CN109825799A - 一种首饰真空贵金属溅射设备及工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种首饰真空贵金属溅射设备及工艺，磁控金箱体上设置有用于控制设备运行状态的控制开关，磁控金箱体上设置有真空抽气系统，真空抽气系统与溅射室通过导气管连通，溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶，溅射室上部设置有加热器，溅射室底部设置有物料旋转执行机构，物料旋转执行机构上设置有用于悬挂物料的物料架；工艺包括：净化处理：将首饰进行清洗处理；去静电；上料；抽真空；溅射处理。本发明能够使设备对首饰品表面溅射上贵金属涂层，能够使首饰具有更好的抗污效果，涂层均匀，同时设备操作简单。
Description
【技术领域】
本发明涉及贵金属表面处理的技术领域，特别是一种首饰真空贵金属溅射设备及工艺的技术领域。
【背景技术】
随着人们生活水平的提高，贵金属首饰成为人们生活中的必需品，尤其对于年轻人，贵金属虽然具有较好的抗氧化能力，但是时间长了，表面光泽会暗淡，同时防污性能较差。
【发明内容】
本发明的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种首饰真空贵金属溅射设备，能够使设备对首饰品表面溅射上贵金属涂层，能够使首饰具有更好的抗污效果，涂层均匀，同时设备操作简单。
为实现上述目的，本发明提出了一种首饰真空贵金属溅射设备，包括磁控金箱体、磁控金箱门、控制开关、真空抽气系统、贵金属磁控溅射靶、加热器、物料旋转执行机构和物料架，所述磁控金箱体内设置有溅射室，所述溅射室入口处设置有磁控金箱门，所述磁控金箱体上设置有用于控制设备运行状态的控制开关，所述磁控金箱体上设置有真空抽气系统，，所述真空抽气系统与溅射室通过导气管连通，所述溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶，所述溅射室上部设置有加热器，所述溅射室底部设置有物料旋转执行机构，所述物料旋转执行机构上设置有用于悬挂物料的物料架。
作为优选，所述物料旋转执行机构包括自转定齿圈、托盘、公转座、公转连接柱体、自转杆座、自转动齿轮、公转动齿圈、物料旋转动力电机、物料旋转主动齿轮、物料旋转上限位盘、物料旋转连接杆和主轴，所述自转定齿圈固设在溅射室底部，所述自转定齿圈内溅射室底部竖直竖直有主轴，所述主轴上端设置有公转座，所述公转座下部自转定齿圈上设置有托盘，所述托盘与公转座之间设置有公转连接柱体，所述公转座内设置有公转动齿圈，所述溅射室底部底部设置有物料旋转动力电机，所述物料旋转动力电机的旋转轴上设置有物料旋转主动齿轮，所述物料旋转主动齿轮与公转动齿圈啮合，所述公转座上部设置有物料旋转连接杆，所述物料旋转连接杆上端物料旋转上限位盘，所述托盘和公转座上穿过设置有自转杆座，所述自转杆座下端设置有自转动齿轮，所述自转动齿轮与自转定齿圈啮合。
作为优选，所述物料架包括物料自转杆、物料悬挂座、物料悬挂杆和限位防脱螺帽，所述物料自转杆上固设有物料悬挂座，所述物料悬挂座周围设置有物料悬挂杆，所述物料自转杆上端设置有限位防脱螺帽。
作为优选，所述物料自转杆下端设置有物料自转套筒，所述物料自转套筒侧部设置有卡槽，所述自转杆座上端侧部设置有限位横杆，所述限位横杆设置在卡槽。
作为优选，所述加热器内设置有电热丝。
作为优选，所述溅射室内设置有两个贵金属磁控溅射靶。
本发明的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种首饰真空贵金属溅射工艺，能够使首饰品表面表面不容易氧化，同时耐磨性更高，抗污能力更好。
为实现上述目的，本发明提出了一种首饰真空贵金属溅射工艺，包括
A)净化处理：将首饰进行清洗处理；
B)去静电：对首饰进行去静电处理；
C)上料：将首饰挂在溅射室内的物料悬挂杆上；
D)抽真空：对溅射室进行分级抽真空；
E)溅射处理：向溅射室内充入氩气，采用贵金属磁控溅射靶，在首饰表面沉积贵金属，溅射处理的温度为260-400摄氏度，溅射处理的时间为5-20分钟。
作为优选，所述步骤A)中，采用酒精在超声波设备中清洗30分钟,去除污点和指纹。
作为优选，所述步骤B)中，首先采用旋片泵将真空处理箱体内抽到7pa以下，然后通过分子泵将真空处理箱体内抽到3pa。
作为优选，所述步骤E)中,所述溅射处理的温度为310摄氏度，溅射处理的时间为10分钟。
本发明的有益效果：本发明通过将贵金属磁控溅射靶、加热器、物料旋转执行机构和物料架应用在金属表面处理设备中，能够使设备对首饰品表面溅射上贵金属涂层，能够使首饰具有更好的抗污效果，涂层均匀，同时设备操作简单，通过对首饰品利用贵金属进行溅射处理，能够使首饰品表面表面不容易氧化，同时耐磨性更高，抗污能力更好。
本发明的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
【附图说明】
图1是本发明一种首饰真空贵金属溅射设备的主视图；
图2是磁控金箱体的主视剖面图；
图3是本发明一种首饰真空贵金属溅射设备的俯视剖面图；
图4是图3中A部的局部放大图；
图5是图3中B部的局部放大图；
图6是图3中C部的局部放大图。
图中：1-磁控金箱体、2-磁控金箱门、3-控制开关、4-真空抽气系统、5-贵金属磁控溅射靶、6-加热器、7-物料旋转执行机构、71-自转定齿圈、72-托盘、73-公转座、74-公转连接柱体、75-自转杆座、76-自转动齿轮、77-公转动齿圈、78-物料旋转动力电机、79-物料旋转主动齿轮、80-物料旋转上限位盘、801-物料旋转连接杆、802-主轴、8-物料架、81-物料自转杆、82-物料自转套筒、83-物料悬挂座、84-物料悬挂杆、85-限位防脱螺帽。
【具体实施方式】
参阅图1-图6，本发明一种首饰真空贵金属溅射设备，包括磁控金箱体1、磁控金箱门2、控制开关3、真空抽气系统4、贵金属磁控溅射靶5、加热器6、物料旋转执行机构7和物料架8，所述磁控金箱体1内设置有溅射室，所述溅射室入口处设置有磁控金箱门2，所述磁控金箱体1上设置有用于控制设备运行状态的控制开关3，所述磁控金箱体1上设置有真空抽气系统4，，所述真空抽气系统4与溅射室通过导气管连通，所述溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶5，所述溅射室上部设置有加热器6，所述溅射室底部设置有物料旋转执行机构7，所述物料旋转执行机构7上设置有用于悬挂物料的物料架8。所述物料旋转执行机构7包括自转定齿圈71、托盘72、公转座73、公转连接柱体74、自转杆座75、自转动齿轮76、公转动齿圈77、物料旋转动力电机78、物料旋转主动齿轮79、物料旋转上限位盘80、物料旋转连接杆801和主轴802，所述自转定齿圈71固设在溅射室底部，所述自转定齿圈71内溅射室底部竖直竖直有主轴802，所述主轴802上端设置有公转座73，所述公转座73下部自转定齿圈71上设置有托盘72，所述托盘72与公转座73之间设置有公转连接柱体74，所述公转座73内设置有公转动齿圈77，所述溅射室底部底部设置有物料旋转动力电机78，所述物料旋转动力电机78的旋转轴上设置有物料旋转主动齿轮79，所述物料旋转主动齿轮79与公转动齿圈77啮合，所述公转座73上部设置有物料旋转连接杆801，所述物料旋转连接杆801上端物料旋转上限位盘80，所述托盘72和公转座73上穿过设置有自转杆座75，所述自转杆座75下端设置有自转动齿轮76，所述自转动齿轮76与自转定齿圈71啮合。所述物料架8包括物料自转杆81、物料悬挂座83、物料悬挂杆84和限位防脱螺帽85，所述物料自转杆81上固设有物料悬挂座83，所述物料悬挂座83周围设置有物料悬挂杆84，所述物料自转杆81上端设置有限位防脱螺帽85。所述物料自转杆81下端设置有物料自转套筒82，所述物料自转套筒82侧部设置有卡槽，所述自转杆座75上端侧部设置有限位横杆，所述限位横杆设置在卡槽。所述加热器6内设置有电热丝。所述溅射室内设置有两个贵金属磁控溅射靶5。
本发明工作过程：
本发明一种首饰真空贵金属溅射设备在工作过程中，首先将首饰挂在物料悬挂杆84上，通过物料旋转动力电机78带动物料旋转主动齿轮79转动，通过物料旋转主动齿轮79带动公转动齿圈77转动，通过公转座73带动自转杆座75及物料架8转动，自转杆座75在转动过程中，自转杆座75下端的自转动齿轮76与自转定齿圈71配合带动自转杆座75自转，通过真空抽气系统4对溅射室进行抽真空处理，通过加热器6对溅射室进行加热。
本发明一种首饰真空贵金属溅射工艺，包括A)净化处理：将首饰进行清洗处理；B)去静电：对首饰进行去静电处理；C)上料：将首饰挂在溅射室内的物料悬挂杆上；D)抽真空：对溅射室进行分级抽真空；E)溅射处理：向溅射室内充入氩气，采用贵金属磁控溅射靶，在首饰表面沉积贵金属，溅射处理的温度为260-400摄氏度，溅射处理的时间为5-20分钟。所述步骤A中，采用酒精在超声波设备中清洗30分钟,去除污点和指纹。所述步骤B中，首先采用旋片泵将真空处理箱体内抽到7pa以下，然后通过分子泵将真空处理箱体内抽到3pa。所述步骤E中,所述溅射处理的温度为310摄氏度，溅射处理的时间为10分钟。
本发明一种首饰真空贵金属溅射设备及工艺，通过将贵金属磁控溅射靶5、加热器6、物料旋转执行机构7和物料架8应用在金属表面处理设备中，能够使设备对首饰品表面溅射上贵金属涂层，能够使首饰具有更好的抗污效果，涂层均匀，同时设备操作简单，通过对首饰品利用贵金属进行溅射处理，能够使首饰品表面表面不容易氧化，同时耐磨性更高，抗污能力更好。
