CN108097530A - 一种平面靶材背面金属化设备及方法 - Google Patents

一种平面靶材背面金属化设备及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108097530A
CN108097530A CN201810054995.8A CN201810054995A CN108097530A CN 108097530 A CN108097530 A CN 108097530A CN 201810054995 A CN201810054995 A CN 201810054995A CN 108097530 A CN108097530 A CN 108097530A
Authority
CN
China
Prior art keywords
push rod
thermal station
numerical control
planar targets
lead screw
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810054995.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108097530B (zh
Inventor
莫斌
黄作
农浩
武建良
陆映东
黄誓成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd
Original Assignee
GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd filed Critical GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd
Priority to CN201810054995.8A priority Critical patent/CN108097530B/zh
Publication of CN108097530A publication Critical patent/CN108097530A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108097530B publication Critical patent/CN108097530B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/08Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
    • B05C9/14Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation involving heating or cooling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种平面靶材背面金属化设备及方法,该设备包括热台、靶材推杆、数控推杆传动丝杆、数控三轴龙门滑台、超声波涂铟机和热台温控箱,热台是由N个单温区热台组成,数控推杆传动丝杆通过丝杆安装块分别安装在热台的丝杆安装槽内,数控推杆传动丝杆的一端安装有丝杆电机,靶材推杆设置有N‑1根,靶材推杆间隔一个单温区热台宽度的距离通过推杆安装块安装在数控推杆传动丝杆上,数控三轴龙门滑台安装在热台上,超声波涂铟机安装在数控三轴龙门滑台的Z方向轴上,N的取值为3‑10;该方法采用连续性、全自动的生产方式。本发明可实现自动涂铟、多温区流水作业,可提高操作效果和工作效率,降低工人的劳动强度并改善作业环境。

