CN108037852A - 一种触摸屏的生产工艺 - Google Patents

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司荣美
潘中海
刘彩风
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    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
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    • GPHYSICS
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Abstract

本发明是一种触摸屏的生产工艺,包括以下步骤:对触摸屏用基板进行调质处理;调质后,对触摸屏用基板进行紫外线照射;处理后的触摸屏用基板进行清洗,检测合格的触摸屏用基板表面进行印刷金属油墨,并进行烘烤处理;将烘烤后的金属油墨采用激光烧结形成金属网格图案;将触摸屏用基板镀上导电膜层,将柔性线路板的接头与触摸屏用基板压合,在柔性线路板的接头处封胶,脱泡。本发明提供一种触摸屏的生产工艺,采用激光烧结形成金属网格图案,通过控制激光输出功率,激光扫描速度及被刻蚀后形成的图案线条间距范围,提高了工艺图案精度,配合导电膜层,解决了触摸屏用基板因结晶度不够而导致光线透过率低的问题,有效提高了产品质量。

Description

一种触摸屏的生产工艺
技术领域
本发明涉及触摸屏技术领域,尤其涉及一种触摸屏的生产工艺。
背景技术
触摸屏又称为“触控屏”、“触控面板”,是一种可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置,触摸屏作为一种最新的电脑输入设备,它是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式,主要应用于公共信息的查询、领导办公、工业控制、军事指挥、电子游戏、点歌点菜、多媒体教学、房地产预售等。目前在触摸屏制作过程中,存在工艺图案精度较差,触摸屏用基板由于结晶度不够,导致光线透过率低,从而影响产品质量。
发明内容
本发明旨在解决现有技术的不足,而提供一种触摸屏的生产工艺。
本发明为实现上述目的,采用以下技术方案:一种触摸屏的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:
(1)对触摸屏用基板进行调质处理,控制调质温度为100-115℃,调质时间为35-45min;
(2)调质后,利用波长范围为200-245nm的紫外线,对触摸屏用基板进行紫外线照射,控制照射时间为12-15min,并且采用抽风系统将照射区域气体排走;
(3)处理后的触摸屏用基板在超声波清洗线中进行清洗,然后进行功能检测,检测合格的触摸屏用基板表面进行印刷金属油墨,并进行烘烤处理;
(4)将烘烤后的金属油墨采用激光烧结形成金属网格图案,激光输出功率为5-9w,激光扫描速度为800mm/min,被刻蚀后形成的图案线条间距范围为120-500μm;
(5)将触摸屏用基板镀上导电膜层,并在导电膜层上压合柔性线路板,将柔性线路板的接头与触摸屏用基板压合,在柔性线路板的接头处封胶,脱泡。
特别的,所述的步骤(3)中的烘烤温度为220℃。
特别的,所述的步骤(5)中的导电膜层是通过真空镀方式将铟锡氧化物镀在触摸屏用基板上。
特别的,所述的步骤(5)中的导电膜层厚度为0.2μm。
本发明的有益效果是:本发明提供一种触摸屏的生产工艺,采用激光烧结形成金属网格图案,通过控制激光输出功率,激光扫描速度及被刻蚀后形成的图案线条间距范围,提高了工艺图案精度,配合导电膜层,解决了触摸屏用基板因结晶度不够而导致光线透过率低的问题,有效提高了产品质量。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明:
实施例1
一种触摸屏的生产工艺,包括以下步骤:
(1)对触摸屏用基板进行调质处理,控制调质温度为100℃,调质时间为45min;
(2)调质后,利用波长为200nm的紫外线,对触摸屏用基板进行紫外线照射,控制照射时间为15min,并且采用抽风系统将照射区域气体排走;
(3)处理后的触摸屏用基板在超声波清洗线中进行清洗,然后进行功能检测,检测合格的触摸屏用基板表面进行印刷金属油墨,并进行烘烤处理,烘烤温度为220℃;
(4)将烘烤后的金属油墨采用激光烧结形成金属网格图案,激光输出功率为5w,激光扫描速度为800mm/min,被刻蚀后形成的图案线条间距为500μm;
(5)将触摸屏用基板镀上导电膜层,导电膜层是通过真空镀方式将铟锡氧化物镀在触摸屏用基板上,导电膜层厚度为0.2μm,并在导电膜层上压合柔性线路板,将柔性线路板的接头与触摸屏用基板压合,在柔性线路板的接头处封胶,脱泡。
实施例2
一种触摸屏的生产工艺,包括以下步骤:
(1)对触摸屏用基板进行调质处理,控制调质温度为115℃,调质时间为35min;
(2)调质后,利用波长为245nm的紫外线,对触摸屏用基板进行紫外线照射,控制照射时间为12min,并且采用抽风系统将照射区域气体排走;
(3)处理后的触摸屏用基板在超声波清洗线中进行清洗,然后进行功能检测,检测合格的触摸屏用基板表面进行印刷金属油墨,并进行烘烤处理,烘烤温度为220℃;
(4)将烘烤后的金属油墨采用激光烧结形成金属网格图案,激光输出功率为9w,激光扫描速度为800mm/min,被刻蚀后形成的图案线条间距范围为120μm;
(5)将触摸屏用基板镀上导电膜层,导电膜层是通过真空镀方式将铟锡氧化物镀在触摸屏用基板上,导电膜层厚度为0.2μm,并在导电膜层上压合柔性线路板,将柔性线路板的接头与触摸屏用基板压合,在柔性线路板的接头处封胶,脱泡。
上面对本发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种改进,或未经改进直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种触摸屏的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:
(1)对触摸屏用基板进行调质处理,控制调质温度为100-115℃,调质时间为35-45min;
(2)调质后,利用波长范围为200-245nm的紫外线,对触摸屏用基板进行紫外线照射,控制照射时间为12-15min,并且采用抽风系统将照射区域气体排走;
(3)处理后的触摸屏用基板在超声波清洗线中进行清洗,然后进行功能检测,检测合格的触摸屏用基板表面进行印刷金属油墨,并进行烘烤处理;
(4)将烘烤后的金属油墨采用激光烧结形成金属网格图案,激光输出功率为5-9w,激光扫描速度为800mm/min,被刻蚀后形成的图案线条间距范围为120-500μm;
(5)将触摸屏用基板镀上导电膜层,并在导电膜层上压合柔性线路板,将柔性线路板的接头与触摸屏用基板压合,在柔性线路板的接头处封胶,脱泡。
2.根据权利要求1所述的一种触摸屏的生产工艺,其特征在于,所述的步骤(3)中的烘烤温度为220℃。
3.根据权利要求1所述的一种触摸屏的生产工艺,其特征在于,所述的步骤(5)中的导电膜层是通过真空镀方式将铟锡氧化物镀在触摸屏用基板上。
4.根据权利要求1所述的一种触摸屏的生产工艺,其特征在于,所述的步骤(5)中的导电膜层厚度为0.2μm。
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