CN108068024A - 抛光盘 - Google Patents

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CN108068024A
CN108068024A CN201611012719.2A CN201611012719A CN108068024A CN 108068024 A CN108068024 A CN 108068024A CN 201611012719 A CN201611012719 A CN 201611012719A CN 108068024 A CN108068024 A CN 108068024A
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CN201611012719.2A
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林喜锋
聂旭光
付小燕
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Shanghai Domain Photoelectric Technology Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Domain Photoelectric Technology Co Ltd
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D7/00—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
    • B24D7/10—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor with cooling provisions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B29/00—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

本发明公开了一种抛光盘，包括抛光盘主体，所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽，该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置；所述的环形凹槽内设置有穿透抛光盘主体的通孔。本发明的抛光盘有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。

Description

抛光盘
技术领域
本发明涉及平面抛光设备技术领域，特别是一种抛光盘。
背景技术
抛光是基于研磨后的一道更为精细的工序。平面抛光机是一种专门处理工件表面光亮度的设备，在它上面有一个重要的配置----抛光盘。抛光盘的选择是非常重要的，它一定程度上影响着工件表面抛光的具体效果，是抛光程序中不可或缺的重要部分。在抛光的时候，视线要集中在抛光盘的边缘，不要超出边角位，以防止抛穿边角位。
现有的抛光盘，在抛光玻璃时，抛光盘在转动过程中，因长时间转动摩擦所产生的热量无法排出，多的抛光液回流不及时，造成抛光盘热量增加，从而致使光坯脱落，造成不良，同时光盘周边抛光液溅射，影响环境。
发明内容
基于此，针对上述问题，有必要提出一种抛光盘，该抛光盘有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。
本发明的技术方案是：一种抛光盘，包括抛光盘主体，所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽，该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置；所述的环形凹槽内设置有穿透抛光盘主体的通孔。
经过改进后的抛光盘，抛光盘主体上设置环形凹槽后，有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，环形凹槽内设置的通孔同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。
优选地，所述的环形凹槽上均匀设置有至少两个通孔。
多个通孔可以加快抛光液的回流，防止回流速度不够仍然导致抛光液规程外溅。
优选地，所述的抛光盘主体上均匀设置有至少两个环形凹槽，所述的至少两个环形凹槽均以抛光盘主体的中心为圆心设置。
同心设置多个环形凹槽，可以进一步降低在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，另外也可以进一步改善抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。
优选地，所述抛光盘主体上相邻两个环形凹槽间的距离为L，且2cm≦L≦4cm。
同心设置的多个环形凹槽，如果相邻两个环形凹槽间的距离过小，会影响整体结构稳定性，如果过大，那么设置的环形凹槽数量会变少，不利于降低在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，以及改善在抛光过程中抛光液回流及时，减少抛光液外溅现象，改善抛光过程中的环境卫生，结合大量实践得出，2cm≦L≦4cm为最优。
本发明的有益效果是：
1、结构简单，改进成本低，有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量；
2、改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。
附图说明
图1为现有抛光盘的结构示意图；
图2为本发明实施例的结构示意图。
附图标记：10-抛光盘主体，20-环形凹槽，30-通孔。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。
实施例
如图2所示，一种抛光盘，包括抛光盘主体10，所述的抛光盘主体10上设置有环形凹槽20，该环形凹槽20以抛光盘主体10的中心为圆心设置；所述的环形凹槽20内设置有穿透抛光盘主体10的通孔30。
在其中一个实施例中，所述的环形凹槽20上均匀设置有至少两个通孔30。
在其中一个实施例中，所述的抛光盘主体10上均匀设置有至少两个环形凹槽20，所述的至少两个环形凹槽20均以抛光盘主体10的中心为圆心设置。
在其中一个实施例中，所述抛光盘主体10上相邻两个环形凹槽20间的距离为L，且2cm≦L≦4cm。
以上所述实施例仅表达了本发明的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (4)

1.一种抛光盘，其特征在于，包括抛光盘主体，所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽，该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置；所述的环形凹槽内设置有通孔。
2.根据权利要求1所述的抛光盘，其特征在于，所述的环形凹槽上均匀设置有至少两个通孔。
3.根据权利要求2所述的抛光盘，其特征在于，所述的抛光盘主体上均匀设置有至少两个环形凹槽，所述的至少两个环形凹槽均以抛光盘主体的中心为圆心设置。
4.根据权利要求3所述的抛光盘，其特征在于，所述抛光盘主体上相邻两个环形凹槽间的距离为L，且2cm≦L≦4cm。
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