CN108251792A - 一种掩膜集成框架及其制造方法 - Google Patents

一种掩膜集成框架及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108251792A
CN108251792A CN201810023957.6A CN201810023957A CN108251792A CN 108251792 A CN108251792 A CN 108251792A CN 201810023957 A CN201810023957 A CN 201810023957A CN 108251792 A CN108251792 A CN 108251792A
Authority
CN
China
Prior art keywords
frame
item
support bar
subframe
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810023957.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108251792B (zh
Inventor
罗昶
吴建鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201810023957.6A priority Critical patent/CN108251792B/zh
Publication of CN108251792A publication Critical patent/CN108251792A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108251792B publication Critical patent/CN108251792B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明实施例提供一种掩膜集成框架及其制造方法，涉及蒸镀技术领域，可解决现有技术中掩膜片褶皱翘曲、更换或修复支撑条和遮挡条导致的成本增加、支撑条和遮挡条与掩膜片的相对位置无法调整、掩膜集成框架清洗不净的问题。包括：第一框架和第二框架，第一框架和第二框架均具有中空区域，且第一框架和第二框架通过套设固定连接；多个掩膜片，多个掩膜片依次跨设于第一框架的中空区域，且掩膜片的相对两端固定在第一框架上；遮挡条和/或支撑条，遮挡条和/或支撑条跨设于第二框架的中空区域，且遮挡条和/或支撑条的相对两端固定在第二框架上；其中，遮挡条位于相邻掩膜片之间的间隙位置，支撑条横跨多个掩膜片的无效掩膜区以支撑多个掩膜片。

Description

一种掩膜集成框架及其制造方法
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种掩膜集成框架及其制造方法。
背景技术
目前，OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板，由于具有自发光、反应快、亮度高、轻薄等优点，而得到越来越广泛的应用。
其中，OLED显示面板中的发光层在制作时可以采用精细金属掩膜板(Fine MetalMask，简称FMM)并通过蒸镀工艺形成。精细金属掩膜板包括多个掩膜片(FMM Sheet)，掩膜片上设有掩膜图案，在进行蒸镀工艺时，需要将多个掩膜片焊接在框架(Frame)上制成掩膜集成框架(Mask Frame Assembly，MFA)来使用。掩膜集成框架还可以包括设置在相邻掩膜片之间的遮挡条(Cover)和横跨多个掩膜片的支撑条(Howling)。现有的掩膜集成框架的制造过程如图1(a)、图1(b)、图1(c)以及图1(d)所示，依次在框架10上焊接遮挡条201、支撑条202和精细金属掩膜版30(附图1(d)以精细金属掩膜版30包括四个掩膜片301为例)，从而形成一体型掩膜集成框架。
然而，现有的掩膜集成框架在制作时由于工艺精度的原因，支撑条202、遮挡条201与掩膜片301的相对位置易发生偏移，若遮挡条201的位置发生偏移，在对掩膜片301进行张网时，掩膜片301可能会与遮挡条201挤压，从而导致掩膜片301褶皱翘曲，这样蒸镀形成的蒸镀图案可能会变形，降低了生产良率。另外，掩膜集成框架在使用过程中，支撑条202和遮挡条201都有可能受到不同程度的损伤或偏移，在修复或更换支撑条202或遮挡条201时，由于需要将精细金属掩膜版30去除，而去除后的精细金属掩膜版30无法再次利用，因而极大地增加了生产成本。此外，掩膜集成框架在使用一段时间后需要清洗，由于遮挡条201、支撑条202和掩膜片301焊接在同一框架10上，因而在它们接触的位置容易发生清洗不净或药液残留的问题。在此基础上，在掩膜集成框架的使用过程中，支撑条202或遮挡条201与掩膜片301的相对位置若发生偏移，不能进行调整，从而降低了蒸镀精度。
发明内容
本发明的实施例提供一种掩膜集成框架及其制造方法，可解决现有技术中支撑条和遮挡条与掩膜片的相对位置发生偏移导致的掩膜片褶皱翘曲、更换或修复支撑条和遮挡条导致的成本增加、支撑条和遮挡条与掩膜片的相对位置无法调整、掩膜集成框架清洗不净的问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种掩膜集成框架，包括：第一框架和第二框架，所述第一框架和所述第二框架均具有中空区域，且所述第一框架和所述第二框架通过套设固定连接；多个掩膜片，所述多个掩膜片依次跨设于所述第一框架的中空区域，且所述掩膜片的相对两端固定在所述第一框架上；遮挡条和/或支撑条，所述遮挡条和/或所述支撑条跨设于所述第二框架的中空区域，且所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上；其中，所述遮挡条位于相邻所述掩膜片之间的间隙位置，所述支撑条横跨多个所述掩膜片的无效掩膜区以支撑所述多个掩膜片。
优选的，所述第二框架包括可通过套设固定连接的第一子框架和第二子框架；所述支撑条和所述遮挡条分别跨设于所述第一子框架的中空区域和所述第二子框架的中空区域，且所述支撑条的相对两端和所述遮挡条的相对两端分别固定在所述第一子框架上和所述第二子框架上。
优选的，所述第二框架包括外框和固定设置在所述外框内侧的内框，所述内框凸出于所述外框的上表面，且所述内框凸出于所述外框的上表面的高度小于或等于套设在其上的所述框架的厚度；所述第一框架套设于所述第二框架的内框上，且所述第一框架的内侧面与所述内框的外侧面接触，所述外框用于支撑所述第一框架。
优选的，所述第一子框架和所述第二子框架均包括外框和固定设置在所述外框内侧的内框，所述内框凸出于所述外框的上表面，且所述内框凸出于所述外框的上表面的高度小于或等于套设在其上的所述框架的厚度；所述第一子框架套设于所述第二子框架的内框上，且所述第一子框架的内侧面与所述第二子框架的内框的外侧面接触，所述第二子框架的外框用于支撑所述第一子框架；所述第一框架套设于所述第一子框架的内框上，且所述第一框架的内侧面与所述第一子框架的内框的外侧面接触，所述第一子框架的外框用于支撑所述第一框架。
优选的，所述掩膜集成框架包括所述遮挡条和所述支撑条，所述遮挡条、所述支撑条和所述掩膜片依次设置。
优选的，所述遮挡条和/或支撑条固定在所述内框的上表面。
第二方面，提供一种掩膜集成框架的制造方法，包括：提供第一框架，将多个掩膜片依次跨设于所述第一框架的中空区域，并将所述掩膜片的相对两端固定在所述第一框架上；提供第二框架，将遮挡条和/或支撑条跨设于所述第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上；其中，在将固定有所述掩膜片的第一框架和固定有所述遮挡条和/或所述支撑条的第二框架通过套设固定连接在一起后，所述遮挡条位于相邻所述掩膜片之间的间隙位置，所述支撑条横跨多个所述掩膜片的无效掩膜区以支撑所述多个掩膜片。
优选的，在所述第二框架包括可通过套设固定连接的第一子框架和第二子框架的情况下，将遮挡条和/或支撑条跨设于第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上，包括：将所述支撑条跨设于所述第一子框架的中空区域，并将所述支撑条的相对两端固定在所述第一子框架上；将所述遮挡条跨设于所述第二子框架的中空区域，并将所述遮挡条的相对两端固定在所述第二子框架上。
第三方面，还提供一种掩膜集成框架的制造方法，包括：将第一框架和第二框架通过套设固定连接在一起；将多个掩膜片依次跨设于所述第一框架的中空区域，并将所述掩膜片的相对两端固定在所述第一框架上；将遮挡条和/或支撑条跨设于所述第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上；其中，所述遮挡条位于相邻所述掩膜片之间的间隙位置，所述支撑条横跨多个所述掩膜片的无效掩膜区以支撑多个所述掩膜片。
优选的，在所述第二框架包括可通过套设固定连接的第一子框架和第二子框架的情况下，将遮挡条和/或支撑条跨设于第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上，包括：将所述支撑条跨设于所述第一子框架的中空区域，并将所述支撑条的相对两端固定在所述第一子框架上；将所述遮挡条跨设于所述第二子框架的中空区域，并将所述遮挡条的相对两端固定在所述第二子框架上。
本发明实施例提供一种掩膜集成框架及其制造方法，掩膜集成框架包括第一框架和第二框架，掩膜片固定在第一框架上，遮挡条和/或支撑条固定在第二框架上，由于遮挡条和/或支撑条与掩膜片分别固定在不同的框架上，因而在对掩膜片进行张网时，不会受遮挡条和/或支撑条的影响，从而避免了遮挡条和掩膜片的相对位置发生偏移导致的掩膜片褶皱翘曲。另外，修复或更换支撑条或遮挡条时，无需将掩膜片从第一框架上拆下，因而避免了对掩膜片造成影响，降低了生产成本。此外，遮挡条和/或支撑条与掩膜片固定在不同的框架上，且第一框架和第二框架通过套设固定连接在一起，因而第一框架和第二框架可拆卸，这样便可以分别对第一框架和第二框架进行清洗，从而使得清洗更加干净，且避免了药液残留。在此基础上，若支撑条或遮挡条与掩膜片的相对位置发生偏移，则可以通过调整第一框架和第二框架的位置，实现支撑条或遮挡条与掩膜片的对位，从而提高了蒸镀精度，进而提高了OLED显示面板的生产良率。
在此基础上，本发明实施例，由于遮挡条和支撑条与掩膜片固定在不同的框架上，因而可单独更换不同规格(宽度或厚度)和材料的遮挡条和支撑条，无需更换掩膜片和固定掩膜片的第一框架，降低了生产成本，且不同规格和材料的遮挡条、支撑条以及掩膜片可以任意搭配。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1(a)为现有技术提供的一种框架的结构示意图；
图1(b)为现有技术提供的一种在框架上焊接遮挡条的结构示意图；
图1(c)为现有技术提供的一种在框架上焊接支撑条的结构示意图；
图1(d)为现有技术提供的一种在框架上焊接掩膜片的结构示意图；
图2(a)为本发明实施例提供的一种将遮挡条和支撑条固定在第二框架上的结构示意图；
图2(b)为本发明实施例提供的一种将掩膜片固定在第一框架上的结构示意图；
图2(c)为本发明实施例提供的一种第一框架和第二框架通过套设固定连接的结构示意图；
图3(a)为本发明实施例提供的一种将支撑条固定在第一子框架上的结构示意图；
图3(b)为本发明实施例提供的一种将遮挡条固定在第二子框架上的结构示意图；
图3(c)为本发明实施例提供的一种第一子框架和第二子框架通过套设固定连接的结构示意图；
图3(d)为本发明实施例提供的一种第一子框架、第二子框架以及第一框架通过套设固定连接的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种第二框架的结构示意图；
图5为本发明实施例提供一种掩膜集成框架的制造方法的流程示意图一；
图6为本发明实施例提供的一种第一框架的结构示意图；
图7为本发明实施例提供一种掩膜集成框架的制造方法的流程示意图二。
附图标记：
10-框架；101-第一框架；102-第二框架；1021-第一子框架；1022-第二子框架；1023-外框；1024-内框；201-遮挡条；202-支撑条；30-精细金属掩膜版；301-掩膜片。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种掩膜集成框架，如图2(c)所示，包括：第一框架101和第二框架102，第一框架101和第二框架102均具有中空区域，且第一框架101和第二框架102通过套设固定连接；还包括多个掩膜片301，如图2(b)所示，多个掩膜片301依次跨设于第一框架101的中空区域，且掩膜片301的相对两端固定在第一框架101上；遮挡条201和/或支撑条202，如图2(a)所示，遮挡条201和/或支撑条202跨设于第二框架102的中空区域，且遮挡条201和/或支撑条202的相对两端固定在第二框架102上；其中，遮挡条201位于相邻掩膜片301之间的间隙位置，支撑条202横跨多个掩膜片301的无效掩膜区以支撑多个掩膜片301。
需要说明的是，第一，可以是第一框架101套设在第二框架102上，也可以是第二框架102套设在第一框架101上，对此不进行限定。
第二，对于如何将掩膜片301固定在第一框架101上不进行限定，例如可以通过螺丝或焊接的方式固定在第一框架101上。优选的，掩膜片301焊接在第一框架101上。
在此基础上，对于掩膜片301的个数不进行限定，可以根据需要进行相应设置。多个掩膜片301构成精细金属掩膜版30。当第一框架101固定有多个掩膜片301时，本发明实施例优选多个掩膜片301平行排列。其中，如图2(b)所示，每个掩膜片301包括有效掩膜区301a和无效掩膜区，每一个有效掩膜区301a的四周被无效掩膜区包围。在进行蒸镀操作时，蒸镀材料透过掩膜片301的有效掩膜区301a附着在待蒸镀基板上的对应位置，以在待蒸镀基板上形成所需的图案。
第三，可以如图2(a)所示，在第二框架102上既固定遮挡条201，又固定支撑条202，也可以在第二框架102上仅固定遮挡条201或者仅固定支撑条202。
此处，对于遮挡条201和/或支撑条202如何固定在第二框架102上不进行限定，例如可以通过螺丝或焊接的方式固定在第二框架102上。优选的，遮挡条201和/或支撑条202焊接在第二框架102上。
在此基础上，对于设置的遮挡条201和支撑条202的数量不进行限定，可以根据需要进行设置。当第二框架102上固定有多个遮挡条201和/或多个支撑条202时，本发明实施例优选多个遮挡条201相互平行，多个支撑条202相互平行。
此外，当遮挡条201和支撑条202都固定在第二框架102上时，可以是遮挡条201设置在支撑条202上，也可以是支撑条202设置在遮挡条201上。由于支撑条202用于支撑掩膜片301，因而在第二框架102上固定遮挡条201和支撑条202时，本发明实施例优选支撑条202与掩膜片301接触。
第四，由于第一框架101和第二框架102是通过套设固定连接的，因而第一框架101和第二框架102可拆卸分开。分开后，掩膜片301固定在第一框架101上，遮挡条201和/或支撑条202固定在第二框架102上。
本发明实施例提供一种掩膜集成框架，掩膜集成框架包括第一框架101和第二框架102，掩膜片301固定在第一框架101上，遮挡条201和/或支撑条202固定在第二框架102上，由于遮挡条201和/或支撑条202与掩膜片301分别固定在不同的框架上，因而在对掩膜片301进行张网时，不会受遮挡条201和/或支撑条202的影响，从而避免了遮挡条201和掩膜片301的相对位置发生偏移导致的掩膜片301褶皱翘曲。另外，修复或更换支撑条202或遮挡条201时，无需将掩膜片301从第一框架101上拆下，因而避免了对掩膜片301造成影响，降低了生产成本。此外，遮挡条201和/或支撑条202与掩膜片301固定在不同的框架上，且第一框架101和第二框架102通过套设固定连接在一起，因而第一框架101和第二框架102可拆卸，这样便可以分别对第一框架101和第二框架102进行清洗，从而使得清洗更加干净，且避免了药液残留。在此基础上，若支撑条202或遮挡条201与掩膜片301的相对位置发生偏移，则可以通过调整第一框架101和第二框架102的位置，实现支撑条202或遮挡条201与掩膜片301的对位，从而提高了蒸镀精度，进而提高了OLED显示面板的生产良率。
在此基础上，现有的掩膜集成框架制造完成后，遮挡条201、支撑条202和掩膜片301的宽度和厚度是固定的，若想改变遮挡条201和支撑条202中任一个的厚度、宽度或材料，则需要重新购买遮挡条201、支撑条202、掩膜片301以及框架10，并重新进行张网，从而增加了生产成本。而本发明实施例，由于遮挡条201和支撑条202与掩膜片301固定在不同的框架上，因而可单独更换不同规格(宽度或厚度)和材料的遮挡条201和支撑条202，无需更换掩膜片301和固定掩膜片301的第一框架101，降低了生产成本，且不同规格和材料的遮挡条201、支撑条202以及掩膜片301可以任意搭配。
本发明实施例提供的第二框架102可以如图2(a)所示，是一个不可拆分的一体型框架，也可以是如图3(c)所示，由可拆分的两个或多个子框架构成。
优选的，如图3(c)所示，第二框架102包括可通过套设固定连接的第一子框架1021和第二子框架1022；如图3(a)和图3(b)所示，支撑条202和遮挡条201分别跨设于第一子框架1021的中空区域和第二子框架1022的中空区域，且支撑条202的相对两端和遮挡条201的相对两端分别固定在第一子框架1021上和第二子框架1022上。
此处，可以是第一子框架1021套设在第二子框架1022上；也可以是第二子框架1022套设在第一子框架1021上，对此不进行限定，本发明说明书附图3(c)是以第一子框架1021套设在第二子框架1022上为例进行示意。
在此基础上，可以是支撑条202固定在第一子框架1021上，遮挡条201固定在第二子框架1022上；也可以是支撑条202固定在第二子框架1022上，遮挡条201固定在第一子框架1021上。本发明说明书附图3(a)以支撑条202固定在第一子框架1021上，附图3(b)以遮挡条201固定在第二子框架1022上为例进行示意。
本发明实施例，将支撑条202和遮挡条201分别固定在第一子框架1021上和第二子框架1022上，这样一来，在对支撑条202进行修复或更换时，不会影响遮挡条201和掩膜片301，或者在对遮挡条201进行修复或更换时，不会影响支撑条202和掩膜片301。此外，支撑条202和遮挡条201可以分别和掩膜片301进行对位，从而使得支撑条202、遮挡条201和掩膜片301的对位精度提高，进而提高了蒸镀精度。
优选的，如图4所示，第二框架102包括外框1023和固定设置在外框1023内侧的内框1024，内框1024凸出于外框1023的上表面，且内框1024凸出于外框1023的上表面的高度小于或等于套设在其上的框架的厚度；如图2(c)所示，第一框架101套设于第二框架102的内框1024上，且第一框架101的内侧面与内框1024的外侧面接触，外框1023用于支撑第一框架101。
需要说明的是，对于本发明实施例提到的任一框架，框架的表面由上表面、下表面、内侧面和外侧面构成。
其中，本文中，“上”和“下”等方位术语是相对于附图中的框架示意置放的方位来定义的，应当理解到，这些方向性术语是相对的概念，它们用于相对于的描述和澄清，其可以根据框架所放置的方位的变化而相应地发生变化。示例的，当框架的放置位置上下翻转时，上表面变为下表面，下表面变为上表面。
此处，框架的厚度为框架上表面到下表面的距离。
本发明实施例，由于第二框架102包括外框1023和内框1024，且内框1024凸出于外框1023的上表面，因而第一框架101可以套设在第二框架102的内框1024上，从而将第一框架101和第二框架102固定连接。
优选的，如图3(a)和图3(b)所示，第一子框架1021和第二子框架1022均包括外框1023和固定设置在外框1023内侧的内框1024，内框1024凸出于外框1023的上表面，且内框1024凸出于外框1023的上表面的高度小于或等于套设在其上的框架的厚度。如图3(c)所示，第一子框架1021套设于第二子框架1022的内框1024上，且第一子框架1021的内侧面与第二子框架1022的内框1024的外侧面接触，第二子框架1022的外框1023用于支撑第一子框架1021；如图3(d)所示，第一框架101套设于第一子框架1021的内框1024上，且第一框架101的内侧面与第一子框架1021的内框1024的外侧面接触，第一子框架1021的外框1023用于支撑第一框架101。
此处，由于第一子框架1021套设于第二子框架1022的内框1024上，第一框架101套设于第一子框架1021的内框1024上，因而相当于第一子框架1021和第一框架101均套设在第二子框架1022上，这样一来，第二子框架1022的内框1024凸出于第二子框架1022的外框1023的上表面的高度小于等于第一子框架1021和第一框架101套设后的厚度。
本发明实施例，由于第二子框架1022包括外框1023和内框1024，且内框1024凸出于外框1023的上表面，因而第一子框架1021可以套设在第二子框架1022的内框1024上，从而将第一子框架1021和第二子框架1022固定连接。同理，由于第一子框架1021包括外框1023和内框1024，且内框1024凸出于外框1023的上表面，因而第一框架101可以套设在第一子框架1021的内框1024上，从而将第一子框架1021和第一框架101固定连接。
基于上述，当掩膜集成框架包括遮挡条201和支撑条202时，由于支撑条202用于支撑掩膜片301，因而本领域技术人员应该明白，支撑条202设置于掩膜片301的下方。对于遮挡条201的设置位置，其可以设置在支撑条202的下方，也可以设置在支撑条202和掩膜片301之间，当然还可以设置在掩膜片301的上方，对此不进行限定。本发明实施例优选的，遮挡条201、支撑条202和掩膜片301依次设置。
基于此，当第一框架101套设于第二框架102上，且遮挡条201和支撑条202固定在同一不可拆分的框架上时，可以在第二框架102上先固定遮挡条201，再固定支撑条202。当第二框架102包括第一子框架1021和第二子框架1022，且第一子框架1021套设在第二子框架1022上，第一框架101套设在第一子框架1021时，遮挡条201固定在第二子框架1022上，支撑条202固定在第一子框架1021上。
需要说明的是，本发明实施例的遮挡条201和/或支撑条202可以设置在第二框架102的内框1024的上表面，也可以设置在内框1024的内壁。为了确保遮挡条201和/或支撑条202与框架的稳定性，且便于将遮挡条201和/或支撑条202固定在第二框架102上，因而本发明实施例优选的，遮挡条201和/或支撑条202固定在内框1024的上表面。
本发明实施例提供一种掩膜集成框架的制造方法，如图5所示，包括：
S100、如图6所示，提供第一框架101，如图2(b)所示，将多个掩膜片301依次跨设于第一框架101的中空区域，并将掩膜片301的相对两端固定在第一框架101上。
其中，对于如何将掩膜片301的相对两端固定在第一框架101上不进行限定，例如可以采用螺丝或焊接的方式进行固定。本发明实施例优选的，掩膜片301焊接在第一框架101上。
在此基础上，对于掩膜片301的个数不进行限定，可以根据需要进行相应设置。当第一框架101固定有多个掩膜片301时，本发明实施例优选多个掩膜片301平行排列。
S101、如图4所示，提供第二框架102，如图2(a)所示，将遮挡条201和/或支撑条202跨设于第二框架102的中空区域，并将遮挡条201和/或支撑条202的相对两端固定在第二框架102上。其中，在将固定有掩膜片301的第一框架101和固定有遮挡条201和/或支撑条202的第二框架102通过套设固定连接在一起后，遮挡条201位于相邻掩膜片301之间的间隙位置，支撑条202横跨多个掩膜片301的无效掩膜区以支撑多个掩膜片301。
此处，可以在第二框架102上既设置遮挡条201，又设置支撑条202，也可以在第二框架102上仅设置遮挡条201或者仅设置支撑条202。
在此基础上，遮挡条201和/或支撑条202可以通过螺丝或焊接的方式固定在第二框架102上。本发明实施例优选，遮挡条201和/或支撑条202焊接在第二框架102上。
此外，对于固定的遮挡条201和支撑条202的数量不进行限定，可以根据需要进行设置。当第二框架102上固定有多个遮挡条201和/或多个支撑条202时，本发明实施例优选多个遮挡条201相互平行，多个支撑条202相互平行。
需要说明的是，当在第一框架101上固定掩膜片301，在第二框架102上固定支撑条202和遮挡条201之后，将第一框架101和第二框架102组装在一起，形成掩膜集成框架，再利用该掩膜集成框架进行蒸镀。将第一框架101和第二框架102组装的过程具体可以是通过两组机械手分别夹持第一框架101和第二框架102，将支撑条202和/或遮挡条201与掩膜片301进行对位，对位完成后，将第一框架101和第二框架102套设在一起。
基于上述，对于执行步骤S100和步骤S101的顺序不进行限定，可以先执行步骤S100，再执行步骤S101；也可以先执行步骤S101，再执行步骤S100；当然还可以是步骤S100和步骤S101同时执行。
本发明实施例提供一种掩膜集成框架的制造方法，由于遮挡条201和/或支撑条202与掩膜片301分别固定在第二框架102和第一框架101上，因而在对掩膜片301进行张网时，不会受遮挡条201和/或支撑条202的影响，从而避免了遮挡条201和掩膜片301的相对位置发生偏移导致的掩膜片301褶皱翘曲。另外，修复或更换支撑条202或遮挡条201时，无需将掩膜片301从第一框架101上拆下，因而避免了对掩膜片301造成影响，降低了生产成本。此外，遮挡条201和/或支撑条202与掩膜片301固定在不同的框架上，且第一框架101和第二框架102通过套设固定连接在一起，因而第一框架101和第二框架102可拆卸，这样便可以分别对第一框架101和第二框架102进行清洗，从而使得清洗更加干净，且避免了药液残留。在此基础上，若支撑条202或遮挡条201与掩膜片301的相对位置发生偏移，则可以通过调整第一框架101和第二框架102的位置，实现支撑条202或遮挡条201与掩膜片301的对位，从而提高了蒸镀精度，进而提高了OLED显示面板的生产良率。
在此基础上，现有的掩膜集成框架制造完成后，遮挡条201、支撑条202和掩膜片301的宽度和厚度是固定的，若想改变遮挡条201和支撑条202中任一个的厚度、宽度或材料，则需要重新购买遮挡条201、支撑条202、掩膜片301以及框架10，并重新进行张网，从而增加了生产成本。而本发明实施例，由于遮挡条201和支撑条202与掩膜片301固定在不同的框架上，因而可单独更换不同规格(宽度或厚度)和材料的遮挡条201和支撑条202，无需更换掩膜片301和固定掩膜片301的第一框架101，降低了生产成本，且不同规格和材料的遮挡条201、支撑条202以及掩膜片301可以任意搭配。
优选的，在第二框架102包括通过可套设固定连接的第一子框架1021和第二子框架1022的情况下，将遮挡条201和/或支撑条202跨设于第二框架102的中空区域，并将遮挡条201和/或支撑条202的相对两端固定在第二框架102上，包括：
S200、将支撑条202跨设于第一子框架1021的中空区域，并将支撑条202的相对两端固定在第一子框架1021上。
S201、将遮挡条201跨设于第二子框架1022的中空区域，并将遮挡条201的相对两端固定在第二子框架1022上。
其中，对于执行步骤S200和步骤S201的顺序不进行限定，可以先执行步骤S200，再执行步骤S201；也可以先执行步骤S201，再执行步骤S200；当然还可以是步骤S200和步骤S201同时执行。
此处，当在第一框架101上固定掩膜片301，在第一子框架1021上固定支撑条202，在第二子框架1022上固定遮挡条201之后，将第一框架101、第一子框架1021以及第二子框架1022组装在一起，形成掩膜集成框架，再利用该掩膜集成框架进行蒸镀。将第一框架101、第一子框架1021以及第二子框架1022组装的过程具体可以是通过三组机械手分别夹持第一框架101、第一子框架1021和第二子框架1022，将支撑条202、遮挡条201分别与掩膜片301进行对位，对位完成后，将第一框架101、第一子框架1021和第二子框架1022套设在一起。进一步地，可以先将第一子框架1021和第二子框架1022组装套设在一起，再将第一框架101与第一子框架1021或第二子框架1022组装套设在一起。
本发明实施例，将支撑条202和遮挡条201分别固定在第一子框架1021上和第二子框架1022上，这样一来，在对支撑条202进行修复或更换时，不会影响遮挡条201和掩膜片301，或者在对遮挡条201进行修复或更换时，不会影响支撑条202和掩膜片301。此外，支撑条202和遮挡条201可以分别和掩膜片301进行对位，从而使得支撑条202、遮挡条201和掩膜片301的对位精度提高，进而提高了蒸镀精度。
本发明实施例还提供一种掩膜集成框架的制造方法，如图7所示，包括：
S300、将第一框架101和第二框架102通过套设固定连接在一起。
S301、将多个掩膜片301依次跨设于第一框架101的中空区域，并将掩膜片301的相对两端固定在第一框架101上。
S302、将遮挡条201和/或支撑条202跨设于第二框架102的中空区域，并将遮挡条201和/或支撑条202的相对两端固定在第二框架102上。其中，遮挡条201位于相邻掩膜片301之间的间隙位置，支撑条202横跨多个掩膜片301的无效掩膜区以支撑多个掩膜片301。
其中，对于步骤S301和步骤S302的执行顺序不进行限定，可以先执行步骤S301，再执行步骤S302；也可以先执行步骤S302，再执行步骤S301；当然还可以是步骤S301和步骤S302同时执行。
本发明实施例，将掩膜片301与遮挡条201和/或支撑条202分别固定在第一框架101上和第二框架102上的有益效果上述掩膜集成框架的制造方法已经详细描述过，此处不再赘述。此处，先将第一框架101和第二框架102套设固定连接在一起，这样可以先对第一框架101和第二框架102进行对位，再在第一框架101上固定掩膜片301，在第二框架102上固定遮挡条201和/或支撑条202，从而确保了掩膜片301与遮挡条201和/或支撑条202的相对位置更精确，以提高蒸镀精度。
优选的，在第二框架102包括可通过套设固定连接的第一子框架1021和第二子框架1022的情况下，将遮挡条201和/或支撑条202跨设于第二框架102的中空区域，并将遮挡条201和/或支撑条202的相对两端固定在第二框架102上，包括：
S200、将支撑条202跨设于第一子框架1021的中空区域，并将支撑条202的相对两端固定在第一子框架1021上。
S201、将遮挡条201跨设于第二子框架1022的中空区域，并将遮挡条201的相对两端固定在第二子框架1022上。
其中，对于执行步骤S200和步骤S201的顺序不进行限定，可以先执行步骤S200，再执行步骤S201；也可以先执行步骤S201，再执行步骤S200；当然还可以是步骤S200和步骤S201同时执行。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜集成框架，其特征在于，包括：
第一框架和第二框架，所述第一框架和所述第二框架均具有中空区域，且所述第一框架和所述第二框架通过套设固定连接；
多个掩膜片，所述多个掩膜片依次跨设于所述第一框架的中空区域，且所述掩膜片的相对两端固定在所述第一框架上；
遮挡条和/或支撑条，所述遮挡条和/或所述支撑条跨设于所述第二框架的中空区域，且所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上；其中，所述遮挡条位于相邻所述掩膜片之间的间隙位置，所述支撑条横跨多个所述掩膜片的无效掩膜区以支撑所述多个掩膜片。
2.根据权利要求1所述的掩膜集成框架，其特征在于，所述第二框架包括可通过套设固定连接的第一子框架和第二子框架；
所述支撑条和所述遮挡条分别跨设于所述第一子框架的中空区域和所述第二子框架的中空区域，且所述支撑条的相对两端和所述遮挡条的相对两端分别固定在所述第一子框架上和所述第二子框架上。
3.根据权利要求1所述的掩膜集成框架，其特征在于，所述第二框架包括外框和固定设置在所述外框内侧的内框，所述内框凸出于所述外框的上表面，且所述内框凸出于所述外框的上表面的高度小于或等于套设在其上的所述框架的厚度；所述第一框架套设于所述第二框架的内框上，且所述第一框架的内侧面与所述内框的外侧面接触，所述外框用于支撑所述第一框架。
4.根据权利要求2所述的掩膜集成框架，其特征在于，所述第一子框架和所述第二子框架均包括外框和固定设置在所述外框内侧的内框，所述内框凸出于所述外框的上表面，且所述内框凸出于所述外框的上表面的高度小于或等于套设在其上的所述框架的厚度；所述第一子框架套设于所述第二子框架的内框上，且所述第一子框架的内侧面与所述第二子框架的内框的外侧面接触，所述第二子框架的外框用于支撑所述第一子框架；所述第一框架套设于所述第一子框架的内框上，且所述第一框架的内侧面与所述第一子框架的内框的外侧面接触，所述第一子框架的外框用于支撑所述第一框架。
5.根据权利要求3或4所述的掩膜集成框架，其特征在于，所述掩膜集成框架包括所述遮挡条和所述支撑条，所述遮挡条、所述支撑条和所述掩膜片依次设置。
6.根据权利要求3或4所述的掩膜集成框架，其特征在于，所述遮挡条和/或支撑条固定在所述内框的上表面。
7.一种掩膜集成框架的制造方法，其特征在于，包括：
提供第一框架，将多个掩膜片依次跨设于所述第一框架的中空区域，并将所述掩膜片的相对两端固定在所述第一框架上；
提供第二框架，将遮挡条和/或支撑条跨设于所述第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上；其中，在将固定有所述掩膜片的第一框架和固定有所述遮挡条和/或所述支撑条的第二框架通过套设固定连接在一起后，所述遮挡条位于相邻所述掩膜片之间的间隙位置，所述支撑条横跨多个所述掩膜片的无效掩膜区以支撑所述多个掩膜片。
8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，在所述第二框架包括可通过套设固定连接的第一子框架和第二子框架的情况下，将遮挡条和/或支撑条跨设于第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上，包括：
将所述支撑条跨设于所述第一子框架的中空区域，并将所述支撑条的相对两端固定在所述第一子框架上；
将所述遮挡条跨设于所述第二子框架的中空区域，并将所述遮挡条的相对两端固定在所述第二子框架上。
9.一种掩膜集成框架的制造方法，其特征在于，包括：
将第一框架和第二框架通过套设固定连接在一起；
将多个掩膜片依次跨设于所述第一框架的中空区域，并将所述掩膜片的相对两端固定在所述第一框架上；
将遮挡条和/或支撑条跨设于所述第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上；其中，所述遮挡条位于相邻所述掩膜片之间的间隙位置，所述支撑条横跨多个所述掩膜片的无效掩膜区以支撑多个所述掩膜片。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在所述第二框架包括可通过套设固定连接的第一子框架和第二子框架的情况下，将遮挡条和/或支撑条跨设于第二框架的中空区域，并将所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上，包括：
将所述支撑条跨设于所述第一子框架的中空区域，并将所述支撑条的相对两端固定在所述第一子框架上；
将所述遮挡条跨设于所述第二子框架的中空区域，并将所述遮挡条的相对两端固定在所述第二子框架上。
CN201810023957.6A 2018-01-10 2018-01-10 一种掩膜集成框架及其制造方法 Active CN108251792B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810023957.6A CN108251792B (zh) 2018-01-10 2018-01-10 一种掩膜集成框架及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810023957.6A CN108251792B (zh) 2018-01-10 2018-01-10 一种掩膜集成框架及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108251792A true CN108251792A (zh) 2018-07-06
CN108251792B CN108251792B (zh) 2019-12-31

Family

ID=62725166

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810023957.6A Active CN108251792B (zh) 2018-01-10 2018-01-10 一种掩膜集成框架及其制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108251792B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108611598A (zh) * 2018-07-27 2018-10-02 京东方科技集团股份有限公司 一种框架结构
CN109097729A (zh) * 2018-09-29 2018-12-28 京东方科技集团股份有限公司 掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件
CN112609154A (zh) * 2020-12-11 2021-04-06 合肥维信诺科技有限公司 掩膜框架及掩膜结构
CN113025956A (zh) * 2021-02-26 2021-06-25 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板组件

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN205893376U (zh) * 2016-06-17 2017-01-18 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种框架结构
CN106676469A (zh) * 2017-01-09 2017-05-17 昆山国显光电有限公司 蒸镀掩膜板及其制造方法
US20170282212A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly and method of manufacturing display apparatus by using the same
CN107435130A (zh) * 2017-09-28 2017-12-05 上海天马微电子有限公司 掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170282212A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly and method of manufacturing display apparatus by using the same
CN205893376U (zh) * 2016-06-17 2017-01-18 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种框架结构
CN106676469A (zh) * 2017-01-09 2017-05-17 昆山国显光电有限公司 蒸镀掩膜板及其制造方法
CN107435130A (zh) * 2017-09-28 2017-12-05 上海天马微电子有限公司 掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108611598A (zh) * 2018-07-27 2018-10-02 京东方科技集团股份有限公司 一种框架结构
CN108611598B (zh) * 2018-07-27 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 一种框架结构
US11066737B2 (en) 2018-07-27 2021-07-20 Ordos Yuansheng Optoelectronics Co., Ltd. Frame component
CN109097729A (zh) * 2018-09-29 2018-12-28 京东方科技集团股份有限公司 掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件
CN109097729B (zh) * 2018-09-29 2020-07-28 京东方科技集团股份有限公司 掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件
CN112609154A (zh) * 2020-12-11 2021-04-06 合肥维信诺科技有限公司 掩膜框架及掩膜结构
CN113025956A (zh) * 2021-02-26 2021-06-25 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板组件

Also Published As

Publication number Publication date
CN108251792B (zh) 2019-12-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108251792A (zh) 一种掩膜集成框架及其制造方法
US7073518B2 (en) Cleaning solution and cleaning method for mask used in vacuum vapor deposition step in production of low molecular weight organic EL device
CN104611668B (zh) 用于掩膜板的框架和掩膜板
JP2004199919A (ja) 有機ｅｌ表示パネルの製造方法
CN108611598A (zh) 一种框架结构
KR102549358B1 (ko) 증착 마스크 조립체 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법
JP2006156375A (ja) 平板表示装置の薄膜蒸着用のマスク及びその製造方法
JP2002221912A (ja) ディスプレイパネル製作用マスク
CN107002219A (zh) 用于在处理腔室中掩蔽基板的掩模布置
CN109166976A (zh) 显示面板、掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置
CN103668048A (zh) 一种复合掩模板组件的制作方法
CN1392905A (zh) 金属掩膜的制造方法及金属掩模
CN103996638A (zh) 基底装载装置
KR20060050912A (ko) 세정 장치
CN103866230A (zh) 一种oled显示面板生产用新型荫罩板的制作方法
JP5533227B2 (ja) 露光装置
US8153355B2 (en) Immersion supporting plate cleaning method and a pattern forming method
CN105714248A (zh) 一种高精度蒸镀用复合掩模板组件制作方法
CN107464770A (zh) 一种掩模板存储装置
JP7110776B2 (ja) 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および有機ｅｌ表示装置の製造方法
US20060275967A1 (en) Display device and manufacturing method thereof
JP2004214015A (ja) 蒸着マスク、蒸着方法、有機ｅｌパネルの製造方法および有機ｅｌ表示パネル
JP2018044219A (ja) 蒸着用メタルマスクの補修装置、および、蒸着用メタルマスクの補修方法
JP2015063426A (ja) 電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法および製造装置
US9977324B2 (en) Phase shift mask and method of forming patterns using the same

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant