CN203414935U - 一种电容屏 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种电容屏，所述电容屏包括屏幕衬底，所述屏幕衬底的可视区域上覆盖有透明电极层，屏幕衬底的非可视区域上覆盖有装饰层，所述透明电极层的边缘延伸至装饰层上；所述装饰层的上表面覆盖有激光屏蔽层，激光屏蔽层的上表面覆盖有导电线路；所述透明电极层的边缘与导电线路之间电连接。本实用新型提供的电容屏，其边缘导电走线的线宽/线距能达到40/40微米，且产品良率高、成本低廉。

Description

一种电容屏

技术领域

本实用新型属于触摸屏技术领域，尤其涉及一种电容屏。 

背景技术

目前，市面上常见的各种手机、媒体播放器、导航系统、数位相机等电子产品开始配套各种类型的触摸屏，依据其原理，可分为电阻式、电容式、红外线式和表面声波式，电容式触摸屏（以下简称电容屏）最为常见。电容屏的功能层主要由位于可视区域的透明导电电极以及边缘非可视区域的走线构成，各电极之间断路，而各走线则与电极连接，形成若干通道。特别是中大尺寸的电容屏，其通道数很多，而产品的外观设计则需要更窄的边框，因此对边缘走线的线宽和线距要求越来越高。 

目前现有技术中，电容屏的边缘走线一般由银浆丝印或金属镀膜层光刻蚀刻而得，得到的电容屏的结构式如图1所示。其中，银浆丝印法的成本较低，但线宽/线距一般在120/120微米~80/80微米范围内良率较高，线宽/线距越小，良率越低。而金属镀膜层光刻蚀刻法，则可以使边缘走线的线宽/线距达到30/30微米及以下，但其需要经过金属镀膜、光刻胶涂布、曝光显影、烘烤、酸法蚀刻、脱膜等众多繁琐工序，且设备投资大，因此成本很高。 

发明内容

本实用新型解决了现有技术提供的电容屏存在的边缘走线的线宽/线距较大、良率低、和成本高的技术问题。 

本实用新型提供了一种电容屏，所述电容屏包括屏幕衬底，所述屏幕衬底的可视区域上覆盖有透明电极层，屏幕衬底的非可视区域上覆盖有装饰层，所述透明电极层的边缘延伸至装饰层上；所述装饰层的上表面覆盖有激光屏蔽层，激光屏蔽层的上表面覆盖有导电线路；所述透明电极层的边缘与导电线路之间电连接。 

作为本实用新型的进一步改进，所述屏幕衬底为玻璃或塑胶，所述屏幕衬底的厚度为0.3-1.5mm。 

作为本实用新型的进一步改进，所述装饰层为装饰油墨或光刻胶；所述装饰层的厚度为1-20微米。 

作为本实用新型的进一步改进，所述透明电极层为ITO镀膜层，所述透明电极层的厚度为0.01-0.3微米。 

作为本实用新型的进一步改进，所述装饰层位于屏幕衬底的四周，所述透明电极层位于屏幕衬底的中间。 

作为本实用新型的进一步改进，所述激光屏蔽层为为双层油墨结构，其中底层为白色油墨层，表层为透明反光UV油墨层。 

作为本实用新型的进一步改进，所述激光屏蔽层的厚度为3-30微米。 

作为本实用新型的进一步改进，所述导电线路为银线路，且其厚度为3-20微米。 

本实用新型提供的电容屏，其边缘导电线路的线宽/线距能达到40/40微米，且产品良率高、成本低廉。 

附图说明

图1是采用现有技术提供的电容屏的结构示意图。 

图2是采用本实用新型提供的电容屏的结构示意图。 

图中，1——屏幕衬底，2——装饰层，3——透明电极层，4——激光屏蔽层，5——导电线路。 

具体实施方式

发明人在透明基材表面形成金属线路（例如银走线）时，发现：为了提高银浆的走线精度，可以采用激光蚀刻银浆技术，具体步骤为：先大面积丝印块状银浆，再通过激光烧蚀将块状银浆层切断，从而分割成精细的银走线。采用该激光蚀刻银浆技术，最小可获得40/40微米的线宽/线距，基本达到金属镀膜黄光蚀刻的水平，且成本不高、良率较高。但发明人发现：由于不同材料对不同波长的光吸收系数是不相同的，而用于蚀刻银浆的激光为红外光，因此该激光蚀刻银浆技术仅适用于对红外光不吸收的基材，使得其目前多用于透明基材上的丝印银浆蚀刻。 

而目前的OGS或G1F电容屏结构中，在其屏幕衬底上一般形成有一层装饰层，其主要作用在于遮盖屏幕衬底非可视区域的走线，并提供外观装饰效果，然后走线形成在该装饰层上。而目前电容屏的装饰层的传统材料为吸收红外光的材质，在后续采用激光蚀刻银浆的同时，也会对装饰层造成破坏，导致触摸屏边框透光，使得激光蚀刻银浆技术还无法用于此类电容屏制作领域。 

发明人通过实验发现，如果在不改变传统装饰层的基础上，而在装饰层表面覆盖一层保护层，也可防止装饰层被激光破坏。因此，本实用新型提供了一种新型结构的电容屏，如图2所示，所述电容屏包括屏幕衬底1，屏幕衬底1的非可视区域上覆盖有装饰层2，所述屏幕衬底1的可视区域上覆盖有透明电极层3，并延伸至装饰层2上；所述装饰层2的上表面覆盖有激光屏蔽层4，激光屏蔽层4的上表面覆盖有导电线路5；所述透明电极层3的边缘与导电线路5之间电连接。 

本实用新型中，对于屏幕衬底1、装饰层2的材质没有特殊要求，采用本领域常规的各种电容屏用屏幕衬底、装饰层即可。例如，所述屏幕衬底1可为玻璃或塑胶，但不局限于此。如前所述，所述装饰层2用于遮盖屏幕衬底的非可视区域的走线，并提供外观装饰效果，其可采用公知的具有装饰效果的有机涂层，例如可以为装饰油墨或光刻胶。其中，装饰油墨可通过丝印形成，光刻胶可通过旋涂形成。优选情况下，所述屏幕衬底1的厚度为0.3-1.5mm，优选为0.55-1.1mm。所述装饰层2的厚度为1-20微米，优选为2-10微米。所述透明电极层3为公知的透明导电材料，优选为ITO镀膜层。所述透明电极层3的厚度为本领域技术人员所公知，优选为0.01-20微米。如前所述，当透明电极层3采用ITO镀膜层时，其厚度无需过大，优选为0.01-0.3微米。所述装饰层2位于屏幕衬底1的四周，所述透明电极层3位于屏幕衬底1的中间。 

本实用新型中，所述激光屏蔽层4用于保护装饰层2，防止其被激光破坏，因此，激光屏蔽层4优选采用各种能完全或部分不吸收和/或反射红外激光的有机涂层。若其完全不吸收/反射红外激光，则激光屏蔽层本身不被激光损伤；若其部分不吸收/反射红外激光，则屏蔽层部分被激光损伤，但仍能保护其下方的装饰层不受激光损伤。作为本发明的一种优选实施方式，所述激光屏蔽层为双层油墨结构，其中底层为白色油墨，表层为透明反光UV油墨，但不局限于此。 

作为本领域技术人员的公知常识，位于表面的导电线路5（即电容屏的边缘线路）的厚度较大，其厚度一般3-20微米，优选为6-12微米，因此其具有较强的断差覆盖能力，因此对于激光屏蔽层4的厚度要求不高。优选情况下，所述激光屏蔽层4的厚度为3-30微米，优选为6-16微米，但不局限于此。 

本实用新型中，所述激光屏蔽层4、导电线路5均可采用现有技术中常见的各种方法形成，例如可以采用丝网印刷，但不局限于此。所述导电线路优选为银线路，其可通过丝印银浆形成，但不局限于此。 

本实用新型中，由于装饰层2表面具有起保护作用的激光屏蔽层4，因此在印刷银浆后再进行激光蚀刻形成银线路5时，可通过激光屏蔽层4的遮盖，防止装饰层2被激光破坏。 

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。 

Claims (8)

1.一种电容屏，其特征在于，所述电容屏包括屏幕衬底，所述屏幕衬底的可视区域上覆盖有透明电极层，屏幕衬底的非可视区域上覆盖有装饰层，所述透明电极层的边缘延伸至装饰层上；所述装饰层的上表面覆盖有激光屏蔽层，激光屏蔽层的上表面覆盖有导电线路；所述透明电极层的边缘与导电线路之间电连接。

2.根据权利要求1所述的电容屏，其特征在于，所述屏幕衬底为玻璃或塑胶，所述屏幕衬底的厚度为0.3-1.5mm。

3.根据权利要求1所述的电容屏，其特征在于，所述装饰层为装饰油墨或光刻胶；所述装饰层的厚度为1-20微米。

4.根据权利要求1所述的电容屏，其特征在于，所述透明电极层为ITO镀膜层，所述透明电极层的厚度为0.01-0.3微米。

5.根据权利要求1-4任一项所述的电容屏，其特征在于，所述装饰层位于屏幕衬底的四周，所述透明电极层位于屏幕衬底的中间。

6.根据权利要求1所述的电容屏，其特征在于，所述激光屏蔽层为双层油墨结构，其中底层为白色油墨层，表层为透明反光UV油墨层。

7.根据权利要求6所述的电容屏，其特征在于，所述激光屏蔽层的厚度为3-30微米。

8.根据权利要求1所述的电容屏，其特征在于，所述导电线路为银线路，且其厚度为3-20微米。

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