CN110172675A - 一种首饰品表面真空处理设备及方法 - Google Patents

一种首饰品表面真空处理设备及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110172675A
CN110172675A CN201810964515.1A CN201810964515A CN110172675A CN 110172675 A CN110172675 A CN 110172675A CN 201810964515 A CN201810964515 A CN 201810964515A CN 110172675 A CN110172675 A CN 110172675A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
vacuum processing
vacuum
seat
evaporation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810964515.1A
Other languages
English (en)
Inventor
郭礼淳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Haoyi Jewelry Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Haoyi Jewelry Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Haoyi Jewelry Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen Haoyi Jewelry Technology Co Ltd
Priority to CN201810964515.1A priority Critical patent/CN110172675A/zh
Publication of CN110172675A publication Critical patent/CN110172675A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/10—Glass or silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Adornments (AREA)

Abstract

本发明涉及贵金属处理表面处理的技术领域，公开了一种首饰品表面真空处理设备及方法，设备包括真空处理箱体、门体、开关控制箱、抽真空设备、磁控溅射设备、涂层蒸发部、物料旋转动力部和物料放置架，所述真空处理箱体侧部设置有抽真空设备，所述真空处理箱体内侧部设置有磁控溅射设备，所述真空处理箱体内设置有涂层蒸发部，所述涂层蒸发部下部设置有物料旋转动力部，所述物料旋转动力部上部涂层蒸发部周围设置有物料放置架；方法包括：净化处理；抽真空；溅射处理；蒸发镀膜处理。本发明能够使设备对首饰品表面镀上高分子纳米涂层，涂层均匀，效率高，同时设备操作简单，能够使首饰品表面表面不容易氧化，同时耐磨性更高，抗污能力更好。

Description

一种首饰品表面真空处理设备及方法
【技术领域】
本发明涉及贵金属处理的技术领域，特别是一种首饰品表面真空处理设备及方法的技术领域。
【背景技术】
随着人们生活水平的提高，贵金属首饰成为人们生活中的必需品，尤其对于年轻人，贵金属虽然具有较好的抗氧化能力，但是时间长了，表面光泽会暗淡，同时防污性能较差。
【发明内容】
本发明的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种首饰品表面真空处理设备，能够使设备对首饰品表面镀上高分子纳米涂层，涂层均匀，效率高，同时设备操作简单。
为实现上述目的，本发明提出了一种首饰品表面真空处理设备，包括真空处理箱体、门体、开关控制箱、抽真空设备、磁控溅射设备、涂层蒸发部、物料旋转动力部和物料放置架，所述门体通过活页设置在真空处理箱体上，所述真空处理箱体侧部设置有开关控制箱，所述真空处理箱体侧部设置有抽真空设备，所述真空处理箱体内侧部设置有磁控溅射设备，所述真空处理箱体内设置有涂层蒸发部，所述涂层蒸发部下部设置有物料旋转动力部，所述物料旋转动力部上部涂层蒸发部周围设置有物料放置架，所述开关控制箱分别与抽真空设备、磁控溅射设备、涂层蒸发部和物料旋转动力部电性连接。
作为优选，所述抽真空设备包括旋片泵和分子泵，所述旋片泵和分子泵之间连接有精抽阀。
作为优选，所述涂层蒸发部包括高压绝缘座、导电柱体、蒸发接电座、钼丝和高分子纳米涂层储存盒体，所述真空处理箱体内上下两侧分别设置有高压绝缘座，所述高压绝缘座之间连接有两个导电柱体，所述导电柱体上通过螺栓固定设置有蒸发接电座，所述蒸发接电座之间连接有钼丝，所述钼丝上设置有高分子纳米涂层储存盒体，所述钼丝上设置有固定槽，所述高分子纳米涂层储存盒体设置在固定槽中。
作为优选，所述物料旋转动力部包括定齿圈、限位盘、公转座、限位连接杆、旋转轴、自转被动齿轮、公转动齿圈、旋转动力电机、旋转主动齿轮、上物料固定盘和固定连杆，所述真空处理箱体内底部设置有定齿圈，所述定齿圈上部设置有限位盘，所述限位盘上部设置有公转座，所述公转座与限位盘之间连接有限位连接杆，所述公转座上设置有旋转轴，所述旋转轴下端设置有自转被动齿轮，所述自转被动齿轮与定齿圈啮合，所述公转座内设置有公转动齿圈，所述旋转动力电机的旋转轴上设置有旋转主动齿轮，所述旋转主动齿轮与公转动齿圈啮合，所述公转座上部通过固定连杆连接有上物料固定盘。
作为优选，所述物料放置架包括自转物料放置杆、自转连接套、物料固定套和物料放置钩体，所述自转物料放置杆下端设置有自转连接套，所述自转连接套上通过螺栓固定设置有物料固定套，所述物料固定套周围设置有用于放置物料的物料放置钩体。
作为优选，所述物料固定套下端设置有限位槽体，所述旋转轴上端侧部设置有限位棒体，所述限位棒体设置在限位槽体中。
本发明的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种首饰品表面真空处理方法，能够使首饰品表面表面不容易氧化，同时耐磨性更高，抗污能力更好。为实现上述目的，本发明提出了一种首饰品表面真空处理方法，包括
A)净化处理：将首饰进行清洗处理；
B)抽真空：将首饰放置在真空处理箱体内，真空热蒸发用高分子纳米涂层材料，对真空处理箱体进行分级抽真空；
C)溅射处理：向真空处理箱体内充入氩气和高纯度氧气，采用磁控溅射溅射氧化硅或者氧化铬靶材，在首饰表面沉积氧化硅或者氧化铬渡层；
D)蒸发镀膜处理：首饰在沉积氧化硅或者氧化铬渡层后，再采用电阻式热蒸发的形式，蒸发高分子纳米涂层材料，在基材表面生成均匀的高分子纳米涂层；
E)关闭设备，断开设备电源。
作为优选，所述步骤A)中，采用酒精在超声波设备中清洗50分钟。
作为优选，所述步骤B)中，首先采用旋片泵将真空处理箱体内抽到7pa，然后通过分子泵将真空处理箱体内抽到3pa。
作为优选，所述步骤C)中，氩气和高纯度氧气的比例为1：1，所述高纯度氧气以足以氧化真空处理箱体内所有首饰为准。
本发明的有益效果：本发明通过首先对首饰品表面进行清洗，然后对首饰品表面进行氧化处理，然后溅射氧化硅或者氧化铬靶材，使后期涂上高分子纳米涂层不容易脱落，能够使设备对首饰品表面镀上高分子纳米涂层，涂层均匀，效率高，同时设备操作简单，能够使首饰品表面表面不容易氧化，同时耐磨性更高，抗污能力更好。
本发明的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
【附图说明】
图1是本发明一种首饰品表面真空处理设备的主视图；
图2是真空处理箱体的主视剖面图；
图3是本发明一种首饰品表面真空处理设备的主视剖面图；
图4是图3中A部的局部放大图；
图5是图3中B部的局部放大图；
图6是钼丝俯视图；
图7是钼丝的右视图。
图中：1-真空处理箱体、2-门体、3-开关控制箱、4-抽真空设备、5-磁控溅射设备、6-涂层蒸发部、61-高压绝缘座、62-导电柱体、63-蒸发接电座、64-钼丝、641-固定槽、65-高分子纳米涂层储存盒体、7-物料旋转动力部、71-定齿圈、72-限位盘、73-公转座、74-限位连接杆、75-旋转轴、76-自转被动齿轮、77-公转动齿圈、78-旋转动力电机、79-旋转主动齿轮、80-上物料固定盘、801-固定连杆、8-物料放置架、81-自转物料放置杆、82-自转连接套、83-物料固定套、84-物料放置钩体。
【具体实施方式】
参阅图1-图7，本发明一种首饰品表面真空处理设备，包括真空处理箱体1、门体2、开关控制箱3、抽真空设备4、磁控溅射设备5、涂层蒸发部6、物料旋转动力部7和物料放置架8，所述门体2通过活页设置在真空处理箱体1上，所述真空处理箱体1侧部设置有开关控制箱3，所述真空处理箱体1侧部设置有抽真空设备4，所述真空处理箱体1内侧部设置有磁控溅射设备5，所述真空处理箱体1内设置有涂层蒸发部6，所述涂层蒸发部6下部设置有物料旋转动力部7，所述物料旋转动力部7上部涂层蒸发部6周围设置有物料放置架8，所述开关控制箱3分别与抽真空设备4、磁控溅射设备5、涂层蒸发部6和物料旋转动力部7电性连接，所述抽真空设备4包括旋片泵和分子泵，所述旋片泵和分子泵之间连接有精抽阀，所述涂层蒸发部6包括高压绝缘座61、导电柱体62、蒸发接电座63、钼丝64和高分子纳米涂层储存盒体65，所述真空处理箱体1内上下两侧分别设置有高压绝缘座61，所述高压绝缘座61之间连接有两个导电柱体62，所述导电柱体62上通过螺栓固定设置有蒸发接电座63，所述蒸发接电座63之间连接有钼丝64，所述钼丝64上设置有高分子纳米涂层储存盒体65，所述钼丝64上设置有固定槽641，所述高分子纳米涂层储存盒体65设置在固定槽641中，所述物料旋转动力部7包括定齿圈71、限位盘72、公转座73、限位连接杆74、旋转轴75、自转被动齿轮76、公转动齿圈77、旋转动力电机78、旋转主动齿轮79、上物料固定盘80和固定连杆801，所述真空处理箱体1内底部设置有定齿圈71，所述定齿圈71上部设置有限位盘72，所述限位盘72上部设置有公转座73，所述公转座73与限位盘72之间连接有限位连接杆74，所述公转座73上设置有旋转轴75，所述旋转轴75下端设置有自转被动齿轮76，所述自转被动齿轮76与定齿圈71啮合，所述公转座73内设置有公转动齿圈77，所述旋转动力电机78的旋转轴75上设置有旋转主动齿轮79，所述旋转主动齿轮79与公转动齿圈77啮合，所述公转座73上部通过固定连杆801连接有上物料固定盘80，所述物料放置架8包括自转物料放置杆81、自转连接套82、物料固定套83和物料放置钩体84，所述自转物料放置杆81下端设置有自转连接套82，所述自转连接套82上通过螺栓固定设置有物料固定套83，所述物料固定套83周围设置有用于放置物料的物料放置钩体84，所述物料固定套83下端设置有限位槽体，所述旋转轴75上端侧部设置有限位棒体，所述限位棒体设置在限位槽体中。
本发明工作过程：
本发明一种首饰品表面真空处理设备在工作过程中，将首饰品挂在物料放置钩体84上，然后关上门体2，通过开关控制箱3控制设备运动，通过旋转动力电机78带动旋转主动齿轮79转动，通过旋转主动齿轮79带动公转动齿圈77及公转座73转动，通过公转座73带动旋转轴75公转，通过定齿圈71和自转被动齿轮76配合带动旋转轴75自转，通过旋转轴75带动自转物料放置杆81自转，通过自转物料放置杆81带动首饰品公转和自转，通过磁控溅射设备5使首饰品表面沉积氧化硅或者氧化铬渡层，通过钼丝64对高分子纳米涂层储存盒体65进行加热，使首饰品表面形成高分子纳米涂层。
本发明一种首饰品表面真空处理设备，通过磁控溅射设备5溅射氧化硅或者氧化铬靶材，使首饰品表面沉积氧化硅或者氧化铬渡层，使后期涂上高分子纳米涂层不容易脱落，通过涂层蒸发部6上的钼丝64对高分子纳米涂层储存盒体65进行加热，使首饰品表面形成高分子纳米涂层，能够使设备对首饰品表面镀上高分子纳米涂层，涂层均匀，效率高。
本发明一种首饰品表面真空处理方法，包括A)净化处理：将首饰进行清洗处理；B)抽真空：将首饰放置在真空处理箱体内，真空热蒸发用高分子纳米涂层材料，对真空处理箱体进行分级抽真空；C)溅射处理：向真空处理箱体内充入氩气和高纯度氧气，采用磁控溅射溅射氧化硅或者氧化铬靶材，在首饰表面沉积氧化硅或者氧化铬渡层；D)蒸发镀膜处理：首饰在沉积氧化硅或者氧化铬渡层后，再采用电阻式热蒸发的形式，蒸发高分子纳米涂层材料，在基材表面生成均匀的高分子纳米涂层；E)关闭设备，断开设备电源。所述步骤A)中，采用酒精在超声波设备中清洗50分钟。所述步骤B)中，首先采用旋片泵将真空处理箱体内抽到7pa，然后通过分子泵将真空处理箱体内抽到3pa。所述步骤C)中，氩气和高纯度氧气的比例为1：1，所述高纯度氧气以足以氧化真空处理箱体内所有首饰为准。
本发明一种首饰品表面真空处理方法，通过首先对首饰品表面进行清洗，然后对首饰品表面进行氧化处理，然后溅射氧化硅或者氧化铬靶材，使后期涂上高分子纳米涂层不容易脱落，能够使首饰品表面表面不容易氧化，同时耐磨性更高，抗污能力更好。
上述实施例是对本发明的说明，不是对本发明的限定，任何对本发明简单变换后的方案均属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种首饰品表面真空处理设备，其特征在于：包括真空处理箱体(1)、门体(2)、开关控制箱(3)、抽真空设备(4)、磁控溅射设备(5)、涂层蒸发部(6)、物料旋转动力部(7)和物料放置架(8)，所述门体(2)通过活页设置在真空处理箱体(1)上，所述真空处理箱体(1)侧部设置有开关控制箱(3)，所述真空处理箱体(1)侧部设置有抽真空设备(4)，所述真空处理箱体(1)内侧部设置有磁控溅射设备(5)，所述真空处理箱体(1)内设置有涂层蒸发部(6)，所述涂层蒸发部(6)下部设置有物料旋转动力部(7)，所述物料旋转动力部(7)上部涂层蒸发部(6)周围设置有物料放置架(8)，所述开关控制箱(3)分别与抽真空设备(4)、磁控溅射设备(5)、涂层蒸发部(6)和物料旋转动力部(7)电性连接。
2.如权利要求1所述的一种首饰品表面真空处理设备，其特征在于：所述抽真空设备(4)包括旋片泵和分子泵，所述旋片泵和分子泵之间连接有精抽阀。
3.如权利要求1所述的一种首饰品表面真空处理设备，其特征在于：所述涂层蒸发部(6)包括高压绝缘座(61)、导电柱体(62)、蒸发接电座(63)、钼丝(64)和高分子纳米涂层储存盒体(65)，所述真空处理箱体(1)内上下两侧分别设置有高压绝缘座(61)，所述高压绝缘座(61)之间连接有两个导电柱体(62)，所述导电柱体(62)上通过螺栓固定设置有蒸发接电座(63)，所述蒸发接电座(63)之间连接有钼丝(64)，所述钼丝(64)上设置有高分子纳米涂层储存盒体(65)，所述钼丝(64)上设置有固定槽(641)，所述高分子纳米涂层储存盒体(65)设置在固定槽(641)中。
4.如权利要求1所述的一种首饰品表面真空处理设备，其特征在于：所述物料旋转动力部(7)包括定齿圈(71)、限位盘(72)、公转座(73)、限位连接杆(74)、旋转轴(75)、自转被动齿轮(76)、公转动齿圈(77)、旋转动力电机(78)、旋转主动齿轮(79)、上物料固定盘(80)和固定连杆(801)，所述真空处理箱体(1)内底部设置有定齿圈(71)，所述定齿圈(71)上部设置有限位盘(72)，所述限位盘(72)上部设置有公转座(73)，所述公转座(73)与限位盘(72)之间连接有限位连接杆(74)，所述公转座(73)上设置有旋转轴(75)，所述旋转轴(75)下端设置有自转被动齿轮(76)，所述自转被动齿轮(76)与定齿圈(71)啮合，所述公转座(73)内设置有公转动齿圈(77)，所述旋转动力电机(78)的旋转轴(75)上设置有旋转主动齿轮(79)，所述旋转主动齿轮(79)与公转动齿圈(77)啮合，所述公转座(73)上部通过固定连杆(801)连接有上物料固定盘(80)。
5.如权利要求5所述的一种首饰品表面真空处理设备，其特征在于：所述物料放置架(8)包括自转物料放置杆(81)、自转连接套(82)、物料固定套(83)和物料放置钩体(84)，所述自转物料放置杆(81)下端设置有自转连接套(82)，所述自转连接套(82)上通过螺栓固定设置有物料固定套(83)，所述物料固定套(83)周围设置有用于放置物料的物料放置钩体(84)。
6.如权利要求6所述的一种首饰品表面真空处理设备，其特征在于：所述物料固定套(83)下端设置有限位槽体，所述旋转轴(75)上端侧部设置有限位棒体，所述限位棒体设置在限位槽体中。
7.一种首饰品表面真空处理方法，其特征在于：包括
A)净化处理：将首饰进行清洗处理；
B)抽真空：将首饰放置在真空处理箱体内，真空热蒸发用高分子纳米涂层材料，对真空处理箱体进行分级抽真空；
C)溅射处理：向真空处理箱体内充入氩气和高纯度氧气，采用磁控溅射溅射氧化硅或者氧化铬靶材，在首饰表面沉积氧化硅或者氧化铬渡层；
D)蒸发镀膜处理：首饰在沉积氧化硅或者氧化铬渡层后，再采用电阻式热蒸发的形式，蒸发高分子纳米涂层材料，在基材表面生成均匀的高分子纳米涂层；
E)关闭设备，断开设备电源。
8.如权利要求7所述的一种首饰品表面真空处理方法，其特征在于：所述步骤A)中，采用酒精在超声波设备中清洗50分钟。
9.如权利要求7所述的一种首饰品表面真空处理方法，其特征在于：所述步骤B)中，首先采用旋片泵将真空处理箱体内抽到7pa，然后通过分子泵将真空处理箱体内抽到3pa。
10.如权利要求7所述的一种首饰品表面真空处理方法，其特征在于：所述步骤C)中，氩气和高纯度氧气的比例为1：1，所述高纯度氧气以足以氧化真空处理箱体内所有首饰为准。
CN201810964515.1A 2018-08-23 2018-08-23 一种首饰品表面真空处理设备及方法 Pending CN110172675A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810964515.1A CN110172675A (zh) 2018-08-23 2018-08-23 一种首饰品表面真空处理设备及方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810964515.1A CN110172675A (zh) 2018-08-23 2018-08-23 一种首饰品表面真空处理设备及方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110172675A true CN110172675A (zh) 2019-08-27

Family

ID=67689051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810964515.1A Pending CN110172675A (zh) 2018-08-23 2018-08-23 一种首饰品表面真空处理设备及方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110172675A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114150283A (zh) * 2021-11-30 2022-03-08 广州市中禧珠宝有限公司 一种首饰表面抗氧化膜的制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1793416A (zh) * 2005-12-12 2006-06-28 深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 金属薄膜复合制备装置及工艺
CN102352489A (zh) * 2011-10-14 2012-02-15 南昌欧菲光科技有限公司 一种触摸屏用防指纹膜的制备方法
WO2012176990A1 (ko) * 2011-06-20 2012-12-27 바코스 주식회사 내지문과 반사방지를 위한 코팅방법 및 코팅장치
CN103314128A (zh) * 2011-01-05 2013-09-18 珐珂斯株式会社 耐指纹镀膜方法及装置
CN104372298A (zh) * 2014-11-13 2015-02-25 邵海平 一种高能离子束基板处理及真空蒸发镀膜设备及方法
CN208857357U (zh) * 2018-08-23 2019-05-14 深圳市昊翀珠宝科技有限公司 一种首饰品表面真空处理设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1793416A (zh) * 2005-12-12 2006-06-28 深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 金属薄膜复合制备装置及工艺
CN103314128A (zh) * 2011-01-05 2013-09-18 珐珂斯株式会社 耐指纹镀膜方法及装置
WO2012176990A1 (ko) * 2011-06-20 2012-12-27 바코스 주식회사 내지문과 반사방지를 위한 코팅방법 및 코팅장치
CN102352489A (zh) * 2011-10-14 2012-02-15 南昌欧菲光科技有限公司 一种触摸屏用防指纹膜的制备方法
CN104372298A (zh) * 2014-11-13 2015-02-25 邵海平 一种高能离子束基板处理及真空蒸发镀膜设备及方法
CN208857357U (zh) * 2018-08-23 2019-05-14 深圳市昊翀珠宝科技有限公司 一种首饰品表面真空处理设备

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114150283A (zh) * 2021-11-30 2022-03-08 广州市中禧珠宝有限公司 一种首饰表面抗氧化膜的制备方法
CN114150283B (zh) * 2021-11-30 2024-05-28 广州市中禧珠宝有限公司 一种首饰表面抗氧化膜的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107326336B (zh) 抗菌耐磨非晶碳涂层及其制备方法、抗菌耐磨器件
EP1116801B1 (en) Method of applying a coating by physical vapour deposition
CN208857357U (zh) 一种首饰品表面真空处理设备
CN110172675A (zh) 一种首饰品表面真空处理设备及方法
CN101637679A (zh) 一种抗菌滤网的制备方法
CN103924202A (zh) 一种金属支架表面改性方法
CN104213091B (zh) 改善生物医用镁合金表面磁控溅射TiN涂层结合性能的方法
CN106555162B (zh) 一种高硬度杀菌pvd膜的制备方法
CN104278235B (zh) 一种具有氮化钛陶瓷膜层的刀具及其制备方法
CN104878351B (zh) 一种在镍钛合金表面制备钛银合金化层的方法
CN106498392A (zh) 一种含银的氮化钛/铜纳米多层抗菌膜及其制备工艺
EP3202947A1 (en) Method for depositing pvd germ repellent film
CN110106472A (zh) 一种金属表面保护层及其制备方法
CN108754520A (zh) 硬质合金表面涂层去除方法和设备
CN106756765B (zh) 一种金属材料表面含氟抗菌涂层及其制备方法
CN108273080A (zh) 一种医疗器具灭菌处理方法
CN110616405B (zh) 一种耐磨损阻扩散的氧化铝/氮化铝钛铬复合涂层及其制备方法
TWI496912B (zh) 鍍膜件及其製備方法
CN103485170A (zh) 一种导电时效性的涤纶基纳米金属薄膜复合材料制备方法
CN113832441A (zh) 一种多层复合膜及其制备方法
CN219093006U (zh) 一种真空等离子清洗机
JPS6126770A (ja) Ｍｇ，Ｍｇ合金，Ａ１，Ａ１合金上へのＡｕ，Ａｇ，Ｃｕのコ−テイング方法
CN1274870C (zh) 用溅射技术进行人工器官表面处理的方法
CN109825799A (zh) 一种首饰真空贵金属溅射设备及工艺
CN109207944A (zh) 一种具有含钛化合物涂层的剪线钳及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination