有由乙酸乙烯酯及可与其共聚的其他单体的共聚物经皂化处理所得的聚乙烯醇系共聚物。
以聚乙烯醇系树脂作为粘接剂成分的水性粘接剂通常为聚乙烯醇系树脂的水溶液。粘接剂中的聚乙烯醇系树脂的浓度相对于水100重量份通常为1重量份～10重量份，优选为1重量份～5重量份。
为了提升粘接性，由聚乙烯醇系树脂的水溶液形成的粘接剂优选含有多元醛、三聚氰胺系化合物、氧化锆化合物、锌化合物、乙二醛、乙二醛衍生物、水溶性环氧树脂之类的固化性成分或交联剂。就水溶性环氧树脂而言，可适宜使用例如使通过二亚乙基三胺、三亚乙基四胺等聚亚烷基多胺与己二酸等二羧酸的反应所得的聚酰胺胺再与表氯醇反应而得的聚酰胺多胺环氧树脂。该聚酰胺多胺环氧树脂的市售品可列举“Sumirez Resin 650”(田冈化学工业株式会社制)、“Sumirez Resin 675”(田冈化学工业株式会社制)、“WS-525”(日本PMC株式会社制)等。这些固化性成分或交联剂的添加量(作为固化性成分及交联剂而同时添加时为其合计量)相对于聚乙烯醇系树脂100重量份通常为1重量份～100重量份，优选为1重量份～50重量份。上述固化性成分或交联剂的添加量相对于聚乙烯醇系树脂100重量份小于1重量份时，有提升粘接性的效果变小的倾向，该添加量相对于聚乙烯醇系树脂100重量份超过100重量份时，会有粘接剂层变脆的倾向。
并且，使用氨基甲酸酯树脂作为粘接剂的主成分时的合适例，可列举聚酯系离聚物型氨基甲酸酯树脂与具有缩水甘油醚氧基的化合物的混合物。所谓聚酯系离聚物型氨基甲酸酯树脂，是指具有聚酯骨架的氨基甲酸酯树脂，且在其中导入有少量的离子性成分(亲水成分)者。该离聚物型氨基甲酸酯树脂由于不使用乳化剂而直接在水中乳化成为乳液，故适合作为水性的粘接剂。
活性能量射线固化性粘接剂是通过紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线的照射而固化的粘接剂。使用活性能量射线固化性粘接剂时，偏振板所具有的粘接剂层为该粘接剂的固化物层。
活性能量射线固化性粘接剂可为含有通过阳离子聚合而固化的环氧系化合物作为固化性成分的粘接剂，优选是含有该环氧系化合物作为固化性成分的紫外线固化性粘接剂。在此所称的环氧系化合物意指在分子内具有平均1个以上、优选为2个以上的环氧基的化合物。环氧系化合物可使用1种或并用2种以上。
可适合使用的环氧系化合物的具体例包括：通过对芳香族多元醇的芳香环进行氢化反应所得的脂环式多元醇与表氯醇反应而得的氢化环氧系化合物(具有脂环式环的多元醇的缩水甘油醚)；脂肪族多元醇或其环氧烷加成物的聚缩水甘油醚之类的脂肪族环氧系化合物；在分子内具有1个以上的已键结于脂环式环的环氧基的环氧系化合物即脂环式环氧系化合物。
活性能量射线固化性粘接剂中，可含有自由基聚合性的(甲基)丙烯酸系化合物作为固化性成分，用以代替上述环氧系化合物，或同时含有环氧系化合物与(甲基)丙烯酸系化合物。作为(甲基)丙烯酸系化合物，可列举：在分子内具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯单体；使2种以上的含有官能团的化合物反应而得的、在分子内具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯低聚物等含有(甲基)丙烯酰氧基的化合物。
活性能量射线固化性粘接剂中含有通过阳离子聚合而固化的环氧系化合物作为固化性成分时，优选含有光阳离子聚合引发剂。光阳离子聚合引发剂可列举例如芳香族重氮盐；芳香族碘鎓盐或芳香族锍盐等鎓盐；铁-芳烃络合物等。并且，活性能量射线固化性粘接剂含有(甲基)丙烯酸系化合物之类的自由基聚合性固化性成分时，优选含有光自由基聚合引发剂。光自由基聚合引发剂可列举例如苯乙酮系引发剂、二苯甲酮系引发剂、苯偶姻醚系引发剂、噻吨酮系引发剂、氧杂蒽酮、芴酮、樟脑醌、苯甲醛、蒽醌等。
在偏振膜上贴合保护膜之前，可对偏振膜和/或保护膜的贴合面进行等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理之类的表面活化处理。通过该表面活化处理，可提高偏振膜与保护膜的粘接性。
实施例
以下，列示实施例及比较例而更具体地说明本发明，但本发明并不限定于这些的例子。关于测定或评价是根据以下的方法。
(1)膜厚度的测定
使用Nikon株式会社制的数字测微器“MH-15M”来测定。
(2)膜的含水率的测定
使用含水率不同的多个聚乙烯醇膜试样，制作示出通过干燥重量法所得的含水率与红外线吸收式含水率计(CHINO株式会社制的“IRMA1100”)的测定值之间的相关关系的校准曲线(换算式)。使用上述含水率计而得到测定值，将该测定值代入上述校准曲线(换算式)，并换算成通过干燥重量法所得的含水率〔重量％〕，以此作为膜的含水率。关于通过干燥重量法所得的含水率，将在105℃热处理120分钟时的聚乙烯醇膜试样的重量设为W1，热处理前的聚乙烯醇膜试样的重量设为W0时，是根据下述式而求出者：
通过干燥重量法所得的含水率〔重量％〕＝{(W0-W1)÷W0}×100
上述校准曲线是针对测定对象的每个不同膜厚而作成的。
(3)特定凹凸缺陷的确认及评价
以放大镜观察所得的偏振膜的单面(在一个面发现特定凹凸缺陷时，通常也会在另一面的相同位置形成特定凹凸缺陷)，确认出有无特定凹凸缺陷。如上所述，以该凹凸缺陷以外的偏振膜面为基准，特定凹凸缺陷包含比该基准更突出的1个凸部及比上述基准更下陷且与该凸部相邻的1个凹部的组合。存在特定凹凸缺陷时，使用Ryoka Systems株式会社制的白色干涉仪“VertScan”测定平均的特定凹凸缺陷的长径(平均长径)、及平均的特定凹凸缺陷的高低差(平均高低差；从凸部的顶部起至凹部的底部为止的膜厚度方向的平均距离)(参照下述(4))。并且，在所得的偏振膜中的随机区域裁切出3片透射轴方向200mm×吸光轴方向300mm的样品，并分别以放大镜对其进行观察，计算特定凹凸缺陷的个数，由此求出特定凹凸缺陷的密度(偏振膜的每单位面积的特定凹凸缺陷的数量，单位：个/m2)。具体而言，特定凹凸缺陷的密度的计算是根据下述式：
特定凹凸缺陷的密度(个/m2)＝(3片样品中的特定凹凸缺陷的合计个数)/(3片样品的合计面积)
结果示于表1。需要说明的是，以上的特定凹凸缺陷的确认仅针对所得的偏振膜的单面进行，在下述的实施例及比较例之中，特定凹凸缺陷的确认针对偏振膜的同一面进行。
(4)特定凹凸缺陷的平均长径及平均高低差的测定
测定时使用Ryoka Systems株式会社制的白色干涉仪“VertScan”。所谓长径(最大径)是指：从上方观察特定凹凸缺陷时(从与膜面垂直的方向观察时)，从凸部的外侧端起至凹部的外侧端为止的距离中的最长距离。任意选出10个特定凹凸缺陷，并将这些长径的平均值设为“平均长径”。并且，针对上述10个特定凹凸缺陷测定高低差，并将它们的平均值设为“平均高低差”。结果示于表1。需要说明的是，在实施例和比较例中，所测定的各个特定凹凸缺陷的长径为0.5mm～5mm的范围，高低差为0.1μm～1μm的范围内。
(5)亮点(漏光)的确认及评价
从所得的偏振膜的随机区域裁切出3片透射轴方向200mm×吸光轴方向300mm的样品，并对其分别实施亮点(漏光)的评价。具体而言，在暗室内，在亮度为20,000cd/m2(使用Topcon Technohouse株式会社制的亮度计“BM-5A”进行测定)的背光上配置检查用的偏振板，再于其上方配置上述偏振膜样品。此时，以使检查用的偏振板所含的偏振膜的透射轴与偏振膜样品的透射轴成正交的方式配置检查用的偏振板及偏振膜样品。其次，点亮背光，从偏振膜样品侧目视确认该样品的表面有无点状的亮点(漏光)。当发现亮点时，计量其个数，求出其密度(每单位面积的亮点数量，单位：个/m2)。具体而言，亮点的密度计算是根据下述式：
亮点的密度(个/m2)＝(3片样品中的亮点的合计个数)/(3片样品的合计面积)
结果示于表1。
并且，在上述条件下确认亮度时，除了施加下述的条件(A)或(B)中的任一者以外，以与上述同样的方式求出亮点的密度。结果示于表1。
(A)在背光与检查用的偏振板之间进一步配置平均透射率为50％的ND滤光器(此时，背光的实质亮度为10,000cd/m2)。
(B)在背光与检查用的偏振板之间进一步配置平均透射率为3％的ND滤光器(此时，背光的实质亮度为600cd/m2)。
(6)能见度校正单体透射率Ty及能见度校正偏振度Py的测定
使用带有积分球的吸光光度计(日本分光株式会社制的“V7100”)，对所得的透射率、偏振度利用JIS Z8701的2度视角(C光源)进行能见度校正，测定能见度校正单体透射率Ty及能见度校正偏振度Py。
(7)导引辊的旋转阻力的测定
在辊上卷绕薄膜(厚度25μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)后，将卷绕后的膜的外侧端部固定于弹簧秤，以一定速度拉取弹簧秤以使辊的转速达到100rpm，测定此时施加于弹簧秤的载重，并以此作为导引辊的旋转阻力。
(8)导引辊表面的对于水的接触角(对水接触角)的测定
使用接触角计(协和界面科学公司制的全自动接触角计“DM-701”)，利用液滴法在温度23℃、相对湿度50％的条件下进行测定。
<实施例1>
使用除了干燥处理部包含合计15个导引辊(自由辊)(均与膜表面相接触)之外均与图1及图2同样的偏振膜制造装置，从长条的PVA系树脂膜10连续制造长条的偏振膜25。其次，使用所得的偏振膜25制作偏振板。具体内容如下所述。
(1)PVA系树脂膜10的制备
准备如下的PVA系树脂膜a作为PVA系树脂膜10。该PVA系树脂膜a是以干式将厚度30μm的聚乙烯醇膜单轴拉伸至4.1倍者，构成膜的聚乙烯醇的皂化度为99.9摩尔％以上、平均聚合度为2400，且含有相对于构成膜的聚乙烯醇100重量份为10重量份的增塑剂。
(2)湿式处理工序S101
将PVA系树脂膜a从卷出辊11卷出，同时施加张力在保持张紧的状态下连续输送，并以滞留时间60秒浸渍于容纳有40℃纯水的溶胀处理槽13中而使PVA系树脂膜a充分溶胀(溶胀处理工序)。将从溶胀处理槽13拉出后的膜以滞留时间60秒浸渍于容纳有碘/碘化钾/水以重量比计为0.1/6/100的30℃染色处理液的染色处理槽15中，同时在此期间进行单轴拉伸(在浴中的辊间拉伸)(染色处理工序)。将从染色处理槽15拉出后的膜以滞留时间130秒浸渍于容纳有碘化钾/硼酸/水以重量比计为15/5.5/100的68℃交联处理液的交联处理槽17中，同时于此期间进行单轴拉伸(在浴中的辊间拉伸)(交联处理工序)。将从交联处理槽17拉出后的膜以滞留时间3秒浸渍于容纳有20℃纯水的清洗处理槽19中来进行清洗(清洗处理工序)。以PVA系树脂膜a为基准的累积拉伸倍率为4.5倍。
(3)干燥处理工序S102
接着，一边将从清洗处理槽19拉出后的膜连续地输送，一边导入至作为热风烘箱的干燥炉21，进行滞留时间90秒、温度60℃的干燥处理，得到偏振膜25。所得的偏振膜25的厚度为12μm、能见度校正单体透射率Ty为42.5％、能见度校正偏振度Py为99.993％、含水率为10重量％。针对所得的偏振膜25进行特定凹凸缺陷的确认。结果示于表1。需要说明的是，与第一个低旋转阻力辊相接触时的膜的厚度与偏振膜25的厚度实质上为相同。
在实施例1中，在偏振膜制造装置所具有的构筑膜的输送路径的导引辊中，将构筑干燥炉21的前半部的输送路径的导引辊(15个导引辊中的上游侧的8个)全部设为低旋转阻力辊。这些低旋转阻力辊是使用以下的低旋转阻力辊I。除了构筑干燥炉21的前半部的输送路径的导引辊以外的导引辊(下游侧的7个)使用以下的导引辊II。湿式处理部的导引辊也全部使用以下的导引辊II。
〔低旋转阻力辊I〕
·构成：芯材使用碳且于表面涂布有氟系树脂层的导引辊、
·旋转阻力：0.008N、
·每单位体积的重量：640kg/m3、
·表面的对水接触角：95度、
·各低旋转阻力辊的膜角度α(输送方向变化角度)：90°或180°(各实施例和比较例是共通的)。
〔导引辊II〕
·构成：芯材使用SUS304且表面已实施镀铬的导引辊、
·旋转阻力：0.03N、
·每单位体积的重量：1600kg/m3、
·表面的对水接触角：75度。
针对所得的偏振膜25，根据上述的方法来进行特定凹凸缺陷及亮点(漏光)的评价。结果示于表1。
(4)偏振板的制作
将所得的偏振膜25连续地输送，同时将第1保护膜〔Konica Minolta Opto株式会社制的TAC膜“KC2UAW”，厚度：25μm]及第2保护膜〔JSR株式会社制的环状聚烯烃系树脂膜，商品名“FEKB015D3”，厚度：15μm〕连续地输送，在偏振膜25与第1保护膜之间、以及偏振膜25与第2保护膜之间注入水性粘接剂，同时使其在贴合辊之间通过，制作由第1保护膜/水性粘接剂层/偏振膜25/水性粘接剂层/第2保护膜形成的层叠膜。
上述的水性粘接剂是使用依下述方式所得的水溶液：在使聚乙烯醇粉末〔日本合成化学工业株式会社制的商品名“Gohsefimer”，平均聚合度1100〕溶解于95℃的热水而得的浓度3重量％的聚乙烯醇水溶液中，以相对于聚乙烯醇粉末10重量份为1重量份的比率混合交联剂〔日本合成化学工业株式会社制的乙醛酸钠〕而得到的水溶液。
接着，输送所得的层叠膜并使其通过热风干燥机，以80℃进行300秒的加热处理，由此使水性粘接剂层干燥而得到偏振板。
<实施例2>
除了使用如下的低旋转阻力辊III以外，以与实施例1同样的方式制作偏振膜25(厚度12μm)，接着制作偏振板。特定凹凸缺陷和亮点(漏光)的评价结果示于表1。
〔低旋转阻力辊III〕
·构成：芯材使用碳且于表面涂布有类金刚石碳层的导引辊、
·旋转阻力：0.008N、
·每单位体积的重量：640kg/m3、
·表面的对水接触角：105度。
<实施例3>
除了将构筑干燥炉21的前半部的输送路径的所有导引辊、以及构筑连接清洗处理槽19与干燥炉21的输送路径的所有导引辊设为低旋转阻力辊I以外，以与实施例1同样的方式制作偏振膜25(厚度12μm)，接着制作偏振板。特定凹凸缺陷和亮点(漏光)的评价结果示于表1。
<实施例4～6>
除了使用以干式将厚度20μm的聚乙烯醇膜单轴拉伸至4.1倍而成的PVA系树脂膜b作为PVA系树脂膜10以外，各自以与实施例1～3同样的方式制作偏振膜25(厚度7μm)，接着制作偏振板。特定凹凸缺陷和亮点(漏光)的评价结果示于表1。
<比较例1>
除了不使用低旋转阻力辊I，将偏振膜制造装置所具有的构筑膜的输送路径的导引辊全部设为上述的导引辊II以外，以与实施例1同样的方式制作偏振膜25(厚度12μm)，接着制作偏振板。特定凹凸缺陷和亮点(漏光)的评价结果示于表1。
<比较例2>
除了使用以干式将厚度20μm的聚乙烯醇膜单轴拉伸至4.1倍而成的PVA系树脂膜b作为PVA系树脂膜10以外，以与比较例1同样的方式制作偏振膜25(厚度7μm)，接着制作偏振板。特定凹凸缺陷和亮点(漏光)的评价结果示于表1。
[表1]
附图标记说明
1a、1b、1c、1d、1e、1f、1g、1h、1i、1j、1k、1l、1m、1n、1o、1p、1q、1r、1s导引辊；2a、2b、2c、2d、2e、2f轧辊；10聚乙烯醇系树脂膜(PVA系树脂膜)；11卷出辊；13溶胀处理槽；15染色处理槽；17交联处理槽；19清洗处理槽；20湿式处理部；21干燥炉；22干燥处理部；25偏振膜；27卷绕辊。

Claims (17)

1.一种制造装置，其是用于由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置，包括：
多个辊，其构成所述聚乙烯醇系树脂膜的输送路径，并以与所述聚乙烯醇系树脂膜的表面相接触的方式配置；
湿式处理部，其配置于所述输送路径上，并包含1个以上的处理槽，所述处理槽容纳要浸渍所述聚乙烯醇系树脂膜的处理液；以及
干燥处理部，其配置于所述输送路径上，用于使湿式处理后的聚乙烯醇系树脂膜干燥，
所述多个辊包含旋转阻力为0.025N以下的低旋转阻力辊。
2.根据权利要求1所述的制造装置，其中，所述低旋转阻力辊配置于从所述湿式处理部至所述干燥处理部的输送路径中的任意位置。
3.根据权利要求2所述的制造装置，其中，所述湿式处理部依次包含：容纳含有二色性色素的染色处理液的染色处理槽；以及容纳含有交联剂的交联处理液的交联处理槽，
所述低旋转阻力辊配置于所述交联处理槽或该交联处理槽之后。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造装置，其中，所述低旋转阻力辊具有对于水的接触角为60度以上的表面。
5.根据权利要求4所述的制造装置，其中，所述表面由氟系树脂、含硅原子的树脂、碳或类金刚石碳形成。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的制造装置，其中，所述低旋转阻力辊的每单位体积的重量为1500kg/m3以下。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的制造装置，其中，所述低旋转阻力辊为导引辊。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的制造装置，其中，与所述低旋转阻力辊相接触的所述聚乙烯醇系树脂膜的厚度为15μm以下。
9.一种制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，包括以下工序：
湿式处理工序，一边沿着输送路径输送所述聚乙烯醇系树脂膜，一边使其浸渍于1个以上的处理液中，所述输送路径包含以与所述聚乙烯醇系树脂膜的表面相接触的方式配置的多个辊；以及
干燥处理工序，一边沿着所述输送路径输送所述聚乙烯醇系树脂膜，一边使湿式处理后的聚乙烯醇系树脂膜干燥，
所述多个辊包含旋转阻力为0.025N以下的低旋转阻力辊。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述低旋转阻力辊配置于从所述湿式处理工序至所述干燥处理工序的输送路径中的任意位置。
11.根据权利要求10所述的制造方法，其中，所述湿式处理工序依次包括：浸渍于含有二色性色素的染色处理液的工序；以及浸渍于含有交联剂的交联处理液的工序，
所述低旋转阻力辊配置于浸渍于所述交联处理液的工序或该工序以后的输送路径。
12.根据权利要求9～11中任一项所述的制造方法，其中，所述低旋转阻力辊具有对于水的接触角为60度以上的表面。
13.根据权利要求12所述的制造方法，其中，所述表面由氟系树脂、含硅原子的树脂、碳或类金刚石碳形成。
14.根据权利要求9～13中任一项所述的制造方法，其中，所述低旋转阻力辊的每单位体积的重量为1500g/m3以下。
15.根据权利要求9～14中任一项所述的制造方法，其中，所述低旋转阻力辊为导引辊。
16.根据权利要求9～15中任一项所述的制造方法，其中，与所述低旋转阻力辊相接触的所述聚乙烯醇系树脂膜的厚度为15μm以下。
17.一种偏振膜，其是二色性色素吸附取向于聚乙烯醇系树脂膜的偏振膜，
至少一个面的凹凸缺陷的密度为20个/m2以下，
所述凹凸缺陷包含1个凸部和1个凹部的组合，并且长径为0.5mm～5mm的范围内，所述1个凸部以所述凹凸缺陷以外的偏振膜面为基准，比该基准更突出，所述1个凹部比所述基准更下陷且与所述凸部相邻。
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