CN108206229A - 一种GaN基LED中ITO图形的制作方法 - Google Patents
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Abstract
一种GaN基LED中ITO图形的制作方法,包括以下步骤:(1)制作掩膜图形,在衬底表面上进行涂胶、曝光和显影,制作出需要的光阻掩膜图形;(2)低温蒸镀ITO膜;(3)剥离ITO膜;(4)微腐蚀处理:将步骤(3)得到的衬底放置到ITO腐蚀液中浸泡,进行微腐蚀处理处理;(5)高温退火:对步骤(4)得到的衬底在氮气氛围内进行高温退火。本发明实现了在较低温度下蒸镀ITO,直接使用粘性膜剥离掉多余ITO薄膜,实现了低电阻高透过率的ITO薄膜图形的制作。整个过程简便易操作,且成本较低,形成的ITO膜层,致密且边缘整齐,方阻较低透过率较高,从外观和质量两方面,大大提高了产品良率。
Description
技术领域
本发明涉及一种GaN基LED(发光二极管)中ITO图形的制作工艺,属于半导体中的LED加工技术领域。
背景技术
ITO(Indium Tin Oxide,氧化铟锡),是氧化铟和氧化锡一定比例的混合物。ITO薄膜是一种宽能带薄膜材料,其带隙为3.5-4.3ev,在可见光区透光率非常高,它是液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(TouchPanel)、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。
目前,在LED半导体加工技术领域,主要通过电子束热蒸发、磁控溅射、等离子体辅助等技术进行制作ITO薄膜,其中磁控溅射、等离子体辅助技术制作出的ITO薄膜结构致密、质地均匀,整体质量较高,但是整体成本较高,而电子束蒸发蒸镀ITO薄膜,成本相对较低,但是传统技术制作的ITO薄膜致密性较差,成膜颗粒较大,对后续ITO图形的制作影响较大。现在制作ITO图形,主要通过以下方法得到:方法一,先生长ITO膜层,在进行光刻掩膜,使用湿发腐蚀掉不需要的ITO,从而得到需要的ITO图形;方法二,先生长ITO膜层,在进行光刻掩膜进行保护,使用ICP(Inductively Coupled Plasma,电感耦合等离子体)进行干法刻蚀,得到需要的图形。方法一中,使用腐蚀性溶液进行腐蚀,由于ITO本身生长过程的差异性,使得该项技术存在腐蚀不均匀、侧蚀等问题;方法二中通过干法刻蚀来实现,同样存在刻蚀均匀性和厚度的较难控制等问题。
中国专利文献CN10295675956 A公开了一种剥离制备ITO图形的方法,该方法是先蒸镀一层厚度高于ITO的SiO2层,并使用光刻胶制作掩膜腐蚀出所需要的SiO2图形,去胶后在SiO2层上制作ITO薄膜,然后使用SiO2腐蚀液进行适当腐蚀,最后通过膜剥离法剥离掉多于的ITO膜层。该技术的有点在于避免了湿法腐蚀ITO造成的边缘毛刺,提高了芯片的漏电良率,同时,因为N区无残留,避免了由于ITO残留出现的N区刻蚀尖峰的现象,提高了芯片的漏电以及ESD良率,并使芯片的外观质量大大提高。本发明中没有使用光刻胶作为ITO掩膜图形的制作,避开了高温蒸镀ITO中,较高温度对光刻胶的破坏,整个过程中使用了二氧化硅制作的图形作为了光刻胶的替代,来作底层为ITO图形剥离提供基础,以此实现膜剥离。但是,二氧化硅的制作使整个过程复杂化,成本较高,增加了整个制程的风险。
中国专利文献CN1818129A公开了一种电子束蒸发低温制备锡掺杂氧化铟ITO薄膜的方法,是保持基底温度在100℃条件下进行的低温蒸发,实现了低温蒸镀ITO的可能性,但是该发明的使用温度仍然较高,不适合涂覆有光阻的基底的蒸镀。
中国专利文献CN101114126A公开了一种ITO图案的形成方法,是在使用正向光刻胶作为掩膜,然后进行真空磁控溅射ITO薄膜后,使用KOH进行多于ITO的脱膜处理,得到需要的ITO图形。该发明,整个过程较容易实现但是使用的磁控溅射和正向光刻胶成本较高,并且在使用磁控溅射ITO薄膜时使用温度控制在小于或等于230℃,该温度下对正向光刻胶很容易造成破坏,使溅射出的ITO薄膜边缘不平整。
鉴于此,有必要研究一种简便而且成本较低的制作ITO图形的方法。
发明内容
针对现有ITO图形制作技术存在的不足,本发明提供一种过程简便易操作,成本较低,形成的ITO膜层致密且边缘整齐的GaN基LED中ITO图形的制作方法;
本发明的GaN基LED中ITO图形的制作方法,包括以下步骤:
(1)制作掩膜图形:
在衬底表面上进行涂胶、曝光和显影,制作出需要的光阻掩膜图形;
所述步骤(1)的具体过程如下所述:
①使用负向光刻胶,涂胶厚度为10000埃-35000埃,涂胶转速为1600rpm-3000rpm。
②曝光时间为10-20秒,曝光功率为300-500w。
③显影时间为60-80秒,显影液温度为40-60℃,保持恒温。
所述步骤①中优选的涂胶厚度为20000埃,优选的涂胶转速为2400rpm。
所述述步骤②中优选的曝光时间为15秒,曝光功率为350W。
所述步骤③中优选的显影时间为65秒,显影液温度为45℃,保持恒温。
(2)低温蒸镀ITO膜;
所述步骤(2)的具体过程如下所述:
①将带有光阻掩膜图形的衬底放入蒸发台的腔室内,对腔室进行抽真空,真空值至少为3.0E-6Torr。
②对腔室预通氧气5-20分钟,加热温度为60-100℃,保持恒温。
③完成预通氧气并达到设定温度保持5-30分钟后,开始进行镀膜;镀膜速率为0.1-3埃/秒,厚度为400-3600埃。
④达到镀膜厚度后,停止加热,冷却5-20分钟后,取出生长有ITO膜的衬底。
所述步骤②中优选的预通氧时间为15分钟,加热温度为80℃,保持恒温。
所述步骤③中优选的镀膜速率优选为1埃/秒,厚度为600埃。
所述步骤④中优选的冷却时间为10分钟。
(3)剥离ITO膜:
所述步骤(3)的具体过程如下所述:
①将蒸镀有ITO膜的衬底置入45-90℃的恒温有机溶剂中浸泡5-30分钟(使负向光刻胶能够部分溶解于该有机溶剂中)。
②使用粘性膜均匀的覆盖在ITO膜表面并压实后撕下,重复2-4次,将多余的ITO膜剥离掉。
③使用去光阻液,将残留的负向光刻胶彻底去除。
所述步骤①中有机溶剂优选为丙酮,浸泡时间优选为10分钟,温度优选为60℃。
(4)微腐蚀处理:将步骤(3)得到的衬底放置到ITO腐蚀液中浸泡,进行微腐蚀处理处理。
所述步骤(4)中,ITO腐蚀液为FeCl3、HCl和H2O的混合溶液,FeCl3、HCl和H2O的比例为1g:40ml:40ml,HCl的质量分数为36-38%;浸泡时间为10-60秒,进一步优选的浸泡时间为30秒。
(5)高温退火:对步骤(4)得到的衬底在氮气氛围内进行高温退火。
所述步骤(5)中退火温度为500-650℃,退火时间为3-8分钟,氮气流量为2-10SLPM。优选的退火温度为600℃,退火时间为5分钟,氮气流量为3SLPM。
所有步骤涉及的氧气的纯度为不小于99.999%,保证氧气的纯净和使用安全。
所有步骤涉及的氮气的纯度不小于等于99.999%,保证氮气的纯净和使用安全。
本发明使用首先使用负向光刻胶制作掩膜图形,再使用电子束蒸发台进行低温蒸镀ITO薄膜,然后使用膜剥离方法直接将多余的ITO进行剥离掉,并通过特殊的微腐蚀工艺处理表面,来得到边缘整齐的ITO图形,最后通过接触式高温退火工艺得到低电阻高透过率的ITO薄膜。具有以下特点:
1.实现了在较低低温度下(保证负胶结构不被破坏)蒸镀ITO,直接使用粘性膜剥离掉多于ITO薄膜的方法,完成了ITO图形的制作过程。本发明实现的关键在于低温蒸镀ITO并配合后续的接触式氮气氛围下的高温退火,实现了低电阻高透过率的ITO薄膜图形的制作。通过有机溶剂溶解负向光刻胶进行膜剥离,并通过微腐蚀处理来得到边缘整齐的ITO图形。
2.整个过程操作步骤简洁,使用常规设备完成了ITO膜层的制作过程,中间无大量使用腐蚀性溶液,没有额外增加辅助性膜层与材料,仅仅使用负向光刻胶进行掩膜制作完成了ITO图形的制作,与传统的腐蚀法相比,成本低廉,耗用时间较少,效率较高,操作过程完全可靠。与增加辅助性膜层(如中国专利文献CN10295675956A)相比,整个过程减少了一次光刻和腐蚀步骤,提高了效率,降低了成本。
3.整个过程简便易操作,且成本较低,形成的ITO膜层致密且边缘整齐,方阻较低透过率较高,从外观和质量两方面,大大提高了产品良率。
4.适用于所有耐酸腐蚀衬底产品的ITO图形制作过程。
附图说明
图1是本发明GaN基LED中ITO图形的制作方法的流程图。
图2是本发明步骤(1)制作掩膜图形的过程示意图。
图3是本发明步骤(1)中制备的带有光阻掩膜图形的衬底的结构示意图。
图4是本发明步骤(2)的制备的带有ITO膜的衬底的结构示意图。
图5是本发明制备ITO图形的结构示意图。
图中:1、衬底;2、负向光刻胶;3、光刻版、4、曝光光束;5、ITO膜。
具体实施方式
实施例1
本发明的GaN基LED中ITO图形的制作工艺,包括制作掩膜图形、低温蒸镀ITO膜、ITO膜剥离、微腐蚀处理和高温退火,具体步骤如下:
(1)制作掩膜图形
如图1所示,在衬底1的表面上进行涂胶、曝光、显影,制作出需要的光阻掩膜图形。
①在衬底1的表面涂负向光刻胶2,涂胶厚度为20000埃,涂胶转速为2400rpm。
②在所涂负向光刻胶2上放置光刻版3,通过曝光光束4进行曝光,时间为15秒,曝光功率为350w。
③显影,时间为65秒,保持显影液45℃的恒温,得到如图3所示的带有光阻掩膜图形的衬底。
(2)低温蒸镀ITO膜
①将带有光阻掩膜图形的衬底放入蒸发台的腔室内,对腔室抽真空,真空值至少为3.0E-6Torr。
②对腔室预通氧气15分钟,加热温度为80℃,保持恒温。
③完成预通氧气并达到设定温度保持20分钟后,开始进行镀膜;镀膜速率为1埃/秒,厚度为600埃。
④达到镀膜厚度后,停止加热,冷却10分钟后,取出如图4所示的生长有ITO膜5的衬底。
(3)ITO膜剥离
①将蒸镀有ITO膜的衬底置入60℃的恒温丙酮中浸泡10分钟,使负向光刻胶能够部分溶解于丙酮中。
②使用粘性膜均匀的覆盖在ITO膜表面并压实后撕下,重复2-4次,将多余的ITO膜剥离掉。
③使用去光阻液,将残留的负向光刻胶彻底去除。
(4)微腐蚀处理
将步骤(3)得到的覆盖有ITO膜的衬底放入FeCl3:HCl:H2O=50g:2000mL:2000mL的混合溶液中进行微腐蚀处理,时间为30秒。HCl的质量分数为36-38%。
(5)高温退火,对步骤(4)得到的衬底在氮气氛围内进行高温退火。
使用高温快速升温炉在氮气氛围内进行接触式退火,退火温度为600℃,退火时间为5分钟,氮气流量为3SLP。得到图5所示的ITO图形。
通过上述步骤制作的ITO图形,使用四探针测试测试方阻在8-20欧姆/口之间,使用紫外双光束分光光度计测试的透过率在85%以上,ITO膜边缘整齐,外观良好。
实施例2
本实施例与实施例1的区别在于以下相应步骤为:
(1)制作掩膜图形
①在衬底1的表面涂负向光刻胶2,涂胶厚度为10000埃,涂胶转速为1600rpm。
②曝光时间为10秒,曝光功率为300w。
③显影时间为60秒,保持显影液40℃的恒温。
(2)低温蒸镀ITO膜
②对腔室预通氧气5分钟,加热温度为60℃,保持恒温。
③完成预通氧气并达到设定温度保持5分钟后,开始进行镀膜;镀膜速率为0.1埃/秒,厚度为400埃。
④冷却5分钟后,取出生长有ITO膜的衬底。
(3)ITO膜剥离
①将蒸镀有ITO膜的衬底置入45℃的恒温丙酮中浸泡30分钟。
(4)微腐蚀处理
将步骤(3)得到的覆盖有ITO膜的衬底微腐蚀处理时间为10秒。
(5)高温退火,对步骤(4)得到的衬底在氮气氛围内进行高温退火。
退火温度为500℃,退火时间为3分钟,氮气流量为10SLP。
通过上述工艺方法制作的ITO图形,使用四探针测试测试方阻在8-20欧姆/口之间,使用紫外双光束分光光度计测试的透过率在85%以上,ITO边缘整齐,外观良好。
实施例3
本实施例与实施例1的区别在于以下相应步骤为:
(1)制作掩膜图形
①涂胶厚度为35000埃,涂胶转速为3000rpm。
②曝光时间为20秒,曝光功率为500w。
③显影时间为80秒,保持显影液60℃的恒温。
(2)低温蒸镀ITO膜
②对腔室预通氧气20分钟,加热温度为100℃,保持恒温。
③完成预通氧气并达到设定温度保持30分钟后,开始进行镀膜;镀膜速率为3埃/秒,厚度为3600埃。
④达到镀膜厚度后,停止加热,冷却20分钟后,取出生长有ITO膜5的衬底。
(3)ITO膜剥离
①将蒸镀有ITO膜的衬底置入90℃的恒温丙酮中浸泡5分钟。
