CN108364904A - 真空分立式吸附平台 - Google Patents

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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种真空分立式吸附平台。该真空分立式吸附平台包括：平台，以及设于所述平台表面用于吸附目标基板的多个真空孔；所述平台表面划分为多个区域，各个区域分别设有对应的管道以分别连接各个区域范围内的真空孔，各个区域分别设有对应的真空和破真空气体质量流量控制器以分别连接并控制各个区域所对应的管道的真空压。本发明的真空分立式吸附平台采用分立式真空控制设计，可对应多种基板尺寸，提升设备利用率。

Description

真空分立式吸附平台
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种真空分立式吸附平台。
背景技术
随着显示技术不断进步和发展，基板的尺寸也越来越大，这就造成制作显示产品的设备也越来越大，设备的基础承载基板的台面也越来越大：从最初的极小世代设备机台到现在所谓的第11世代产线(2970毫米×3320毫米，基板增大了数百倍，承载这些基板的机台也会随之扩大。但显示面板的平均应用尺寸却没有随之增大，从小到2～3英寸的应用显示屏到手机屏，再到超大电视屏幕，尺寸分布极为广泛。这样随之产生一个问题：不同世代的设备制作不同尺寸的显示屏幕会有不尽均衡的效率利用率：比如G6世代制作18.5英寸屏幕的利用率和效益最好，G8.5世代制作32英寸和47英寸屏幕更为有益，而G11世代制作超大屏幕超过65英寸的利用率更为合理。考虑到产能分配不尽合理，有时会遇到大世代制作小尺寸的情况，这就造成机台台面尤其是真空吸附平台的台面兼容不同尺寸基板的能力很差，致使部分产能受到限制或者理想的产品无法制作完成。
真空吸附平台是一种利用真空压吸附基板的载物台，其现有设计方案不外乎两种：一种是狭缝式真空吸附平台；另外一种是针孔式真空吸附平台。
如图1A所示，其为一种现有狭缝式真空吸附平台的立体示意图；如图1B所示，其为图1A中局部放大示意图；图1B中上面的视图为图1A中局部A-A方向截面放大示意图，下面的视图为图1A中局部的仰视图，右面的视图为图1A中局部的侧视图。平台100表面设有三条方形的宽约5毫米的狭缝200，通过狭缝200将基板吸附在平台100表面。狭缝200结构如图1A中局部AA方向截面所示，图1B中以沟槽220来表示整个狭缝200的局部，在平台100底部有无数小孔210作为真空和破真空气体的通道；小孔210贯穿平台100上下，形成气体通道。
参见图3A，其为图1的狭缝式真空吸附平台底部的管道分布示意图。结合图1可知，平台100表面的三条狭缝200所对应的小孔210分别通过平台100底部的三条管道500连接起来，三条管道500再通过主管道510连接在一起，主管道510再连接真空和破真空气体质量流量控制器(MFC)，利用设备控制系统对真空压进行控制，实现对基板的吸附和释放，从而达到显示面板工艺制作的要求。本领域技术人员可以理解，图3A仅用来示意说明管道分布情况，因此略去具体的连接、密封结构等。
如图2所示，其为一种现有针孔式真空吸附平台的立体示意图。平台101表面设有许多真空孔300，平台101通过真空孔300吸附基板。
参见图3B，其为图2的针孔式真空吸附平台底部的管道分布示意图。平台101表面的真空孔300通过平台101底部的管道501连接起来，图3B中管道501为一条连续的直角折线形管道，从而用一条管道连接所有的真空孔300，管道501再连接真空和破真空气体质量流量控制器，进而可以利用设备控制系统，例如可编程逻辑控制器，控制质量流量控制器对真空压进行控制，实现对基板的吸附和释放，从而达到显示面板工艺制作的要求。本领域技术人员可以理解，图3B仅用来示意说明管道分布情况，因此略去具体的连接、密封结构等。
但是现有的狭缝式真空吸附平台和针孔式真空吸附平台的控制有个缺点，就是工作时真空吸附平台上所有的小孔或真空孔会同时响应，这样基板尺寸的要求就比较均一，很难实现多尺寸基板的制作，尤其是图1A中的狭缝结构，很难实现多尺寸基板兼容设计。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供一种真空分立式吸附平台，兼容多种基板尺寸。
为实现上述目的，本发明提供了一种真空分立式吸附平台，包括：平台，以及设于所述平台表面用于吸附目标基板的多个真空孔；所述平台表面划分为多个区域，各个区域分别设有对应的管道以分别连接各个区域范围内的真空孔，各个区域分别设有对应的用于控制真空压的真空和破真空气体质量流量控制器以分别连接各个区域所对应的管道。
其中，所述真空孔均匀分布在所述平台表面。
其中，所述区域的范围根据目标基板的尺寸进行划分。
其中，所述管道设于所述平台的底部。
其中，还包括设备控制系统，所述设备控制系统设有不同的控制开关以分别控制所述质量流量控制器。
其中，所述设备控制系统为可编程逻辑控制器。
其中，所述平台表面划分为两行乘两列的四个区域。
其中，各个区域分别设有对应的一条管道以分别连接各个区域范围内的真空孔。
其中，所述管道为直角折线形管道。
综上，本发明的真空分立式吸附平台采用分立式真空控制设计，可对应多种基板尺寸，提升设备利用率。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1A为一种现有狭缝式真空吸附平台的立体示意图；
图1B为图1A中局部放大示意图；
图2为一种现有针孔式真空吸附平台的立体示意图；
图3A为图1的狭缝式真空吸附平台底部的管道分布示意图；
图3B为图2的针孔式真空吸附平台底部的管道分布示意图；
图4为本发明真空分立式吸附平台一较佳实施例的管道分布示意图。
具体实施方式
参见图4，其为本发明真空分立式吸附平台一较佳实施例的管道分布示意图。本发明提出一种真空吸附台面的解决方案：采用分立式真空吸附方案提升不同世代设备基板的兼容能力。本发明真空分立式吸附平台主要包括：平台101，以及设于所述平台101表面用于吸附目标基板的多个真空孔300；平台101表面划分为多个区域，各个区域分别设有对应的管道600以分别连接各个区域范围内的真空孔300，各个区域分别设有对应的真空和破真空气体质量流量控制器以分别连接并控制各个区域所对应的管道600的真空压。
图4所示为平台101底部的示意图，在此较佳实施例中，真空孔300在平台101表面的分布方式可以参考图2中的现有针孔式真空吸附平台，真空孔300可以均匀分布在平台101表面，用于连接真空孔300的管道600可以设于平台101的底部。平台101表面所划分区域的范围可以是根据目标基板的尺寸或种类等特性进行划分。在此较佳实施例中，平台101表面划分为两行乘两列的四个区域，相应的，图4展示了一种分为四个区域的管道分布图，实际应用中可根据目标基板的尺寸，划分为更多区域从而得到更多区域的管道分布图，各个区域的真空孔300分别通过相应的管道600连接起来，相互独立。
在此较佳实施例中，各个区域分别设有对应的单独一条管道600以分别连接各个区域范围内的真空孔300，实际上一个区域也可以设置多条管道600，只要在进行真空控制时对同一区域的多条管道600进行同步控制即可。在此较佳实施例中，管道600为直角折线形，从而可以用一条管道600连接区域内的所有的真空孔300。管道600再连接真空和破真空气体质量流量控制器，通过质量流量控制器单独控制，进而可以利用设有不同的控制开关的设备控制系统，例如可编程逻辑控制器，分别控制质量流量控制器对真空压进行控制，这样就能实现不同区域的真空控制，实现对不同区域的基板的吸附和释放。本领域技术人员可以理解，图4仅用来示意说明管道分布情况，本发明不局限于具体的连接、密封结构等。
综上，本发明的真空分立式吸附平台采用分立式真空控制设计，可对应多种基板尺寸，提升设备利用率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种真空分立式吸附平台，其特征在于，包括：平台，以及设于所述平台表面用于吸附目标基板的多个真空孔；所述平台表面划分为多个区域，各个区域分别设有对应的管道以分别连接各个区域范围内的真空孔，各个区域分别设有对应的用于控制真空压的真空和破真空气体质量流量控制器以分别连接各个区域所对应的管道。
2.如权利要求1所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，所述真空孔均匀分布在所述平台表面。
3.如权利要求1所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，所述区域的范围根据目标基板的尺寸进行划分。
4.如权利要求1所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，所述管道设于所述平台的底部。
5.如权利要求1所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，还包括设备控制系统，所述设备控制系统设有不同的控制开关以分别控制所述质量流量控制器。
6.如权利要求5所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，所述设备控制系统为可编程逻辑控制器。
7.如权利要求1所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，所述平台表面划分为两行乘两列的四个区域。
8.如权利要求1所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，各个区域分别设有对应的一条管道以分别连接各个区域范围内的真空孔。
9.如权利要求8所述的真空分立式吸附平台，其特征在于，所述管道为直角折线形管道。
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