CN108068024A - 抛光盘 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种抛光盘,包括抛光盘主体,所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽,该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置;所述的环形凹槽内设置有穿透抛光盘主体的通孔。本发明的抛光盘有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量,同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时,减少抛光液外溅现象,改善了抛光过程中的环境卫生。
Description
技术领域
本发明涉及平面抛光设备技术领域,特别是一种抛光盘。
背景技术
抛光是基于研磨后的一道更为精细的工序。平面抛光机是一种专门处理工件表面光亮度的设备,在它上面有一个重要的配置----抛光盘。抛光盘的选择是非常重要的,它一定程度上影响着工件表面抛光的具体效果,是抛光程序中不可或缺的重要部分。在抛光的时候,视线要集中在抛光盘的边缘,不要超出边角位,以防止抛穿边角位。
现有的抛光盘,在抛光玻璃时,抛光盘在转动过程中,因长时间转动摩擦所产生的热量无法排出,多的抛光液回流不及时,造成抛光盘热量增加,从而致使光坯脱落,造成不良,同时光盘周边抛光液溅射,影响环境。
发明内容
基于此,针对上述问题,有必要提出一种抛光盘,该抛光盘有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量,同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时,减少抛光液外溅现象,改善了抛光过程中的环境卫生。
本发明的技术方案是:一种抛光盘,包括抛光盘主体,所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽,该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置;所述的环形凹槽内设置有穿透抛光盘主体的通孔。
经过改进后的抛光盘,抛光盘主体上设置环形凹槽后,有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量,环形凹槽内设置的通孔同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时,减少抛光液外溅现象,改善了抛光过程中的环境卫生。
优选地,所述的环形凹槽上均匀设置有至少两个通孔。
多个通孔可以加快抛光液的回流,防止回流速度不够仍然导致抛光液规程外溅。
优选地,所述的抛光盘主体上均匀设置有至少两个环形凹槽,所述的至少两个环形凹槽均以抛光盘主体的中心为圆心设置。
同心设置多个环形凹槽,可以进一步降低在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量,另外也可以进一步改善抛光液在抛光过程中回流及时,减少抛光液外溅现象,改善了抛光过程中的环境卫生。
优选地,所述抛光盘主体上相邻两个环形凹槽间的距离为L,且2cm≦L≦4cm。
同心设置的多个环形凹槽,如果相邻两个环形凹槽间的距离过小,会影响整体结构稳定性,如果过大,那么设置的环形凹槽数量会变少,不利于降低在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量,以及改善在抛光过程中抛光液回流及时,减少抛光液外溅现象,改善抛光过程中的环境卫生,结合大量实践得出,2cm≦L≦4cm为最优。
本发明的有益效果是:
1、结构简单,改进成本低,有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量;
2、改善了抛光液在抛光过程中回流及时,减少抛光液外溅现象,改善了抛光过程中的环境卫生。
附图说明
图1为现有抛光盘的结构示意图;
图2为本发明实施例的结构示意图。
附图标记:10-抛光盘主体,20-环形凹槽,30-通孔。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。
实施例
如图2所示,一种抛光盘,包括抛光盘主体10,所述的抛光盘主体10上设置有环形凹槽20,该环形凹槽20以抛光盘主体10的中心为圆心设置;所述的环形凹槽20内设置有穿透抛光盘主体10的通孔30。
在其中一个实施例中,所述的环形凹槽20上均匀设置有至少两个通孔30。
在其中一个实施例中,所述的抛光盘主体10上均匀设置有至少两个环形凹槽20,所述的至少两个环形凹槽20均以抛光盘主体10的中心为圆心设置。
在其中一个实施例中,所述抛光盘主体10上相邻两个环形凹槽20间的距离为L,且2cm≦L≦4cm。
以上所述实施例仅表达了本发明的具体实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
Claims (4)
1.一种抛光盘,其特征在于,包括抛光盘主体,所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽,该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置;所述的环形凹槽内设置有通孔。
2.根据权利要求1所述的抛光盘,其特征在于,所述的环形凹槽上均匀设置有至少两个通孔。
3.根据权利要求2所述的抛光盘,其特征在于,所述的抛光盘主体上均匀设置有至少两个环形凹槽,所述的至少两个环形凹槽均以抛光盘主体的中心为圆心设置。
4.根据权利要求3所述的抛光盘,其特征在于,所述抛光盘主体上相邻两个环形凹槽间的距离为L,且2cm≦L≦4cm。
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