CN108320859A - 一种图形化透明导电薄膜的消影方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种图形化透明导电薄膜的消影方法,包括:导电区图案设计步骤、导电区制作步骤、绝缘区图案设计步骤、消影填充液制备步骤和绝缘区制作步骤。本发明所提供的图形化透明导电薄膜的消影方法,首先在基板上形成图形化的导电区,然后依据导电区的图案反向设计出绝缘区图案,并且依据导电区的光学折射率和色坐标设计制作消影填充液,再把消影填充液在绝缘区上印刷或套印绝缘区图案,从而使得导电膜上的绝缘区与导电区的光学折射率和色坐标相近,组合形成一致的带触控功能的透明导电膜,从而达到低成本、高效率的消影目的。
Description
技术领域
本发明涉及导电膜技术领域,尤其涉及一种图形化透明导电薄膜的消影方法。
背景技术
随着物质水平的日益提高,消费者对电子产品的要求正往轻薄化和柔性化、可视化、触控化的方面快速发展。目前全世界触摸屏及相关产业链正以极快的速度融入到人们的日常生活中。透明导电膜具有良好的导电性,在可见光波段具有高透光率。在触屏膜等大多实际运用中,需要对透明导电膜进行图形化,即根据图形设计在基片表面形成固定的导电区域和绝缘区域。
目前透明导电材料仍以ITO(氧化铟锡)为主流,ITO之替代材料有纳米银线、石墨烯、导电高分子、碳纳米管等。围绕ITO替代材料的新型透明导电膜在实际应用的比例越来越高,但是在小尺寸类诸如手机、平板电脑等高端应用尚未普及。
电容式触摸屏的透明电极区需要图形化,而透明电极区与绝缘区的色度、折射率存在明显差异,且随着透明电极区相互之间间隙的增大,可见性更强。此结果会导致用于小尺寸触控时,在强光下近距离观视会有较大的视觉反差,即非一致性,进而影响消费者的体验。原有ITO透明导电膜采用减小线距,蒸镀氧化物的方法,使透明导电部位与非导电区域折射率一致的方法来达到消影效果。但由于材料的差异,纳米银线本身呈现极其轻微的淡黄色,且纳米银线本身存在雾度,在强光照射下肉眼可见,使得ITO透明导电膜的消影方法在纳米银线透明导电膜中无法得到消影效果。
中国专利ZL 2013101521730中采用光刻胶保护导电区、涂布填充液非导电区、蚀刻液去除光刻胶的方法达到消影目的。其工艺繁琐、效率低、成本高昂、环境污染大,难以应用在批量化生产过程中。
因此,开发基于纳米银线透明导电膜的快速、低成本消影方法,对于新材料应用的推广,推动新型透明导电膜用于手机、平板等中小尺寸触摸屏的市场化应用具有很大的意义。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种图形化透明导电薄膜的消影方法,导电膜上绝缘区与导电区的光学折射率、色坐标相近,组合形成一致的带触控功能的透明导电膜,从而产生消影作用,感官效果好。
本发明的目的采用如下技术方案实现:
一种图形化透明导电薄膜的消影方法,包括:
导电区图案设计步骤:设计导电区图案;
导电区制作步骤:利用导电印刷液在基板上制作所述导电区图案,干燥固化后形成导电区;所述基板上除了所述导电区外的区域记为绝缘区;
绝缘区图案设计步骤:依据所述导电区上形成的所述导电区图案,反向设计出绝缘区图案;
消影填充液制备步骤:测试所述导电区的折射率和色坐标,配制消影填充液,所述消影填充液的折射率和色坐标与所述导电区的折射率和色坐标匹配;
绝缘区制作步骤:依据所述绝缘区图案,将所述消影填充液印刷或套印于所述绝缘区上,干燥固化后即成。
进一步地,在所述导电区制作步骤中,利用减成法或加成法制作所述导电区图案;在所述绝缘区制作步骤中,通过凹版印刷、胶版印刷、丝网印刷、柔版印刷或喷墨打印的方式制作所述绝缘区图案。
进一步地,当利用减成法制作所述导电区图案时,所述减成法的制作步骤如下:所述导电印刷液通过微凹涂布、狭缝涂布或喷涂的方式在所述基板上涂布成型,然后通过蚀刻的方式在所述基板上形成所述导电区图案。
进一步地,当利用加成法制作所述导电区图案时,所述加成法的制作步骤如下:通过凹版印刷、胶版印刷、丝网印刷、柔版印刷或喷墨打印的方式在所述基板上形成所述导电区图案。
进一步地,在所述导电区制作步骤中,所述导电印刷液为纳米银线印刷液;所述基板为柔性基板或刚性基板;所述柔性基板为PET薄膜、PETG板、COP板、COC板、聚偏氯乙烯板、聚乙烯醇缩丁醛板、聚苯乙烯板、聚丙烯酸酯板、聚酰亚胺板、聚砜板和硅酮板中的一种;所述刚性基板为玻璃板、聚碳酸酯板和丙烯酸树脂板中的一种。
进一步地,所述基板的单面进行了涂层硬化处理,或双面均进行了涂层硬化处理。
进一步地,在所述导电区制作步骤中,所述导电区的方阻为1-104Ω/□,透光率≥80%,雾度≤10%。
进一步地,所述消影填充液包括按照重量份计的以下组分:粘合剂0.5-2份,粘度调节剂0.1-0.5份,消影剂0.1-1份,溶剂96-99份,助剂0.1-0.5份。
进一步地,所述粘合剂为纤维素衍生物、环氧树脂、环氧丙烯酸树脂、醇酸树脂、氨基树脂、聚酯树脂、酚醛树脂、氯醋树脂、聚酰胺树脂、氯化聚丙烯树脂、聚氨酯改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、苯乙烯马来酸树脂、三聚氰胺树脂、高松油酯树脂和有机硅树脂中的一种或任意组合。
进一步地,所述粘度调节剂为羟丙基甲基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、乙基纤维素、羟乙基纤维素、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸钠、黄原胶、瓜尔胶、聚氨酯增稠剂、碱溶性增稠剂、疏水改性非聚氨酯增稠剂、聚甲基吡咯烷酮、气相二氧化硅和有机膨润土中的一种或任意组合。
进一步地,所述消影剂为金属纳米颗粒、二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、13号黄颜料和碳黑中的一种或任意组合。
进一步地,所述溶剂为水、甲醇、乙醇、三氟乙醇、异丙醇、正丙醇、三氟丙醇、正丁醇、仲丁醇、异丁醇、环己醇、正戊醇、叔戊醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、赤藓糖醇、木糖醇、甘露醇、山梨醇、香叶醇、苄醇、松油醇、双丙酮醇、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、2-乙基-1丶3-己二醇、六氟异丙醇、乙醚、丙醚、丁醚、甲基叔丁醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、四乙二醇二甲醚、二乙二醇丁醚、乙二醇二丁醚、三丙二醇丁醚、二乙二醇己醚、二乙二醇辛醚、苄醚、乙二醇苯醚和丙二醇苯醚的一种或任意组合。
进一步地,所述助剂为湿润分散剂、流平剂、偶联剂、表面活性剂中的一种或任意组合。
进一步地,在所述导电区制作步骤和所述绝缘区制作步骤中,干燥固化的方式均为:挥发干燥固化、热固化、UV固化和红外固化中的一种或任意组合。
进一步地,所述绝缘区与所述导电区的折射率相差△R≤0.1,透光率相差△Tt≤1、雾度相差△Td≤0.5;所述绝缘区与所述导电区的色差值△L≤1、△a≤1、△b≤1;所述绝缘区与所述导电区的墨层高度差△H≤1um,膜层距离差△A≤50um。
相比现有技术,本发明的有益效果在于:
本发明所提供的图形化透明导电薄膜的消影方法,首先在基板上形成图形化的导电区,然后依据导电区的图案反向设计出绝缘区图案,并且依据导电区的光学折射率和色坐标设计制作消影填充液,再把消影填充液在绝缘区上印刷或套印绝缘区图案,从而使得导电膜上的绝缘区与导电区的光学折射率和色坐标相近,组合形成一致的带触控功能的透明导电膜,从而达到低成本、高效率的消影目的。
具体实施方式
下面,结合具体实施方式,对本发明做进一步描述,需要说明的是,在不相冲突的前提下,以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
一种图形化透明导电薄膜的消影方法,包括:
导电区图案设计步骤:设计导电区图案;
导电区制作步骤:利用导电印刷液在基板上制作导电区图案,干燥固化后形成导电区;基板上除了导电区外的区域记为绝缘区;
绝缘区图案设计步骤:依据导电区上形成的导电区图案,反向设计出绝缘区图案;
消影填充液制备步骤:测试导电区的折射率和色坐标,配制消影填充液,消影填充液的折射率和色坐标与导电区的折射率和色坐标匹配;
绝缘区制作步骤:依据绝缘区图案,将消影填充液印刷或套印于绝缘区上,干燥固化后即成。
作为优选的实施方式,在导电区制作步骤中,利用减成法或加成法制作导电区图案;在绝缘区制作步骤中,通过凹版印刷、胶版印刷、丝网印刷、柔版印刷或喷墨打印的方式制作绝缘区图案。
作为优选的实施方式,当利用减成法制作所述导电区图案时,减成法的制作步骤如下:导电印刷液通过微凹涂布、狭缝涂布或喷涂的方式在基板上涂布成型,然后通过蚀刻的方式在基板上形成导电区图案;其中,蚀刻方式可以是湿法蚀刻、干法蚀刻、黄光工艺、激光蚀刻等的一种或多种的组合。
作为优选的实施方式,当利用加成法制作所述导电区图案时,加成法的制作步骤如下:通过凹版印刷、胶版印刷、丝网印刷、柔版印刷或喷墨打印的方式在基板上形成导电区图案。
作为优选的实施方式,在导电区制作步骤中,导电印刷液为纳米银线印刷液;基板为柔性基板或刚性基板;柔性基板为PET薄膜、PETG板、COP板、COC板、聚偏氯乙烯板、聚乙烯醇缩丁醛板、聚苯乙烯板、聚丙烯酸酯板、聚酰亚胺板、聚砜板和硅酮板中的一种,也可以是其他类型的有机高分子柔性基材;刚性基板为玻璃板、聚碳酸酯板和丙烯酸树脂板中的一种。
作为优选的实施方式,基板的单面进行了涂层硬化处理,或双面均进行了涂层硬化处理,基板经过涂层硬化处理起到减少漫反射和防止刮花的作用。
作为优选的实施方式,在导电区制作步骤中,导电区的方阻为1-104Ω/□,透光率≥80%,雾度≤10%。
作为优选的实施方式,消影填充液包括按照重量份计的以下组分:粘合剂0.5-2份,粘度调节剂0.1-0.5份,消影剂0.1-1份,溶剂96-99份,助剂0.1-0.5份。
作为优选的实施方式,粘合剂为纤维素衍生物、环氧树脂、环氧丙烯酸树脂、醇酸树脂、氨基树脂、聚酯树脂、酚醛树脂、氯醋树脂、聚酰胺树脂、氯化聚丙烯树脂、聚氨酯改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、苯乙烯马来酸树脂、三聚氰胺树脂、高松油酯树脂和有机硅树脂中的一种或任意组合。其中,聚氨酯改性丙烯酸树脂可以选自广州冠志有限公司的PUA-5811。
作为优选的实施方式,粘度调节剂为羟丙基甲基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、乙基纤维素、羟乙基纤维素、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸钠、黄原胶、瓜尔胶、聚氨酯增稠剂、碱溶性增稠剂、疏水改性非聚氨酯增稠剂、聚甲基吡咯烷酮、气相二氧化硅和有机膨润土中的一种或任意组合。
作为优选的实施方式,消影剂为金属纳米颗粒、二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、13号黄颜料和碳黑中的一种或任意组合;其中,金属纳米线优选为低长径比的纳米线,其长径比应低于200,更优的低于50。
作为优选的实施方式,溶剂为水、甲醇、乙醇、三氟乙醇、异丙醇、正丙醇、三氟丙醇、正丁醇、仲丁醇、异丁醇、环己醇、正戊醇、叔戊醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、赤藓糖醇、木糖醇、甘露醇、山梨醇、香叶醇、苄醇、松油醇、双丙酮醇、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、2-乙基-1丶3-己二醇、六氟异丙醇、乙醚、丙醚、丁醚、甲基叔丁醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、四乙二醇二甲醚、二乙二醇丁醚、乙二醇二丁醚、三丙二醇丁醚、二乙二醇己醚、二乙二醇辛醚、苄醚、乙二醇苯醚和丙二醇苯醚的一种或任意组合。
作为优选的实施方式,助剂为湿润分散剂、流平剂、偶联剂、表面活性剂中的一种或任意组合。
作为优选的实施方式,在导电区制作步骤和绝缘区制作步骤中,干燥固化的方式均可以为:挥发干燥固化、热固化、UV固化和红外固化中的一种或任意组合。
作为优选的实施方式,绝缘区与导电区的折射率相差△R≤0.1,透光率相差△Tt≤1、雾度相差△Td≤0.5;绝缘区与导电区的色差值△L≤1、△a≤1、△b≤1;绝缘区与导电区的墨层高度差△H≤1um,膜层距离差△A≤50um。其中,墨层高度差是指导电印刷液层与消影填充液层的高度差,膜层距离指两者成膜时边缘的距离。
以下是本发明具体的实施例,在下述实施例中所采用的原材料、设备等除特殊限定外均可以通过购买方式获得。
实施例1:
一种图形化透明导电薄膜的消影方法,依据以下步骤进行:
1、图形化透明导电膜电极区,印刷凹印版辊设计制作/制程准备(导电区图案设计步骤):
按照所需驱动电路设计电极区图案,通过在铜辊上雕刻特定的版辊深度、版辊线数、网穴形状,制版得到雕刻有电极区图案的凹印版辊1;
其中,版辊深度为15-100um,版辊线数为40-200线/厘米。
2、图形化透明导电膜的制备(导电区制作步骤):
使用纳米银线印刷液,通过凹版印刷用凹印版辊1印制于双面硬化PET基材上,在130℃烘箱下干燥3min,取出制得图形化透明导电膜。
3、利用图形化透明导电膜的电极区图案,反向设计出需填充绝缘图案(绝缘区图案设计步骤);
4、按照所需驱动电路设计电极区图案,通过在铜辊上雕刻特定的版辊深度、版辊线数、网穴形状,制版得到雕刻有电极区图案的凹印版辊2。
5、消影填充液制备步骤:测试图形化透明导电膜的电极区的折射率、色坐标,设计配制出与电极区相近折射率、色坐标的消影填充液(配方详见表1);
6、绝缘区制作步骤:将消影填充液通过凹印版辊2印刷套印于图形化透明导电膜的绝缘区,在130℃烘箱下干燥3min,形成消影绝缘区,从而制得外观效果一致、无视觉反差的消影型图形化透明导电膜;
测试结果:实施例1获取的透明导电薄膜,绝缘区与导电区的折射率相差△R≤0.1,透光率相差△Tt≤1、雾度相差△Td≤0.5;绝缘区与导电区的色差值△L≤1、△a≤1、△b≤1;绝缘区与导电区的墨层高度差△H≤1um,膜层距离差△A≤50um。
实施例2:
一种图形化透明导电薄膜的消影方法,依据以下步骤进行:
1、图形化透明导电膜电极区,印刷丝印制版设计制作/制程准备(导电区图案设计步骤):
按照所需驱动电路设计电极区图案,通过传统的涂胶、曝光、掩膜、显影、清洗等丝印网版制作工艺得到有电极区图案的丝印网版1;
2、图形化透明导电膜的制备(导电区制作步骤):
使用纳米银线印刷液,通过丝网印刷用丝印网版1印制于玻璃基材上,在130℃烘箱下干燥3min,取出制得图形化透明导电膜。
3、利用图形化透明导电膜的电极区图案,反向设计出需填充非电极图案(绝缘区图案设计步骤);
4、通过传统的涂胶、曝光、掩膜、显影、清洗等丝印网版制作工艺得到有电极区图案的丝印网版2。
5、消影填充液制备步骤:测试图形化透明导电膜的电极区的折射率、色坐标,设计配制出与电极区相近折射率、色坐标的消影填充液(配方详见表1);
6、绝缘区制作步骤:将消影填充液通过丝印网版2印刷套印于图形化透明导电膜的非电极区域,在130℃烘箱下干燥3min,形成消影绝缘区,从而制得外观效果一致、无视觉反差的消影型图形化透明导电膜;
测试结果:实施例2获取的透明导电薄膜,绝缘区与导电区的折射率相差△R≤0.1,透光率相差△Tt≤1、雾度相差△Td≤0.5;绝缘区与导电区的色差值△L≤1、△a≤1、△b≤1;绝缘区与导电区的墨层高度差△H≤1um,膜层距离差△A≤50um。
实施例3:
一种图形化透明导电薄膜的消影方法,依据以下步骤进行:
1、图形化透明导电膜电极区,印刷柔印版辊设计制作/制程准备(导电区图案设计步骤):
按照所需驱动电路设计电极区图案,通过在橡胶版上制作特定深度、线数的网穴制版得到雕刻有电极区图案的柔印版辊1。
2、图形化透明导电膜的制备(导电区制作步骤):
使用纳米银线印刷液,通过柔版印刷用柔印版辊1印制于双面硬化PET基材上,在130℃烘箱下干燥3min,取出制得图形化透明导电膜。
3、利用图形化透明导电膜的电极区图案,反向设计出需填充非电极图案(绝缘区图案设计步骤);
4、通过在柔性版上制作特定深度、线数的网穴制版得到雕刻有非电极区图案的柔印版辊2。
5、消影填充液制备步骤:测试图形化透明导电膜的电极区的折射率、色坐标,设计配制出与电极区相近折射率、色坐标的消影填充液(配方详见表1);
6、绝缘区制作步骤:将消影填充液通过柔印版辊2印刷套印于图形化透明导电膜的非电极区域,在130℃烘箱下干燥3min,形成消影绝缘区,从而制得外观效果一致、无视觉反差的消影型图形化透明导电膜;
测试结果:实施例1获取的透明导电薄膜,绝缘区与导电区的折射率相差△R≤0.1,透光率相差△Tt≤1、雾度相差△Td≤0.5;绝缘区与导电区的色差值△L≤1、△a≤1、△b≤1;绝缘区与导电区的墨层高度差△H≤1um,膜层距离差△A≤50um。
表1实施例1-3的消影填充液的配方表
实施例1-3的消影填充液在制备时,分别将配方中的各个组分混合,搅拌均匀即可获取。
上述实施方式仅为本发明的优选实施方式,不能以此来限定本发明保护的范围,本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。
Claims (10)
1.一种图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,包括:
导电区图案设计步骤:设计导电区图案;
导电区制作步骤:利用导电印刷液在基板上制作所述导电区图案,干燥固化后形成导电区;所述基板上除了所述导电区外的区域记为绝缘区;
绝缘区图案设计步骤:依据所述导电区上形成的所述导电区图案,反向设计出绝缘区图案;
消影填充液制备步骤:测试所述导电区的折射率和色坐标,配制消影填充液,所述消影填充液的折射率和色坐标与所述导电区的折射率和色坐标匹配;
绝缘区制作步骤:依据所述绝缘区图案,将所述消影填充液印刷或套印于所述绝缘区上,干燥固化后即成。
2.如权利要求1所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,在所述导电区制作步骤中,利用减成法或加成法制作所述导电区图案;
在所述绝缘区制作步骤中,通过凹版印刷、胶版印刷、丝网印刷、柔版印刷或喷墨打印的方式制作所述绝缘区图案。
3.如权利要求2所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,当利用减成法制作所述导电区图案时,所述减成法的制作步骤如下:所述导电印刷液通过微凹涂布、狭缝涂布或喷涂的方式在所述基板上涂布成型,然后通过蚀刻的方式在所述基板上形成所述导电区图案;
当利用加成法制作所述导电区图案时,所述加成法的制作步骤如下:通过凹版印刷、胶版印刷、丝网印刷、柔版印刷或喷墨打印的方式在所述基板上形成所述导电区图案。
4.如权利要求1所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,在所述导电区制作步骤中,所述导电印刷液为纳米银线印刷液;
所述基板为柔性基板或刚性基板;所述柔性基板为PET薄膜、PETG板、COP板、COC板、聚偏氯乙烯板、聚乙烯醇缩丁醛板、聚苯乙烯板、聚丙烯酸酯板、聚酰亚胺板、聚砜板和硅酮板中的一种;所述刚性基板为玻璃板、聚碳酸酯板和丙烯酸树脂板中的一种。
5.如权利要求1所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,所述基板的单面进行了涂层硬化处理,或双面均进行了涂层硬化处理。
6.如权利要求1所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,在所述导电区制作步骤中,所述导电区的方阻为1-104Ω/□,透光率≥80%,雾度≤10%。
7.如权利要求1所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,所述消影填充液包括按照重量份计的以下组分:粘合剂0.5-2份,粘度调节剂0.1-0.5份,消影剂0.1-1份,溶剂96-99份,助剂0.1-0.5份。
8.如权利要求7所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,所述粘合剂为纤维素衍生物、环氧树脂、环氧丙烯酸树脂、醇酸树脂、氨基树脂、聚酯树脂、酚醛树脂、氯醋树脂、聚酰胺树脂、氯化聚丙烯树脂、聚氨酯改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、苯乙烯马来酸树脂、三聚氰胺树脂、高松油酯树脂和有机硅树脂中的一种或任意组合;
所述粘度调节剂为羟丙基甲基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、乙基纤维素、羟乙基纤维素、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸钠、黄原胶、瓜尔胶、聚氨酯增稠剂、碱溶性增稠剂、疏水改性非聚氨酯增稠剂、聚甲基吡咯烷酮、气相二氧化硅和有机膨润土中的一种或任意组合;
所述消影剂为金属纳米颗粒、二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、13号黄颜料和碳黑中的一种或任意组合;
所述溶剂为水、甲醇、乙醇、三氟乙醇、异丙醇、正丙醇、三氟丙醇、正丁醇、仲丁醇、异丁醇、环己醇、正戊醇、叔戊醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、赤藓糖醇、木糖醇、甘露醇、山梨醇、香叶醇、苄醇、松油醇、双丙酮醇、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、2-乙基-1丶3-己二醇、六氟异丙醇、乙醚、丙醚、丁醚、甲基叔丁醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、四乙二醇二甲醚、二乙二醇丁醚、乙二醇二丁醚、三丙二醇丁醚、二乙二醇己醚、二乙二醇辛醚、苄醚、乙二醇苯醚和丙二醇苯醚的一种或任意组合;
所述助剂为湿润分散剂、流平剂、偶联剂、表面活性剂中的一种或任意组合。
9.如权利要求1所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,在所述导电区制作步骤和所述绝缘区制作步骤中,干燥固化的方式均为:挥发干燥固化、热固化、UV固化和红外固化中的一种或任意组合。
10.如权利要求1所述的图形化透明导电薄膜的消影方法,其特征在于,所述绝缘区与所述导电区的折射率相差△R≤0.1,透光率相差△Tt≤1、雾度相差△Td≤0.5;所述绝缘区与所述导电区的色差值△L≤1、△a≤1、△b≤1;所述绝缘区与所述导电区的墨层高度差△H≤1um,膜层距离差△A≤50um。
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