上述实施例是对本发明的说明，不是对本发明的限定，任何对本发明简单变换后的方案均属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：包括磁控金箱体(1)、磁控金箱门(2)、控制开关(3)、真空抽气系统(4)、贵金属磁控溅射靶(5)、加热器(6)、物料旋转执行机构(7)和物料架(8)，所述磁控金箱体(1)内设置有溅射室，所述溅射室入口处设置有磁控金箱门(2)，所述磁控金箱体(1)上设置有用于控制设备运行状态的控制开关(3)，所述磁控金箱体(1)上设置有真空抽气系统(4)，，所述真空抽气系统(4)与溅射室通过导气管连通，所述溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶(5)，所述溅射室上部设置有加热器(6)，所述溅射室底部设置有物料旋转执行机构(7)，所述物料旋转执行机构(7)上设置有用于悬挂物料的物料架(8)。
2.如权利要求1所述的一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：所述物料旋转执行机构(7)包括自转定齿圈(71)、托盘(72)、公转座(73)、公转连接柱体(74)、自转杆座(75)、自转动齿轮(76)、公转动齿圈(77)、物料旋转动力电机(78)、物料旋转主动齿轮(79)、物料旋转上限位盘(80)、物料旋转连接杆(801)和主轴(802)，所述自转定齿圈(71)固设在溅射室底部，所述自转定齿圈(71)内溅射室底部竖直竖直有主轴(802)，所述主轴(802)上端设置有公转座(73)，所述公转座(73)下部自转定齿圈(71)上设置有托盘(72)，所述托盘(72)与公转座(73)之间设置有公转连接柱体(74)，所述公转座(73)内设置有公转动齿圈(77)，所述溅射室底部底部设置有物料旋转动力电机(78)，所述物料旋转动力电机(78)的旋转轴上设置有物料旋转主动齿轮(79)，所述物料旋转主动齿轮(79)与公转动齿圈(77)啮合，所述公转座(73)上部设置有物料旋转连接杆(801)，所述物料旋转连接杆(801)上端物料旋转上限位盘(80)，所述托盘(72)和公转座(73)上穿过设置有自转杆座(75)，所述自转杆座(75)下端设置有自转动齿轮(76)，所述自转动齿轮(76)与自转定齿圈(71)啮合。
3.如权利要求1所述的一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：所述物料架(8)包括物料自转杆(81)、物料悬挂座(83)、物料悬挂杆(84)和限位防脱螺帽(85)，所述物料自转杆(81)上固设有物料悬挂座(83)，所述物料悬挂座(83)周围设置有物料悬挂杆(84)，所述物料自转杆(81)上端设置有限位防脱螺帽(85)。
4.如权利要求3所述的一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：所述物料自转杆(81)下端设置有物料自转套筒(82)，所述物料自转套筒(82)侧部设置有卡槽，所述自转杆座(75)上端侧部设置有限位横杆，所述限位横杆设置在卡槽。
5.如权利要求1所述的一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：所述加热器(6)内设置有电热丝。
6.如权利要求1所述的一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：所述溅射室内设置有两个贵金属磁控溅射靶(5)。
7.一种首饰真空贵金属溅射工艺，其特征在于：包括
A)净化处理：将首饰进行清洗处理；
B)去静电：对首饰进行去静电处理；
C)上料：将首饰挂在溅射室内；
D)抽真空：对溅射室进行分级抽真空；
E)溅射处理：向溅射室内充入氩气，采用贵金属磁控溅射靶，在首饰表面沉积贵金属，溅射处理的温度为260-400摄氏度，溅射处理的时间为5-20分钟。
8.如权利要求7所述的一种首饰真空贵金属溅射工艺，其特征在于：所述步骤A)中，采用酒精在超声波设备中清洗30分钟,去除污点和指纹。
9.如权利要求7所述的一种首饰真空贵金属溅射工艺，其特征在于：所述步骤B)中，首先采用旋片泵将真空处理箱体内抽到7pa以下，然后通过分子泵将真空处理箱体内抽到3pa。
10.如权利要求7所述的一种首饰真空贵金属溅射工艺，其特征在于：所述步骤E)中,所述溅射处理的温度为310摄氏度，溅射处理的时间为10分钟。
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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