(4)微腐蚀处理
将步骤(3)得到的覆盖有ITO膜的衬底微腐蚀处理,时间为60秒。
(5)高温退火,对步骤(4)得到的衬底在氮气氛围内进行高温退火。
使用高温快速升温炉在氮气氛围内进行接触式退火,退火温度为650℃,退火时间为8分钟,氮气流量为2SLP。
通过上述工艺方法制作的ITO图形,使用四探针测试测试方阻在8-20欧姆/口之间,使用紫外双光束分光光度计测试的透过率在85%以上,ITO边缘整齐,外观良好。
Claims (10)
1.一种GaN基LED中ITO图形的制作方法,包括以下步骤:
(1)制作掩膜图形:
在衬底表面上进行涂胶、曝光和显影,制作出需要的光阻掩膜图形;
(2)低温蒸镀ITO膜;
(3)剥离ITO膜:
(4)微腐蚀处理:将步骤(3)得到的衬底放置到ITO腐蚀液中浸泡,进行微腐蚀处理处理;
(5)高温退火:对步骤(4)得到的衬底在氮气氛围内进行高温退火。
2.根据权利要求1所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤(1)的具体过程如下所述:
①使用负向光刻胶,涂胶厚度为10000埃-35000埃,涂胶转速为1600rpm-3000rpm。
②曝光时间为10-20秒,曝光功率为300-500w。
③显影时间为60-80秒,显影液温度为40-60℃,保持恒温。
3.根据权利要求2所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤①中的涂胶厚度为20000埃,涂胶转速为2400rpm。
4.根据权利要求2所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述述步骤②中的曝光时间为15秒,曝光功率为350W;所述步骤③中使用的显影时间为65秒,显影液温度为45℃,保持恒温。
5.根据权利要求1所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤(2)的具体过程如下所述:
①将带有光阻掩膜图形的衬底放入蒸发台的腔室内,对腔室进行抽真空,真空值至少为3.0E-6Torr。
②对腔室预通氧气5-20分钟,加热温度为60-100℃,保持恒温。
③完成预通氧气并达到设定温度保持5-30分钟后,开始进行镀膜;镀膜速率为0.1-3埃/秒,厚度为400-3600埃。
④达到镀膜厚度后,停止加热,冷却5-20分钟后,取出生长有ITO膜的衬底。
6.根据权利要求5所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤②中预通氧时间为15分钟,加热温度为80℃,保持恒温。
7.根据权利要求6所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤③中镀膜速率优选为1埃/秒,厚度为600埃;所述步骤④中冷却时间为10分钟。
8.根据权利要求1所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤(3)的具体过程如下所述:
①将蒸镀有ITO膜的衬底置入45-90℃的恒温有机溶剂中浸泡5-30分钟;
②使用粘性膜均匀的覆盖在ITO膜表面并压实后撕下,重复2-4次,将多余的ITO膜剥离掉;
③使用去光阻液,将残留的负向光刻胶彻底去除。
9.根据权利要求1所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤(4)中,ITO腐蚀液为FeCl3、HCl和H2O的混合溶液,FeCl3、HCl和H2O的比例为1g:40ml:40ml,HCl的质量分数为36-38%;浸泡时间为10-60秒。
10.根据权利要求1所述的GaN基LED中ITO图形的制作方法,其特征是:所述步骤(5)中退火温度为500-650℃,退火时间为3-8分钟,氮气流量为2-10SLPM。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20180626 |
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