Description

一种平面靶材背面金属化设备及方法
技术领域
本发明涉及一种背面金属化设备及方法,特别涉及一种平面靶材背面金属化设备及方法。
背景技术
陶瓷平面靶材是通过一块铜质的背板安装到磁控溅射镀膜机上的。所以靶材安装前,必须先将其焊接到铜背板上。靶材以金属铟为焊料,钎焊在铜板上,为增加焊接强度,需先在靶材背面涂上一层铟,即背面金属化。
现有背面金属化操作是,人工手持超声波涂铟机,站在200℃的热台旁操作,然后等热台降温后,取下完工的靶材。这样操作,工人劳动强度大,工作环境恶劣,且等待热台降温时间长,效率低下。
目前未见有专用于平面靶材背面金属化的设备,故需要研发一种设备专用于陶瓷平面靶材背面金属化,以降低工人的劳动强度和改善工人的作业环境。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:提供一种平面靶材背面金属化设备及方法,该设备及方法可实现自动涂铟、多温区流水作业,可提高操作效果和工作效率,降低工人的劳动强度并改善作业环境。
解决上述技术问题的技术方案是:一种平面靶材背面金属化设备,包括热台、靶材推杆、数控推杆传动丝杆、数控三轴龙门滑台、超声波涂铟机和用于控制热台温度的热台温控箱,所述的热台是由N个单温区热台组成,热台的两侧边缘设置有丝杆安装槽,所述热台温控箱的数量与单温区热台相同,每个单温区热台上配套安装一个热台温控箱,数控推杆传动丝杆设置有两根,两根数控推杆传动丝杆通过丝杆安装块分别安装在丝杆安装槽内,数控推杆传动丝杆的一端安装有丝杆电机,所述的靶材推杆设置有N-1根,靶材推杆间隔一个单温区热台宽度的距离通过推杆安装块安装在两根数控推杆传动丝杆上并位于热台上方,所述靶材推杆的两端通过转轴安装在推杆安装块上,推杆安装块开有内螺纹孔,推杆安装块通过内螺纹孔安装在数控推杆传动丝杆上,所述的数控三轴龙门滑台包括有X方向轴、Y方向轴和Z方向轴,数控三轴龙门滑台安装在热台上,超声波涂铟机安装在Z方向轴上,N的取值为3-10。
本发明的进一步技术方案是:N的取值为7。
所述靶材推杆为长方体,靶材推杆一端的推杆安装块上还设置有用于限制靶材推杆仅对向前运动的靶材施力的推杆转动挡片。
所述的数控三轴龙门滑台的Z方向轴上还设置有涂铟过程中给超声波涂铟机施加向上拉力的涂铟机拉力弹簧。
本发明的另一技术方案是:一种平面靶材背面金属化方法,采用上述的平面靶材背面金属化设备,其中,N的取值为7,超声波涂铟机位于中间一个单温区热台的上方,包括以下步骤:
(1)按进料方向,将7个单温区热台的温度通过热台温控箱依次设置为50℃、100℃、150℃、200℃、150℃、100℃、50℃;
(2)将平面靶材放到第一个温度为50℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为45-55℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第二个温度为100℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为95-105℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第三个温度为150℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为145-155℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第四个温度为200℃的单温区热台上加热,启动超声波涂铟机开始对平面靶材进行涂铟,涂铟过程由数控三轴龙门滑台控制超声波涂铟机的移动路径,涂铟完成后,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第五个温度为150℃的单温区热台上降温,停顿至平面靶材温度为145-155℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第六个温度为100℃的单温区热台上降温,停顿至平面靶材温度为95-105℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第七个温度为50℃的单温区热台上降温,最后由人工将平面靶材取下热台,金属化完成。
所述的平面靶材背面金属化设备的靶材推杆为长方体,靶材推杆一端的推杆安装块上还设置有用于限定靶材推杆仅对向前运动的靶材施力的推杆转动挡片;所述平面靶材背面金属化方法采用连续性生产方式,当数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将第一个单温区热台上平面靶材推到后一个单温区热台上后,数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆后退复位,然后再将另一块平面靶材放到第一个单温区热台上加热,如此反复,以实现连续性生产。
由于采用上述技术方案,本发明具有以下有益效果:
1、本发明平面靶材的移动是通过数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆完成,超声波涂铟机的工作路线是通过数控三轴龙门滑台控制,即平面靶材的移动过程和超声波涂铟机的工作过程能够全面实现自动化,不需要人工操作。工人仅需要将平面靶材放上和取下热台,相对于现有人工手持超声波涂铟机的工作方式,本发明可实现自动涂铟、多温区流水作业,降低工人的劳动强度并改善作业环境。
2、本发明能够实现连续性的生产,分多个单温区热台进行加热和降温的工作,可提高操作效果和工作效率,解决了现有工作方式等待热台降温时间长,效率低下的问题。
下面,结合附图和实施例对本发明之一种平面靶材背面金属化设备及方法的技术特征作进一步的说明。
附图说明
图1:本发明之一种平面靶材背面金属化设备结构示意图。
图2:本发明之单温区热台结构示意图(安装有热台温控箱)。
图3:本发明之数控三轴龙门滑台结构示意图(安装有超声波涂铟机)。
图4:本发明之靶材推杆、推杆安装块和推杆转动挡片结构示意图。
图5:图4的A部放大图。
图6:本发明之靶材推杆推动平面靶材前进的结构示意图。
图7:本发明之靶材推杆后退复位的结构示意图。
图中:1-热台,11-单温区热台,12-丝杆安装槽,2-热台温控箱,3-数控推杆传动丝杆,4-靶材推杆,41-推杆转动挡片,42-转轴,5-数控三轴龙门滑台,51-X方向轴,52- Y方向轴,53-Z方向轴,54-步进电机,6-超声波涂铟机,7-丝杆安装块,8-丝杆电机,9-推杆安装块,10-涂铟机拉力弹簧。
P表示平面靶材。
图6-图7中,实心箭头表示平面靶材的运动方向,空心箭头表示靶材推杆的运动方向,虚线框表示无外力时靶材推杆的自然状态。
具体实施方式
实施例1:一种平面靶材背面金属化设备,如图1~图3所示,包括热台1、靶材推杆4、数控推杆传动丝杆3、数控三轴龙门滑台5、超声波涂铟机6和用于控制热台温度的热台温控箱2,所述的热台是由N个单温区热台11组成,热台的两侧边缘设置有丝杆安装槽12,所述热台温控箱的数量与单温区热台相同,每个单温区热台上配套安装一个热台温控箱,每个单温区热台的温度在0-300度可调,可分成多个温区;数控推杆传动丝杆3设置有两根,两根数控推杆传动丝杆通过丝杆安装块7分别安装在丝杆安装槽12内,数控推杆传动丝杆的一端安装有丝杆电机8,所述的靶材推杆4设置有N-1根,靶材推杆间隔一个单温区热台宽度的距离通过推杆安装块9安装在两根数控推杆传动丝杆3上并位于热台上方,所述靶材推杆的两端通过转轴42安装在推杆安装块上,推杆安装块开有内螺纹孔,推杆安装块通过内螺纹孔安装在数控推杆传动丝杆3上,所述的数控三轴龙门滑台5包括有X方向轴51、Y方向轴52和Z方向轴53,数控三轴龙门滑台安装在热台上,超声波涂铟机6安装在Z方向轴上,N的取值为7。
作为本实施例的一种变换,N的取值还可以根据实际需要变化,一般N的取值为3-10。
本实施例中,所述靶材推杆4为长方体,靶材推杆一端的推杆安装块9上还设置有用于限制靶材推杆仅对向前运动的靶材施力的推杆转动挡片41(如图4-图5所示),推杆转动挡片41位于靶材推杆4后方(按照平面靶材的移动方向限定前后)且与于靶材推杆4间隔一定距离布置,即推杆转动挡片41使推杆可以顺时针转动但不能逆时针转动,避免推杆往回运动的时候,推走后面的靶材(如图6-图7所示)。作为一种变化,还可以采用其他的结构用于限制靶材推杆仅对向前运动的靶材施力。
本实施例中,所述的数控三轴龙门滑台的Z方向轴53上还设置有涂铟过程中给超声波涂铟机施加向上拉力的涂铟机拉力弹簧10;当数控三轴龙门滑台使超声波涂铟机向下运动接触到平面靶材后,涂铟机拉力弹簧有个反作用力避免超声波涂铟机压力过大而损坏平面靶材。作为一种变换,在能够保证超声波涂铟机压力合适的情况下,也可以不设置涂铟机拉力弹簧。
实施例2:一种平面靶材背面金属化方法,采用实施例1所述的平面靶材背面金属化设备,超声波涂铟机位于中间一个单温区热台的上方,包括以下步骤:
(1)按进料方向,将7个单温区热台11的温度通过热台温控箱2依次设置为50℃、100℃、150℃、200℃、150℃、100℃、50℃;
(2)将平面靶材放到第一个温度为50℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为45-55℃时,由数控推杆传动丝杆3驱动靶材推杆4前进,将平面靶材推到相邻的第二个温度为100℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为95-105℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第三个温度为150℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为145-155℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第四个温度为200℃的单温区热台上加热,启动超声波涂铟机6开始对平面靶材进行涂铟,涂铟过程由数控三轴龙门滑台5控制超声波涂铟机的移动路径,涂铟完成后,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第五个温度为150℃的单温区热台上降温,停顿至平面靶材温度为145-155℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第六个温度为100℃的单温区热台上降温,停顿至平面靶材温度为95-105℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第七个温度为50℃的单温区热台上降温,最后由人工将平面靶材取下热台,金属化完成。
实施例2中,所述平面靶材背面金属化方法采用连续性生产方式,当数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将第一个单温区热台上平面靶材推到后一个单温区热台上后,数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆后退复位,然后再将另一块平面靶材放到第一个单温区热台上加热,如此反复,以实现连续性生产,即加工过程中,可以进行流水作业。
实施例2的生产过程中,数控三轴龙门滑台5的步进电机54和丝杆电机8可编程控制,实现编程自动涂铟和自动移动平面靶材。作为一种变换,也可以采用手动人工控制。
本发明所述的数控三轴龙门滑台5的具体结构与现有技术相同,此处不再赘述。

Claims (6)

1.一种平面靶材背面金属化设备,其特征在于:包括热台(1)、靶材推杆(4)、数控推杆传动丝杆(3)、数控三轴龙门滑台(5)、超声波涂铟机(6)和用于控制热台温度的热台温控箱(2),所述的热台是由N个单温区热台(11)组成,热台的两侧边缘设置有丝杆安装槽(12),所述热台温控箱的数量与单温区热台相同,每个单温区热台上配套安装一个热台温控箱,数控推杆传动丝杆(3)设置有两根,两根数控推杆传动丝杆通过丝杆安装块(7)分别安装在丝杆安装槽(12)内,数控推杆传动丝杆的一端安装有丝杆电机(8),所述的靶材推杆(4)设置有N-1根,靶材推杆间隔一个单温区热台宽度的距离通过推杆安装块(9)安装在两根数控推杆传动丝杆(3)上并位于热台上方,所述靶材推杆的两端通过转轴(42)安装在推杆安装块上,推杆安装块开有内螺纹孔,推杆安装块通过内螺纹孔安装在数控推杆传动丝杆(3)上,所述的数控三轴龙门滑台(5)包括有X方向轴(51)、Y方向轴(52)和Z方向轴(53),数控三轴龙门滑台安装在热台上,超声波涂铟机(6)安装在Z方向轴上,N的取值为3-10。
2.根据权利要求1所述的一种平面靶材背面金属化设备,其特征在于:N的取值为7。
3.根据权利要求1或2所述的一种平面靶材背面金属化设备,其特征在于:所述靶材推杆(4)为长方体,靶材推杆一端的推杆安装块(9)上还设置有用于限制靶材推杆仅对向前运动的靶材施力的推杆转动挡片(41)。
4.根据权利要求1或2所述的一种平面靶材背面金属化设备,其特征在于:所述的数控三轴龙门滑台的Z方向轴(53)上还设置有涂铟过程中给超声波涂铟机施加向上拉力的涂铟机拉力弹簧(10)。
5.一种平面靶材背面金属化方法,其特征在于:采用权利要求1所述的平面靶材背面金属化设备,其中,N的取值为7,超声波涂铟机位于中间一个单温区热台的上方,包括以下步骤:
(1)按进料方向,将7个单温区热台(11)的温度通过热台温控箱(2)依次设置为50℃、100℃、150℃、200℃、150℃、100℃、50℃;
(2)将平面靶材放到第一个温度为50℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为45-55℃时,由数控推杆传动丝杆(3)驱动靶材推杆(4)前进,将平面靶材推到相邻的第二个温度为100℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为95-105℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第三个温度为150℃的单温区热台上加热,停顿至平面靶材温度为145-155℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第四个温度为200℃的单温区热台上加热,启动超声波涂铟机(6)开始对平面靶材进行涂铟,涂铟过程由数控三轴龙门滑台(5)控制超声波涂铟机的移动路径,涂铟完成后,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第五个温度为150℃的单温区热台上降温,停顿至平面靶材温度为145-155℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第六个温度为100℃的单温区热台上降温,停顿至平面靶材温度为95-105℃时,由数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将平面靶材推到相邻的第七个温度为50℃的单温区热台上降温,最后由人工将平面靶材取下热台,金属化完成。
6.根据权利要求5所述的一种平面靶材背面金属化方法,其特征在于:所述的平面靶材背面金属化设备的靶材推杆为长方体,靶材推杆一端的推杆安装块上还设置有用于限定靶材推杆仅对向前运动的靶材施力的推杆转动挡片;所述平面靶材背面金属化方法采用连续性生产方式,当数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆前进,将第一个单温区热台上平面靶材推到后一个单温区热台上后,数控推杆传动丝杆驱动靶材推杆后退复位,然后再将另一块平面靶材放到第一个单温区热台上加热,如此反复,以实现连续性生产。
CN201810054995.8A 2018-01-19 2018-01-19 一种平面靶材背面金属化设备及方法 Active CN108097530B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810054995.8A CN108097530B (zh) 2018-01-19 2018-01-19 一种平面靶材背面金属化设备及方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810054995.8A CN108097530B (zh) 2018-01-19 2018-01-19 一种平面靶材背面金属化设备及方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108097530A true CN108097530A (zh) 2018-06-01
CN108097530B CN108097530B (zh) 2023-12-29

Family

ID=62219456

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810054995.8A Active CN108097530B (zh) 2018-01-19 2018-01-19 一种平面靶材背面金属化设备及方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108097530B (zh)

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1407879A1 (ru) * 1986-07-07 1988-07-07 Проектно-Конструкторский Технологический Институт Всесоюзного Промышленного Объединения Угольной Промышленности Конвейер механизированной переменно-поточной линии
JPH01140360U (zh) * 1988-03-18 1989-09-26
JPH07299403A (ja) * 1994-05-02 1995-11-14 Canon Inc 塗布装置およびこれを用いて製造された画像形成装置
US6209706B1 (en) * 1999-02-26 2001-04-03 G. Robert Tod, Jr. Article grouping and transferring system
JP2005339897A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Toshiba Corp 画像表示装置の製造方法および封着材充填装置
WO2006038538A1 (ja) * 2004-10-01 2006-04-13 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. スパッタリングターゲット用ターゲット材の製造方法
US20060249372A1 (en) * 2005-04-11 2006-11-09 Intematix Corporation Biased target ion bean deposition (BTIBD) for the production of combinatorial materials libraries
US20070289864A1 (en) * 2006-06-15 2007-12-20 Zhifei Ye Large Area Sputtering Target
WO2010106432A2 (en) * 2009-03-20 2010-09-23 Applied Materials, Inc. Deposition apparatus with high temperature rotatable target and method of operating thereof
US20110180394A1 (en) * 2007-08-20 2011-07-28 Tatsunori Isobe Sputtering method and sputtering apparatus
US20160318061A1 (en) * 2015-05-01 2016-11-03 Linco Technology Co., Ltd. Film Deposition System Having a Substrate Carrier and a Cooling Device
KR101728304B1 (ko) * 2016-11-11 2017-04-19 정춘기 가구용 하이그로시 판넬 코팅방법 및 상기 코팅방법을 위한 코팅장치
WO2017195311A1 (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 株式会社広築 円筒形スパッタリングターゲット材の焼成装置及び焼成方法
CN207981539U (zh) * 2018-01-19 2018-10-19 广西晶联光电材料有限责任公司 一种平面靶材背面金属化设备

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1407879A1 (ru) * 1986-07-07 1988-07-07 Проектно-Конструкторский Технологический Институт Всесоюзного Промышленного Объединения Угольной Промышленности Конвейер механизированной переменно-поточной линии
JPH01140360U (zh) * 1988-03-18 1989-09-26
JPH07299403A (ja) * 1994-05-02 1995-11-14 Canon Inc 塗布装置およびこれを用いて製造された画像形成装置
US6209706B1 (en) * 1999-02-26 2001-04-03 G. Robert Tod, Jr. Article grouping and transferring system
JP2005339897A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Toshiba Corp 画像表示装置の製造方法および封着材充填装置
CN1984855A (zh) * 2004-10-01 2007-06-20 三井金属矿业株式会社 溅射靶用靶材的制造方法
WO2006038538A1 (ja) * 2004-10-01 2006-04-13 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. スパッタリングターゲット用ターゲット材の製造方法
US20060249372A1 (en) * 2005-04-11 2006-11-09 Intematix Corporation Biased target ion bean deposition (BTIBD) for the production of combinatorial materials libraries
US20070289864A1 (en) * 2006-06-15 2007-12-20 Zhifei Ye Large Area Sputtering Target
US20110180394A1 (en) * 2007-08-20 2011-07-28 Tatsunori Isobe Sputtering method and sputtering apparatus
WO2010106432A2 (en) * 2009-03-20 2010-09-23 Applied Materials, Inc. Deposition apparatus with high temperature rotatable target and method of operating thereof
US20160318061A1 (en) * 2015-05-01 2016-11-03 Linco Technology Co., Ltd. Film Deposition System Having a Substrate Carrier and a Cooling Device
WO2017195311A1 (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 株式会社広築 円筒形スパッタリングターゲット材の焼成装置及び焼成方法
KR101728304B1 (ko) * 2016-11-11 2017-04-19 정춘기 가구용 하이그로시 판넬 코팅방법 및 상기 코팅방법을 위한 코팅장치
CN207981539U (zh) * 2018-01-19 2018-10-19 广西晶联光电材料有限责任公司 一种平面靶材背面金属化设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN108097530B (zh) 2023-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103805929B (zh) 一种工件涂层的表面处理方法和装置
CN101112791B (zh) 热熔接装置
KR101230893B1 (ko) 다차종 변속기 부품을 위한 레이저 용접 시스템의 공용 클램핑 장치
CN207981539U (zh) 一种平面靶材背面金属化设备
CN104576454B (zh) 一种半导体器件隧道式硬化炉
CN103552107A (zh) 一种触摸屏和液晶显示屏的拆解装置及拆解方法
CN203804971U (zh) 多层上下料联动机械手
CN106019657A (zh) 一种绑定方法及绑定装置
CN108097530A (zh) 一种平面靶材背面金属化设备及方法
CN109226303A (zh) 预制棒加工方法
KR101530786B1 (ko) 코일 누름장치
CN106493575A (zh) 一种套接空心铜管的高频感应激光复合焊接方法及装置
JP2004068123A (ja) 高周波加熱方法および高周波加熱装置
CN110733139A (zh) 一种晶棒切割装置及方法
CN202607460U (zh) 平底钻磨抛一体机
CN102658513A (zh) 平底钻磨抛一体机
CN102409955A (zh) 百叶片自动成型机
CN216632918U (zh) 一种感应加热辅助焊接装置
CN102371411A (zh) 自动焊接设备及其焊接方法
CN210945695U (zh) 金属材料热处理装置
CN111156235B (zh) 超薄光学元件弱变形点胶上盘装置及其方法
CN102554383A (zh) 电流烧结技术实现铜-铜粘接的方法及其装置
CN102319832A (zh) 蒸发器散热片自动上料排片装置的工作方法
CN110181061A (zh) 一种基于电磁感应加热的双金属机筒生产设备及生产方法
CN109175570A (zh) 一种六角柄麻花钻高频钎焊系统及其工作方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant