CN108239753A - 一种贵金属片溅射成型工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种贵金属片溅射成型工艺。这种工艺用于在薄膜基材上生成贵金属层，工艺包括：步骤S1，将贵金属坯料投入到离子溅射机内；步骤S2，设置离子溅射机的溅射厚度和溅射速度；步骤S3，准备薄膜基材并将薄膜基材放入离子溅射机中；步骤S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面或者双面上。本发明通过离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态然后喷射到薄膜基材上，可以生成非常薄的一层贵金属层，其厚度可以达到零点几微米，因此所需贵金属用料会更少，成品的造价更低，有利于市场推广和提高销量。

Description

一种贵金属片溅射成型工艺
技术领域
本发明涉及贵金属薄片加工方法，尤其涉及一种贵金属片溅射成型工艺。
背景技术
用贵金属做成的产品一般作为装饰品、礼品或者收藏品，如首饰、贵金属邮票等等。而在贵金属逐渐价格增高的趋势下，为了刺激消费者的购买欲望，各大厂商都将贵金属做的越来越薄、越来越小。对于那些越来越薄的片状贵金属成品，如果单纯只有贵金属，那么成品厚度很小、不方便拿取，并且容易变形形成弯折痕迹，更多情况下只能静置摆放，或者在外表面增加较厚的保护罩，未能让用户方便观赏、触摸贵金属本体。为解决以上问题，现在市面出现了薄基材上覆盖一层贵金属层的复合结构，这种结构将贵金属薄片做的比较薄，但所需要的贵金属层厚度依然是较大，贵金属用料较多，造价依然较高，不利于销量增长。
发明内容
本发明的目的在于为克服现有技术的缺陷，而提供一种贵金属片溅射成型工艺，所作出的贵金属层厚度更小，以减少贵金属用料，降低造价。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种贵金属片溅射成型工艺，其用于在薄膜基材上生成贵金属层，其包括以下步骤：
S1，将贵金属坯料投入到离子溅射机内；
S2，设置离子溅射机的溅射厚度和溅射速度；
S3，准备薄膜基材并将薄膜基材放入离子溅射机中；
S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面或者双面上。
进一步地，工艺还包括步骤S5：离子溅射机对薄膜基材喷射上贵金属层后冷却至室温，然后在贵金属层上压印或者雕刻出花纹浮雕。
进一步地，步骤S5中，薄膜基材的冷却为风冷或者自然冷却。
进一步地，薄膜基材为薄纸或者PVC、PET薄膜。
进一步地，贵金属为黄金、铂金、钯金、银或铜。
进一步地，若要喷面积10cm2、厚度0.2μm的单面贵金属层，需要在步骤S1中投入0.39克贵金属坯料，在步骤S2中设定溅射厚度为0.2μm，溅射速度为18m/h。
进一步地，若要喷面积10cm2、厚度0.3μm的单面贵金属层，需要在步骤S1中投入0.58克贵金属坯料，在步骤S2中设定溅射厚度为0.3μm，溅射速度为12m/h。
进一步地，若要喷面积10cm2、厚度0.4μm的单面贵金属层，需要在步骤S1中投入0.77克贵金属坯料，在步骤S2中设定溅射厚度为0.4μm，溅射速度为9m/h。
本发明与现有技术相比的有益效果是：
(1)本发明通过离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态然后喷射到薄膜基材上，可以生成非常薄的一层贵金属层，其厚度可以达到零点几微米，因此所需贵金属用料会更少，成品的造价更低，有利于市场推广和提高销量。
(2)本发明的工艺在薄膜基材喷射形成的贵金属层通过分子力附着在薄膜基材上，附着力极强，不容易脱落，而且中间没有了粘合层，成品的厚度得到降低，观感和手感得到改善。
具体实施方式
为了更充分理解本发明的技术内容，下面结合具体实施例对本发明的技术方案作进一步介绍和说明。
本发明为贵金属片溅射成型工艺，其用于在薄膜基材上生成贵金属层。这种工艺包括以下步骤：
步骤S1，将贵金属坯料投入到离子溅射机内；
步骤S2，设置离子溅射机的溅射厚度和溅射速度；
步骤S3，准备薄膜基材并将薄膜基材放入离子溅射机中；
步骤S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面或者双面上；
步骤S5：离子溅射机对薄膜基材喷射上贵金属层后冷却至室温，然后在贵金属层上压印或者雕刻出花纹浮雕。
在步骤S1中，贵金属坯料可以做成块状，然后放入离子溅射机的入料口中。贵金属可以为黄金、铂金、钯金、银或铜。离子溅射机可以采用磁控溅射类型的溅射机。
在步骤S2中，设定好溅射厚度和溅射速度，溅射厚度是指喷射形成的表层厚度，而溅射速度是指喷头和被喷射的对象(即薄膜基材)之间相对的移动速度，通常的离子溅射机中，喷头固定，被喷射的对象(即薄膜基材)沿着垂直于喷头的平面缓慢移动，此时溅射速度是指被喷射的对象的移动速度。对于单位时间喷射量不变的喷头，溅射速度越快，溅射厚度越薄，两者呈线性相关，而如果离子溅射机的喷头单位时间喷射量是可变的，那么在离子溅射机的溅射速度和溅射厚度需要在加工时自定义完整。
在步骤S3中，薄膜基材可采用薄纸或者PVC、PET薄膜。当采用薄纸时在薄纸放入离子溅射机之前应保证薄纸干燥，避免薄纸被拉断而无法进行喷射。PVC、PET薄膜是高分子材料薄膜，适合单面或者双面上喷射生产贵金属层，做出的成品弹性也比较高。当薄膜基材比较短时，可以放入离子溅射机并夹住薄膜基材两头，让薄膜基材随夹头移动。而当薄膜基材比较长时，可绕成卷状放入离子溅射机内，然后用夹头夹住薄膜基材的开始端，逐渐拉出薄膜基材并拖动薄膜基材移动以进行喷射。
在步骤S4中，离子溅射机会将贵金属坯料变成离子状态然后从喷头喷射出，附着在薄膜基材表面上。薄膜基材的单面或者双面都可以喷射贵金属，而双面喷射时可以在离子溅射机中一次过完成。单面喷射的好处是贵金属用料更少，而且薄膜基材为透明的PVC、PET薄膜时，可以在成品的双面都看到贵金属。
步骤S4的喷射过程是在离子溅射机内真空环境进行的，并且喷射出的离子状态贵金属温度是高于室温的，但不会使得薄膜基材熔化或燃烧。所以在步骤S5中，喷射附着了贵金属层的薄膜基材需要进行冷却，其冷却可以为风冷或者自然冷却，并且要冷却到室温，然后就开始进行压印或者雕刻(激光雕刻)。在步骤S5中的对喷射附着了贵金属层的薄膜基材冷却了之后可以先进行裁剪，裁剪到合适尺寸之后再进行压印或雕刻。
第一实施例
第一实施例的贵金属片溅射成型工艺要喷面积10cm2、厚度0.2μm的单面贵金属层。工艺详细步骤：
步骤S1，将0.39克贵金属坯料投入到离子溅射机内；
步骤S2，设置离子溅射机的溅射厚度为0.2μm和溅射速度为18m/h；
步骤S3，准备薄膜基材并将10cm2的薄膜基材放入离子溅射机中；
步骤S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面上；
步骤S5：离子溅射机对薄膜基材喷射上贵金属层后冷却至室温，然后在贵金属层上压印或者雕刻出花纹浮雕。
第二实施例
第二实施例的贵金属片溅射成型工艺要喷面积10cm2、厚度0.3μm的单面贵金属层。工艺详细步骤：
步骤S1，将0.58克贵金属坯料投入到离子溅射机内；
步骤S2，设置离子溅射机的溅射厚度为0.3μm和溅射速度为12m/h；
步骤S3，准备薄膜基材并将10cm2的薄膜基材放入离子溅射机中；
步骤S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面上；
步骤S5：离子溅射机对薄膜基材喷射上贵金属层后冷却至室温，然后在贵金属层上压印或者雕刻出花纹浮雕。
第三实施例
第三实施例的贵金属片溅射成型工艺要喷面积10cm2、厚度0.4μm的单面贵金属层。工艺详细步骤：
步骤S1，将0.77克贵金属坯料投入到离子溅射机内；
步骤S2，设置离子溅射机的溅射厚度为0.4μm和溅射速度为9m/h；
步骤S3，准备薄膜基材并将10cm2的薄膜基材放入离子溅射机中；
步骤S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面上；
步骤S5：离子溅射机对薄膜基材喷射上贵金属层后冷却至室温，然后在贵金属层上压印或者雕刻出花纹浮雕。
以上陈述仅以实施例来进一步说明本发明的技术内容，以便于读者更容易理解，但不代表本发明的实施方式仅限于此，任何依本发明所做的技术延伸或再创造，均受本发明的保护。

Claims (8)

1.一种贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，其用于在薄膜基材上生成贵金属层，其包括以下步骤：
S1，将贵金属坯料投入到离子溅射机内；
S2，设置离子溅射机的溅射厚度和溅射速度；
S3，准备薄膜基材并将薄膜基材放入离子溅射机中；
S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面或者双面上。
2.如权利要求1所述的贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，还包括步骤S5：离子溅射机对薄膜基材喷射上贵金属层后冷却至室温，然后在贵金属层上压印或者雕刻出花纹浮雕。
3.如权利要求1所述的贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，所述步骤S5中，薄膜基材的冷却为风冷或者自然冷却。
4.如权利要求1所述的贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，所述薄膜基材为薄纸或者PVC、PET薄膜。
5.如权利要求1所述的贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，所述贵金属为黄金、铂金、钯金、银或铜。
6.如权利要求1所述的贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，若要喷面积10cm2、厚度0.2μm的单面贵金属层，需要在步骤S1中投入0.39克贵金属坯料，在步骤S2中设定溅射厚度为0.2μm，溅射速度为18m/h。
7.如权利要求1所述的贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，若要喷面积10cm2、厚度0.3μm的单面贵金属层，需要在步骤S1中投入0.58克贵金属坯料，在步骤S2中设定溅射厚度为0.3μm，溅射速度为12m/h。
8.如权利要求1所述的贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，若要喷面积10cm2、厚度0.4μm的单面贵金属层，需要在步骤S1中投入0.77克贵金属坯料，在步骤S2中设定溅射厚度为0.4μm，溅射速度为9m/h。
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