CN108239742A - 具有涂层的硬质合金件及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种具有涂层的硬质合金件的制备方法，在硬质合金刀具基体上沉积涂层之前，首先采用含铁氰化钾、强碱、水的预处理液进行处理，该预处理液可以以有效地清除基体表面的油渍、氧化层、杂质离子等顽固污染物，增加基体表层的显微粗糙度，有助于提高涂层的膜基结合强度，避免了使用昂贵的喷砂机设备，节约了生产成本。
Description
技术领域
本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种具有涂层的硬质合金件及其制备方法。
背景技术
硬质合金刀具在硬度、强度、耐磨性和耐腐蚀性上虽有“工业牙齿”之美誉，但在长期的服役过程中，无法很好的满足当今机械加工工业高精度、高速切削以及低成本等要求，特别是对其硬度、强度和耐磨性提出了更高的要求。为了解决上述硬质合金刀具材料的矛盾，业内广泛采用的方法是在硬质合金刀具基体上涂覆上一层或者多层高硬度、高耐磨损性能的材料，比如TiC、TiN、TiB2、TiAlN等涂层。这些过渡金属类涂层通常具有高的熔点、硬度、化学稳定性以及良好的导热与导电等性能，可以满足硬质合金刀具的应用需求。
硬质合金刀具在制备上述涂层之前，需要对其进行一定的预处理，以去除灰尘、油渍、杂质离子以及氧化膜等，以提高膜层对基体的膜基结合强度。通常的做法是对硬质合金基体进行喷砂处理，同时达到清洁表面和适当提高基体表面粗糙度的目的，提高膜基结合强度。然而，喷砂处理硬质合金基体，既对喷砂机的要求较高，增加了前处理的成本，而且硬质合金刀具表层存在的铁锈、微生物、油渍等顽固污染物难以彻底清除，同时还会存在残留砂浆，严重影响后续涂层沉积，膜基结合强度难以保证，影响生产效率，甚至导致次品。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种具有涂层的硬质合金件的制备方法，在硬质合金刀具基体上沉积涂层之前，首先采用含铁氰化钾、强碱、水的预处理液进行处理，该预处理液可以以有效地清除基体表面的油渍、氧化层、杂质离子等顽固污染物，增加基体表层的显微粗糙度，有助于提高涂层的膜基结合强度，避免了使用昂贵的喷砂机设备，节约了生产成本。
第一方面，本发明提供了一种具有涂层的硬质合金件的制备方法，包括以下步骤：
(1)提供预处理液，所述预处理液中，包括以下质量份数的各组分：
铁氰化钾：10-30份；
强碱：10-30份；
水：40-80份；其中，所述强碱为氢氧化钾和氢氧化钠中的一种或两种；
(2)将硬质合金刀具基体置于所述预处理液中进行预处理，预处理时间为1-20min，得到带基体腐蚀层的刀具基体；
(3)将上述带基体腐蚀层的刀具基体依次置于水、丙酮、无水乙醇中进行超声清洗5-20min，并进行干燥，得到干燥后的基体；
(4)将干燥后的基体置于涂层沉积设备中，在基体表面沉积过渡金属硼化合物涂层或过渡金属氮化合物涂层，得到带涂层的硬质合金刀具。
优选地，所述预处理液中，包括以下质量份数的各组分：铁氰化钾：15-25份；强碱：10-25份；水：60-80份。
优选地，所述预处理液中，铁氰化钾的浓度为0.40-1.5mol/L，强碱的浓度为2.32-6.0mol/L。(根据上述质量比(铁氰化钾或KOH与水的质量比范围为0.125-0.75)，知道两者摩尔浓度的范围分别是0.38-2.28，2.32-13mol/L)
进一步优选地，所述预处理液中，铁氰化钾的浓度为0.4-0.9mol/L。
进一步优选地，所述预处理液中，强碱的浓度为3.0-6.0mol/L。
优选地，所述预处理的时间为3-12min。进一步优选为4-6min。本申请中，所述预处理的时间可以为2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18或19min。所述预处理的时间可根据预处理液的具体成分以及所期望的基体腐蚀层的厚度来决定。
优选地，所述硬质合金工具基体可以是以高硬度难熔的金属碳化物(碳化钨、碳化钛、)微米级粉末为主要成分，以钴、镍或钼为粘结剂烧结成的粉末冶金制品，钴在硬质合金中的质量含量一般为6wt.％-10wt.％。
在本发明一实施方式中，所述硬质合金工具基体的材质为WC-Co。
在所述硬质合金工具基体中，在未经上述预处理处理之前，基体表层只有金属碳化物，表层以下为金属碳化物和粘结剂构成的粘结相。
当所述硬质合金基体经过上述预处理液处理后，铁氰化钾和强碱协同作用于硬质合金基体表面，与基体表层中的金属碳化物(例如WC)反应，腐蚀其表面，露出表层下面中的粘结剂；而粘结剂(钴、镍或钼)相对较稳定，几乎不与上述预处理液反应。如果是单独的强碱溶液，则不与金属碳化物反应，需要有铁氰化钾的配合协同作用，铁氰化钾起到了催化剂的作用，促使整个反应的进行。
金属碳化物(例如碳化钨WC)与上述预处理液的反应原理如下：
KOH→K+1+OH-；K3[Fe(CN)6]→K++[Fe(CN)6]3-；
WC+OH-+[Fe(CN)6]3-→WO3 2++[Fe(CN)6]3-+CO2+H2O
优选地，所述基体腐蚀层相对于所述硬质合金基体而言，金属和碳的含量变低，钴、镍或钼的含量增加。其中，所述金属元素为钨、钛、铬和锗中的一种或多种。
优选地，当所述硬质合金基体为钨钴类硬质合金(WC-Co)时，自所述基体的底部向所述基体腐蚀层的方向上，所述基体中的钨元素和碳元素的含量变低，钴元素的含量增加。所述基体腐蚀层中具有裸露的钴Co晶粒，增加了基体的粗糙度。
进一步地，当所述硬质合金基体为钨钴类硬质合金(WC-Co)时，所述基体腐蚀层中，钴元素的质量含量为5-25％，钨元素的质量含量为60-90％，碳元素的质量含量为0.5-15％。
进一步优选地，所述基体腐蚀层中，碳元素的质量含量为5-10％。
进一步优选地，所述基体腐蚀层中，钨元素的质量含量为75-90％。
优选地，所述基体腐蚀层的粗糙度Ra为0.8-1.0μm。
优选地，以GCr15作为摩擦副，所述基体腐蚀层在10N的载荷下的摩擦系数为0.3-0.4。所述基体腐蚀层的存在，增加了基体的粗糙度，有助于后期制备涂层时，涂层在基体腐蚀层的粘附性，并提高涂层的膜基结合强度。
优选地，所述基体腐蚀层的厚度为50-100nm。
优选地，步骤(3)中，在水中的超声清洗时间为5-10min；在丙酮中的超声清洗时间为10-15min；在无水乙醇中的超声清洗时间为15-20min。
进一步地，所述丙酮的质量份数为50-120份。进一步地，所述无水乙醇的质量份数为60-100份。
优选地，步骤(4)中，所述过渡金属硼化合物涂层包括二硼化钛TiB2、二硼化锆ZrB2、二硼化钒VB2、二硼化铌NbB2、二硼化钽TaB2、二硼化铬CrB2、二硼化钼MoB2和二硼化钨WB2中的一种或多种。
优选地，步骤(4)中，所述过渡金属氮化合物涂层包括TiN、CrN、ZrN、TiAlN和TiCN中的一种或多种。涂层的制备方法既可以采用PVD(物理气相沉积)法制备，例如磁控溅射、电弧离子镀等；也可以采用CVD(化学气相沉积)制备，如热丝CVD，等离子体增强CVD(PECVD)等。
优选地，步骤(4)中，所述涂层的厚度为0.1-3μm。进一步地，为0.1-0.5μm。
本发明第一方面提供的带涂层的硬质合金件的制备方法中，先通过所述预处理液对硬质合金工具基体进行处理，既有效地清除基体表面的油渍、氧化层、杂质离子等顽固污染物，还形成了粗糙度较高的基体腐蚀层；之后在该基体腐蚀层上沉积过渡金属硼化合物或过渡金属氮化合物涂层，基于所述基体腐蚀层的连接作用，该涂层与基体的膜基结合强度高，不易从基体上剥落，提高了制得的具有涂层的硬质合金件的使用寿命。该制备方法简单易操作，无需采用昂贵的喷砂机设备，且对沉积涂层前基体上顽固污染物的清除较彻底。
第二方面，本发明提供了一种具有涂层的硬质合金件，包括硬质合金基体，以及设置所述基体上的涂层，所述涂层为过渡金属硼化合物涂层或过渡金属氮化合物涂层；所述基体在与靠近所述涂层处还设置有一基体腐蚀层，所述基体腐蚀层中包括多个腐蚀坑，所述涂层中的过渡金属硼化合物或过渡金属氮化合材料嵌合到所述腐蚀坑内。
优选地，所述基体腐蚀层的厚度为20-100nm。
优选地，所述腐蚀坑的尺寸为300-600nm。
优选地，所述基体腐蚀层的粗糙度Ra为0.8-1.0μm。
优选地，以GCr15作为摩擦副，所述基体腐蚀层在10N的载荷下的摩擦系数为0.3-0.4。
优选地，所述涂层的厚度为0.1-3μm。
进一步地，所述涂层中，涂层中晶粒的大小为纳米级别(即100纳米以内)。具体地，过渡金属硼化合物或过渡金属氮化合物晶粒可以是30-80nm，40-70nm。
优选地，所述涂层在10gf载荷下的膜基结合硬度为20-40GPa。
本发明中，所述硬质合金工具基体为以高硬度难熔的金属碳化物(碳化钨、碳化钛)微米级粉末为主要成分，以钴、镍或钼为粘结剂烧结成的粉末冶金制品。其中，所述金属碳化物中的金属元素为钨、钛、铬和锗中的一种或多种。所述基体腐蚀层相对于所述硬质合金基体而言，金属元素和碳的含量变低，钴、镍或钼的含量增加。
本发明一实施方式中，所述硬质合金基体为钨钴类硬质合金(WC-Co。)。
优选地，自所述基体的底部向所述基体腐蚀层的方向上，所述基体中的钨元素和碳元素的含量变低，钴元素的含量增加。所述含量是指质量含量(％)。
本发明另一实施方式中，所述硬质合金基体为钨钛钴类硬质合金(成份为碳化钨、碳化钛及钴)。
优选地，自所述基体的底部向所述基体腐蚀层的方向上，自所述基体的底部向所述基体腐蚀层的方向上，所述基体中的钨元素、钛元素以及碳元素的质量含量变低，钴元素的质量含量增加。
本发明第三方面提供的具有涂层的硬质合金件中，在硬质合金基体上形成有粗糙度高的基体腐蚀层，并在该基体腐蚀层上形成有过渡金属硼化合物或过渡金属氮化合物涂层，基于所述基体腐蚀层的连接作用，该涂层与基体的膜基结合强度高，不易从基体上剥落，提高了制得的具有涂层的硬质合金件的使用寿命。
本发明的优点将会在下面的说明书中部分阐明，一部分根据说明书是显而易见的，或者可以通过本发明实施例的实施而获知。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中具有涂层的硬质合金件的结构示意图，其中101为未与所述预处理液反应的硬质合金基体，102为基体腐蚀层，103为过渡金属硼化合物或过渡金属氮化合物涂层；
图2为本发明实施例1中的硬质合金基体在经所述预处理液进行处理之前(A)和处理之后(B)的扫描电镜照片。
图3为本发明实施例1制得的带TiB2涂层的硬质合金刀具的洛氏压痕试验结果；
图4为对比实施例1制得的带TiB2涂层的硬质合金刀具的洛氏压痕试验结果。
具体实施方式
下面将对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。以下所述是本发明实施例的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明实施例原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明实施例的保护范围。
实施例1
本实施例1中以在硬质合金刀具上采用PVD法(物理气相沉积)制备TiB2涂层为例进行介绍，采用如下步骤进行：
(1)配制预处理液，所述预处理液按如下质量份数的各组分组成：
六氰合铁酸钾(铁氰化钾，K3(Fe(CN)6))：20份；
氢氧化钾：25份；
去离子水：80份。其中，所述预处理液中，铁氰化钾的浓度为0.76mol/L，强碱的浓度为5.58mol/L。
以国内市场上出售的YG6(WC-6％Co)硬质合微型铣刀作为基体，将其置于上述预处理液中进行预处理5min，得到带基体腐蚀层的刀具基体，其中，该基体腐蚀层的厚度为80nm；
(2)将步骤(1)所得基体先置于80份的去离子水中进行超声清洗10min，烘干后，再置于60份的丙酮中超声清洗10min，待其烘干后，再置于65份的无水乙醇中超声清洗15min；最后用氮气吹干工件，然后放入120℃的鼓风干燥箱烘干；
(3)在干燥后的刀具基体表面采用PVD法沉积厚度为25μm的TiB2涂层，得到带TiB2涂层的硬质合金刀具，具体过程如下：
3-a)将基体置于离子源/电弧离子镀复合镀膜设备的转架上；关闭真空室门，进行抽真空，当真空度达到3.0×10-3Pa时，开始进行辉光清洗；
3-b)辉光清洗：开启氩气瓶主阀，减压阀、离子源阀、弧阀和靶阀，通入氩气，氩气流量500sccm，工作压强为1.2Pa，基底偏压-800V，对基底进行辉光清洗，清洗时间为30min；
3-c)离子刻蚀清洗：辉光清洗结束后，用离子源对样品进行清洗，离子源电压为75V，氩气流量200sccm，工作压强0.5Pa，基底偏压为300V；清洗时间30min；
3-d)TiB2涂层的沉积：待离子刻蚀清洗结束后，通氩气，流量为200sccm,调节真空室压强为1.0Pa，开启TiB2电弧靶，靶电流为80A，基底偏压为100V进行TiB2涂层的沉积，沉积时间为25min；
3-e)涂层沉积结束后，关闭离子源电源、偏压电源，再关闭气体质量流量计与相应阀开关；当炉内温度降到100℃以下后，关闭高阀，打开放气阀，待真空室内压强与外界气压一致时，打开真空室门，最后将样品取出。
图1为本发明实施例中具有涂层的硬质合金件的结构示意图，其中101为未与所述预处理液反应的硬质合金基体，102为基体腐蚀层，103为过渡金属硼化合物或过渡金属氮化合物涂层。102层的厚度为80nm，103层的厚度为25μm。
图4为本实施例中的硬质合金基体在经所述预处理液进行处理之前(A)和处理之后(B)的扫描电镜照片。从图4可以看出，腐蚀后，基体的粗糙度明显增加。
对图4(A)中方框所圈出的原始硬质合金基体的黑色区域、圆形所圈出的白色区域分别进行EDS元素分析，其结果分别如下表1、表2所示：
表1黑色区域
表2白色区域
而该黑色区域在经过所述预处理液处理后，该区域的元素全部变成了Co。而白色区域在经过所述预处理液处理后，仍然为100％的W。而保护该方框和该圆形的黑白色区域的EDS分析显示，其在腐蚀前，W和C的重量浓度分别为97.69％、2.31％，原子浓度分别为73.43％和26.57％。而黑白区域在腐蚀后，其W、C和Co的重量浓度分别为89.89％、0.81％和9.30％，其W、C和Co的原子浓度分别为68.46％、9.44％和22.10％。以上元素分析的结果进一步验证了YG6硬质合金基体中的WC被所述预处理液所腐蚀，露出基体表层下面的Co，增加了基体的粗糙度。
采用洛氏压痕法对本实施例1制得的带TiB2涂层的硬质合金刀具进行测试，其结果如图2所示。图2的洛氏压痕试验表明，涂层的膜基结合强度可以达到HF1级(即有裂纹，不断裂)。测得涂层的膜/基结合强度能达(划痕结合力)为30N，10gf载荷下表面复合硬度达40GPa。
本实施例中所得基体腐蚀层的粗糙度Ra为0.85μm；所述基体腐蚀层在10N的载荷下的摩擦系数为0.35。
为突出本发明的有益效果，还提供了以常规喷砂处理的方法对刀具基体进行处理，并制备TiB2涂层的对比实施例1，包括以下步骤：
以国内市场上出售的YG6(WC-6％Co)硬质合微型铣刀作为基体，将其进行喷砂预处理，喷注压强300kPa，碳化硅砂粒度300目，之后分别在100mL去离子水中超声清洗10min、在40mL的丙酮中超声清洗10min和在50mL的酒精中中超声清洗15min；之后用氮气吹干工件；
在干燥后的刀具基体表面采用PVD法沉积与上述实施例1具有相同厚度的TiB2涂层。
图3为对比实施例1所得带TiB2涂层的硬质合金刀具的洛氏压痕试验结果。从图3可以看出，经过本发明的前处理工艺处理的YG6硬质合金的TiB2涂层的压痕裂纹少，且压痕完整，而未按照本发明的前处理工艺处理的YG6硬质合金的TiB2涂层的压痕裂纹多，且压痕不完整，这说明本发明的前处理工艺能够提高涂层的膜基结合强度。
以上对比说明，本发明提供的工件基体的处理方法，既有效地清除基体表面的油渍、氧化层、杂质离子等顽固污染物，还有助于在基体上形成有粗糙度高的基体腐蚀层，在该基体腐蚀层上制备过渡金属硼化合物涂层时，基于所述基体腐蚀层的作用，涂层不易从基体上剥落，显著提高了涂层在工件基体上的膜基结合强度高，可以提高工件的使用寿命。
实施例2
本实施例2中以在硬质合金刀具上采用PVD制备TiN涂层为例进行介绍，采用如下步骤进行：
(1)配制预处理液，所述预处理液按如下质量份数的各组分组成：
六氰合铁酸钾：10份；
氢氧化钾：10份；
去离子水：75份。其中，所述预处理液中，铁氰化钾的浓度为0.40mol/L，强碱的浓度为3.33mol/L。
以国内市场上出售的YG8(WC-8％Co)硬质合微型铣刀作为基体，将其置于上述预处理液中进行预处理6min，得到带基体腐蚀层的刀具基体，其中，该基体腐蚀层的厚度为85nm，该基体腐蚀层的粗糙度Ra为0.9μm，所述基体腐蚀层在10N的载荷下的摩擦系数为0.38；该基体腐蚀层中钴的质量含量为24.2％，钨的质量含量为65.32％，碳元素的质量含量为10.48％；
(2)将步骤(1)所得基体先置于50份的去离子水中进行超声清洗8min，烘干后，再置于60份的丙酮中超声清洗12min，待其烘干后，再置于65份的无水乙醇中超声清洗18min；最后用氮气吹干工件，然后放入100℃的鼓风干燥箱烘干；
(3)在干燥后的刀具基体表面采用PVD法沉积厚度为30μm的TiN涂层，得到带TiN涂层的硬质合金刀具，具体过程如下：
3-a)将基体置于离子源/电弧离子镀复合镀膜设备的转架上；关闭真空室门，进行抽真空，当真空度达到3.0×10-3Pa时，开始进行辉光清洗；
3-b)辉光清洗：开启氩气瓶主阀，减压阀、离子源阀、弧阀和靶阀，通入氩气，氩气流量550sccm，工作压强为1.4Pa，基底偏压-800V，对基底进行辉光清洗，清洗时间30min；
3-c)离子刻蚀清洗：辉光清洗结束后，用离子源对样品进行清洗，离子源电压为70V，氩气流量250sccm，工作压强0.8Pa，基底偏压为250V；清洗时间35min；
3-d)TiN涂层的沉积：待离子刻蚀清洗结束后，调节真空室压强为1.2Pa，开启电弧Ti靶，靶电流为85A，基底偏压110V，同时通入N2，流量200sccm，进行TiN层的沉积，沉积时间30min；
3-e)涂层沉积结束后，关闭离子源电源、偏压电源，再关闭气体质量流量计与相应阀开关；当炉内温度降到100℃以下后，关闭高阀，打开放气阀，待真空室内压强与外界气压一致时，打开真空室门，最后将样品取出。
实施例3
本实施例3中以在硬质合金刀具上采用PVD制备TiAlN涂层为例进行介绍，采用如下步骤进行：
(1)配制预处理液，所述预处理液按如下质量份数的各组分组成：
六氰合铁酸钾：15份；
氢氧化钾：20份；
去离子水：80份。其中，所述预处理液中，铁氰化钾的浓度为0.57mol/L，强碱的浓度为4.46mol/L。
以国内市场上出售的YT15(WC-15％TiC)硬质合金转位刀片作为基体，将其置于上述预处理液中进行预处理4min，得到带基体腐蚀层的刀具基体，其中，该基体腐蚀层的厚度为75nm；该基体腐蚀层的粗糙度Ra为0.8μm，所述基体腐蚀层在10N的载荷下的摩擦系数为0.32；该基体腐蚀层中钴Co的质量含量为6％，钨W的质量含量为74％，钛Ti的质量含量为11.2％，碳元素C的质量含量为8.8％；
(2)将步骤(1)所得基体先置于100份的去离子水中进行超声清洗5min，烘干后，再置于120份的丙酮中超声清洗15min，待其烘干后，再置于100份的无水乙醇中超声清洗20min；最后用氮气吹干工件，然后放入100℃的鼓风干燥箱烘干；
(3)在干燥后的刀具基体表面采用PVD法沉积厚度为35μm的TiAlN涂层，得到带TiAlN涂层的硬质合金刀具，具体过程如下：
3-a)将基体置于离子源/电弧离子镀复合镀膜设备的转架上；关闭真空室门，进行抽真空，当真空度达到3.0×10-3Pa时，开始进行辉光清洗；
3-b)辉光清洗：开启氩气瓶主阀，减压阀、离子源阀、弧阀和靶阀，通入氩气，氩气流量400sccm，工作压强为1.0Pa，基底偏压-800V，对基底进行辉光清洗，清洗时间30min；
3-c)离子刻蚀清洗：辉光清洗结束后，用离子源对样品进行清洗，离子源电压为65V，氩气流量200sccm，工作压强0.6Pa，基底偏压为250V；清洗时间30min；
3-d)TiAlN涂层的沉积：待离子刻蚀清洗结束后，调节真空室压强为1.1Pa，同时开启电弧Ti靶和Al靶，通入流量为350sccm的N2，靶电流分别为75A、65A，基底偏压为90V，进行TiAlN涂层的沉积，沉积时间为35min；
3-e)涂层沉积结束后，关闭离子源电源、偏压电源，再关闭气体质量流量计与相应阀开关；当炉内温度降到100℃以下后，关闭高阀，打开放气阀，待真空室内压强与外界气压一致时，打开真空室门，最后将样品取出。
需要说明的是，根据上述说明书的揭示和和阐述，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本发明的一些等同修改和变更也应当在本发明的权利要求的保护范围之内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本发明构成任何限制。
Claims (10)
1.一种带涂层的硬质合金件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)提供预处理液：所述预处理液中，包括以下质量份数的各组分：
铁氰化钾：10-30份；
强碱：10-30份；
水：40-80份；其中，所述强碱为氢氧化钾和氢氧化钠中的一种或两种；
(2)将硬质合金基体置于所述预处理液中进行预处理，预处理时间为1-20min，得到带基体腐蚀层的基体；
(3)将上述带基体腐蚀层的基体依次置于水、丙酮、无水乙醇中进行超声清洗5-20min，并进行干燥，得到干燥后的基体；
(4)将干燥后的基体置于涂层沉积设备中，在基体表面沉积过渡金属硼化合物涂层或过渡金属氮化合物涂层，得到具有涂层的硬质合金件。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述预处理液中，包括以下质量份数的各组分：铁氰化钾：15-25份；强碱：10-25份；水：60-80份。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述硬质合金基体为以高硬度难熔的金属碳化物微米级粉末为主要成分，以钴、镍或钼为粘结剂烧结成的粉末冶金制品；所述金属碳化物中的金属元素为钨、钛、铬和锗中的一种或多种。
4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述基体腐蚀层相对于所述硬质合金基体而言，金属元素和碳的含量变低，钴、镍或钼的含量增加。
5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述基体腐蚀层中，钴、镍或钼的摩尔含量为15-45％，金属元素的摩尔含量为50-70％，碳元素的摩尔含量为5-15％。
6.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，步骤(3)中，在水中的超声清洗时间为5-10min；在丙酮中的超声清洗时间为10-15min；在无水乙醇中的超声清洗时间为15-20min。
7.一种具有涂层的硬质合金件，其特征在于，包括硬质合金基体，以及设置所述基体上的涂层，所述涂层为过渡金属硼化合物涂层或过渡金属氮化合物涂层；所述基体在与靠近所述涂层处还设置有一基体腐蚀层，所述基体腐蚀层中包括多个腐蚀坑，所述涂层中的过渡金属硼化合物或过渡金属氮化合材料嵌合到所述腐蚀坑内。
8.如权利要求7所述的具有涂层的硬质合金件，其特征在于，所述基体腐蚀层的厚度为20-100nm。
9.如权利要求7所述的具有涂层的硬质合金件，其特征在于，所述基体腐蚀层的粗糙度Ra为0.8-1.0μm。
10.如权利要求7所述的具有涂层的硬质合金件，其特征在于，所述涂层的厚度为0.1-3μm。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109576710A (zh) * | 2018-12-07 | 2019-04-05 | 郑州航空工业管理学院 | 一种去除硬质合金表面硬质相的化学腐蚀方法 |
| CN110554066A (zh) * | 2019-09-20 | 2019-12-10 | 晋城鸿刃科技有限公司 | 用于晶粒结构金相分析的合金金属表面处理方法 |
| CN111411318A (zh) * | 2020-05-21 | 2020-07-14 | 北京金轮坤天特种机械有限公司 | 一种钛合金轴类件及其制备方法和应用 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020081464A1 (en) * | 2000-07-21 | 2002-06-27 | Toshiba Tungaloy Co., Ltd. | Coated cemented carbide excellent in peel strength and process for producing the same |
| CN101220462A (zh) * | 2008-01-25 | 2008-07-16 | 南京航空航天大学 | 硬质合金表面沉积cvd金刚石膜的梯度法预处理工艺 |
| CN103397314A (zh) * | 2013-08-15 | 2013-11-20 | 王涛 | 一种金刚石涂层刀具的制备方法及该方法所得金刚石涂层刀具在印刷线路板制备中的应用 |
| CN105316629A (zh) * | 2015-11-19 | 2016-02-10 | 上海应用技术学院 | 一种超硬纳微米多层复合涂层及其制备方法 |
| CN206428313U (zh) * | 2016-12-24 | 2017-08-22 | 深圳先进技术研究院 | 具有涂层的硬质合金件 |
-
2016
- 2016-12-24 CN CN201611210653.8A patent/CN108239742A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020081464A1 (en) * | 2000-07-21 | 2002-06-27 | Toshiba Tungaloy Co., Ltd. | Coated cemented carbide excellent in peel strength and process for producing the same |
| CN101220462A (zh) * | 2008-01-25 | 2008-07-16 | 南京航空航天大学 | 硬质合金表面沉积cvd金刚石膜的梯度法预处理工艺 |
| CN103397314A (zh) * | 2013-08-15 | 2013-11-20 | 王涛 | 一种金刚石涂层刀具的制备方法及该方法所得金刚石涂层刀具在印刷线路板制备中的应用 |
| CN105316629A (zh) * | 2015-11-19 | 2016-02-10 | 上海应用技术学院 | 一种超硬纳微米多层复合涂层及其制备方法 |
| CN206428313U (zh) * | 2016-12-24 | 2017-08-22 | 深圳先进技术研究院 | 具有涂层的硬质合金件 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 傅蔡安;丁伟;: "金刚石涂层刀具的磨损及表面处理对涂层质量的影响研究", 绿色科技, no. 05, pages 272 - 274 * |
| 马玉平;陈明;孙方宏;: "CVD金刚石涂层硬质合金衬底预处理新方法研究", 金刚石与磨料磨具工程, no. 01 * |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109576710A (zh) * | 2018-12-07 | 2019-04-05 | 郑州航空工业管理学院 | 一种去除硬质合金表面硬质相的化学腐蚀方法 |
| CN109576710B (zh) * | 2018-12-07 | 2020-10-27 | 郑州航空工业管理学院 | 一种去除硬质合金表面硬质相的化学腐蚀方法 |
| CN110554066A (zh) * | 2019-09-20 | 2019-12-10 | 晋城鸿刃科技有限公司 | 用于晶粒结构金相分析的合金金属表面处理方法 |
| CN110554066B (zh) * | 2019-09-20 | 2022-02-22 | 晋城鸿刃科技有限公司 | 用于晶粒结构金相分析的合金金属表面处理方法 |
| CN111411318A (zh) * | 2020-05-21 | 2020-07-14 | 北京金轮坤天特种机械有限公司 | 一种钛合金轴类件及其制备方法和应用 |
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