CN108014648A - 一种制备双层钯复合膜的方法 - Google Patents

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Abstract

一种制备多层钯复合膜的方法,该多层钯复合膜材料具备良好的透氢性能及稳定性,能用于氢气的分离、纯化及生产。与传统的钯复合膜相比,该材料包括两层连续金属钯膜,两层金属膜之间填充多孔材料(如分子筛,氧化铝),能起到抑制杂质气体渗透的作用从而保证使用过程中的高选择性及稳定性。

Description

一种制备双层钯复合膜的方法
技术领域
本发明涉及一种制备多层钯复合膜的方法,多层钯复合膜具备良好的透氢性能和稳定性,能用于氢气的分离、纯化和生产。
背景技术
随着人类对能源需求量的日益增加,环境污染和温室气体效应给全球带来前所未有的压力和挑战,开发高效、绿色的能源转化技术已经成为各个国家能源战略的目标。氢气作为一种高效清洁的二次能源载体可以促进化石资源向洁净能源转化,它具有能量密度高(142MJ/kg)、来源丰富(例如水,生物质等)、质量小以及环境友好(水是唯一的燃烧产物)等优点。目前,氢气的生产主要有以下几种方式:电解水制氢、甲烷水蒸气重整制氢、煤气化制氢及石油天然气部分氧化制氢,同时每年氢气的总生产量也在快速地增加。另外,半导体、LED、光伏发电、以及燃料电池等新兴战略的迅猛发展,促进了对高纯氢气的强烈需求。
钯膜技术被视为是最有潜力实现高纯氢气生产的技术。钯膜具有独特的氢气溶解能力并且通过溶解-扩散机理透过氢气,从而实现理论上无限大的氢气选择性和高氢气透量。与常规氢气分离技术如变压吸附法,深冷法等相比,钯膜分离技术具有占地少、投资少、能耗低以及操作方便等优点。同时,钯及钯复合膜由于其高透氢性能、良好的热稳定性及机械稳定性,广泛应用于氢气分离纯化过程。经过钯膜分离后的氢气纯度可达99.9995%,可直接供给燃料电池使用。早期使用机械滚轧法制备纯金属钯管用于氢气分离,其金属厚度达到几百微米,造成氢气透量较低,同时昂贵的材料成本限制了钯管的商业应用。将钯沉积到多孔载体上,如多孔陶瓷、多孔不锈钢和多孔玻璃等,可以制备负载型钯复合膜,钯膜的厚度能降低到只有几个到十几微米,不仅大大降低了材料成本,而且能明显提高氢气的透量。目前,钯复合膜的稳定性是影响其商业应用的最主要障碍。比如在高温以及反复的氢气吸附/脱附条件下,钯膜上容易出现针眼或裂缝,其中主要原因之一是金属钯膜与载体的膨胀系数不一致而在界面上产生横向以及纵向的剪切应力。为此,本发明公开一种提高钯复合膜稳定性并延长钯复合膜使用寿命的方法,其最大的特点是采用双层金属钯膜结构设计,而且两层膜之间使用多孔材料进行填充,如分子筛或陶瓷颗粒等,能明显抑制杂质气体如氮气等的渗透,从而保证钯复合膜的透氢选择性和使用寿命。
发明内容
本发明的目的在于提供一种制备多层钯复合膜的方法,从而得到高稳定性的钯复合膜材料,保证氢气分离、纯化及生产中的使用寿命。
本发明采用的具体技术方案为:
(1)采用化学镀工艺在多孔不锈钢或陶瓷载体上制备一层致密钯膜或钯合金膜,形成钯复合膜;
(2)采用水热合成或浸渍提拉工艺在上述钯复合膜表面制备一层多孔材料;
(3)采用化学镀工艺在上述材料表面再制备一层致密钯膜或钯合金膜。
所用的多孔材料孔径大小在1-50nm之间,多孔膜材料可以是分子筛、Al2O3、CeO2、TiO2、ZrO2、SiO2中的一种或几种。
所述多孔材料是采用水热合成制备分子筛层或“改进的”溶胶凝胶法制备Al2O3、CeO2、TiO2、ZrO2、SiO2中的一种或二种以上材料层,其厚度是0.5~10μm。
所述沉积采用化学镀方法,钯试剂可以是PdSO4,PdCl2,Pd(NO3)2或醋酸钯等中的一种或二种以上,钯试剂的浓度是0.1mol/L~10mol/L。
所述沉积采用化学镀方法,还原剂可以是肼、SnCl2等中的一种或二种以上,还原剂的浓度是0.1mol/L~10mol/L。
所述沉积采用化学镀,温度在308-333K之间,每次反应时间为1-3h,重复次数为2-10次。
两层金属钯膜的厚度均为0.5~20μm。
有益效果:
本专利提供了一种制备多层钯复合膜的方法。该材料能借助于双层金属钯膜设计以及金属钯膜之间的多孔材料抑制杂质气体的扩散,从而保证钯复合膜的稳定性和使用寿命。
附图说明
图1:多层钯复合膜材料的稳定性试验数据图,温度循环:573-673K,氢气和氮气渗透数据测量条件:T=573K,Pfeed/Pperm=2/1bar,以及T=673K,Pfeed/Pperm=2/1bar(实施例二)。
具体实施方式
实施例1
所用多孔陶瓷支撑体管长50mm,管径规格为14mm×12mm,孔径为0.1μm。
(1)单层钯复合膜的制备
包括a.陶瓷载体的预处理,b.陶瓷载体表面活化敏化,c.化学镀和d.后处理四个步骤。
a.陶瓷载体的预处理:将陶瓷底膜在稀盐酸2-8wt%(此处为6wt%)浸泡0.5小时,抽真空条件下用去离子水清洗;无水乙醇浸泡0.5小时,抽真空条件下用去离子水清洗;稀氢氧化钾3-7wt%(此处为5wt%)溶液浸泡0.5小时,抽真空条件下用去离子水清洗至洗涤残液为中性,然后干燥。
b.载体表面活化敏化:将预处理后的底膜用去离子水浸湿,分别在SnCl2溶液(6g/L)中敏化20分钟并用去离子水冲洗,在PdCl2溶液(0.4g/L)中活化20分钟并用去离子水冲洗,重复敏化-活化5次后,抽真空条件下用去离子水清洗。
c.化学镀:陶瓷载体外表面经活化敏化后,放置于镀液中进行化学镀,直至达到所需的膜厚3μm。化学镀液组成为:[Pd(NH3)2]Cl2(1-8g/L)(此处为8g/L),EDTA·2Na(20-90g/L)(此处为90g/L),NH2-NH2·H2O(0.2-1g/L)(此处为1g/L),NH3·H2O(28wt%)(100-500ml/L)(此处为500ml/L),PH=9-11(此处为11),化学镀温度为298-328K(此处为328K)。
d.后处理:将化学镀后的钯复合膜在氮气或氦气气氛下从室温按1-5K/min(此处为5K/min)的升温程序升温到753K,在0.1MPa压力下,进行氮气和氢气渗透性的测定。
(2)多孔层的制备
a.修饰液配制:
钯复合膜表面陶瓷多孔层采用“改进的”溶胶凝胶法进行制备,过程如下:将2gPVA和2g PEG(分别作为粘结剂和分散剂)放入194ml去离子水中,在355K冷凝回流2h,待其完全溶解后加入拟薄水铝石7.6g,在355K冷凝回流6h,加入粒径为0.5μm的γ-Al2O3颗粒6.25g,用0.16mol/L的硝酸调节酸性PH=4,超声15min,取出保持搅拌状态。
b.涂覆过程:
将上述步骤(1)制备好的单层钯复合膜表面用无水乙醇和去离子水洗净,并在393K下烘干。将钯复合膜两端用聚四氟乙烯密封,放入保持搅拌状态的修饰液中,从而对钯复合膜外表面进行涂覆。重复上述涂覆过程,取出后在干燥器中常温条件下晾干,直至达到所需的厚度2μm。
c.煅烧过程:
将涂覆好的复合膜管取出放入马弗炉中进行煅烧。保持升温速率为0.5K/min,在373K停留1h以蒸发停留在载体孔道中的水;在423K停留3h以除去修饰层的水分,然后再自然降温至室温。
(3)双层钯复合膜的制备及性能测试
照步骤(1)中b,c,d进行第二层Pd膜(3μm)的沉积。在573K和673K之间进行循环稳定性测试,期间反复测量氢气和氮气渗透量,测试条件为T=573K,Pfeed/Pperm=2/1bar,以及T=673K,Pfeed/Pperm=2/1bar。
实施例2
所用多孔陶瓷支撑体管长50mm,管径规格为14mm×12mm,孔径为0.1μm。
(1)单层钯复合膜的制备
包括a.陶瓷载体的预处理,b.陶瓷载体表面活化敏化,c.化学镀和d.后处理四个步骤。
a.陶瓷载体的预处理:将陶瓷底膜在稀盐酸2-8wt%(此处为8wt%)浸泡20分钟,抽真空条件下用去离子水清洗;无水乙醇浸泡40分钟,抽真空条件下用去离子水清洗;稀氢氧化钾3-7wt%(此处为7wt%)溶液浸泡20分钟,抽真空条件下用去离子水清洗至洗涤残液为中性,然后干燥。
b.载体表面活化敏化:将预处理后的底膜用去离子水浸湿,分别在SnCl2溶液(6g/L)中敏化并用去离子水冲洗,在PdCl2溶液(0.4g/L)中活化并用去离子水冲洗,重复敏化-活化5次后,抽真空条件下用去离子水清洗。
c.化学镀:陶瓷载体外表面经活化敏化后,放置于镀液中进行化学镀,直至达到所需的膜厚(4μm)。化学镀液组成为:[Pd(NH3)2]Cl2(1-8g/L)(此处为4g/L),EDTA·2Na(20-90g/L)(此处为60g/L),NH2-NH2·H2O(0.2-1g/L)(此处为0.8g/L),NH3·H2O(28wt%)(100-500ml/L)(此处为300ml/L),PH=9-11(此处为10),化学镀温度为298-328K(此处为318K)。
d.后处理:将化学镀后的钯复合膜在氮气或氦气气氛下从室温按1-5K/min(此处为3K/min)的升温程序升温到753K,在0.1MPa压力下,进行氮气和氢气渗透性的测定。
(2)多孔层的制备
a.修饰液配制:
钯复合膜表面陶瓷多孔层采用“改进的”溶胶凝胶法进行制备,过程如下:将2gPVA和2g PEG(分别作为粘结剂和分散剂)放入194ml去离子水中,在355K冷凝回流2h,待其完全溶解后加入拟薄水铝石7.6g(用于生成氢氧化铝溶胶凝胶),在355K冷凝回流6h,加入粒径为20nm TiO2颗粒10g,用0.16mol/L的硝酸调节酸性PH=4,超声15min,取出保持搅拌状态。
b.涂覆过程:
将上述步骤(1)制备好的单层钯复合膜表面用无水乙醇和去离子水洗净,并在393K下烘干。将钯复合膜两端用聚四氟乙烯密封,放入保持搅拌状态的修饰液中,从而对钯复合膜外表面进行涂覆。重复上述涂覆过程,取出后在干燥器中常温条件下晾干。
c.煅烧过程:
将涂覆好的复合膜管取出放入马弗炉中进行煅烧。保持升温速率为0.5K/min,在373K停留1h以蒸发停留在载体孔道中的水;在423K停留3h以除去修饰层的水分,然后再自然降温至室温。多孔层涂覆厚度为1μm。
(3)双层钯复合膜的制备及性能测试
照步骤(1)中b,c,d进行第二层Pd膜的沉积(4μm)。在573K和673K之间进行循环稳定性测试,期间反复测量氢气和氮气渗透量,测试条件为T=573K,Pfeed/Pperm=2/1bar,以及T=673K,Pfeed/Pperm=2/1bar。
实施例3
所用多孔陶瓷支撑体管长50mm,管径规格为14mm×12mm,孔径为0.1μm。
(1)单层钯铜复合膜的制备
包括a.陶瓷载体的预处理,b.陶瓷载体表面活化敏化,c.化学镀和d.后处理四个步骤。
a.陶瓷载体的预处理:将陶瓷底膜在稀盐酸2-8wt%(此处为2wt%)浸泡40分钟,抽真空条件下用去离子水清洗;无水乙醇浸泡40分钟,抽真空条件下用去离子水清洗;稀氢氧化钾3-7wt%(此处为3wt%)溶液浸泡40分钟,抽真空条件下用去离子水清洗至洗涤残液为中性,然后干燥。
b.载体表面活化敏化:将预处理后的底膜用去离子水浸湿,分别在SnCl2溶液(6g/L)中敏化并用去离子水冲洗,在PdCl2溶液(0.4g/L)中活化并用去离子水冲洗,重复敏化-活化5次后,抽真空条件下用去离子水清洗。
c.化学镀制备PdCu合金膜:配制钯化学镀液(0.1mol/L),其组成为,[Pd(NH3)2]Cl2(1-8g/L)(此处为4g/L),EDTA·2Na(20-90g/L)(此处为60g/L),NH2-NH2·H2O(0.2-1g/L)(此处为0.8g/L),NH3·H2O(28wt%)(100-500ml/L)(此处为300ml/L),PH=9-11(此处为10),化学镀温度为298-328K(此处为318K)。在水浴锅中将化学镀液加热到321K并保持恒温,将载体两端用聚四氟乙烯进行密封后放入化学镀液中进行化学镀,保持一定的化学镀时间(30min)。后配置铜化学镀液(0.15mol/L),其组成为Cu(NO3)2(5-15g/L)(此处为9.6g/L),Na2EDTA(20-30g/L)(此处为29.8g/L),NaOH(5-20g/L)(此处为11g/L),α-α联吡啶(10-30mg/L)(此处为20mg/L),K4[Fe(CN)6]·3H2O(25-75mg/L)(此处为50mg/L),HCHO(100-150mL/L)(此处为125mL/L),PH=11-13(此处为12.5)。在水浴锅中将化学镀液加热到328K并保持恒温,将载体两端用聚四氟乙烯进行密封后放入化学镀液中进行化学镀,保持一定的化学镀时间(60min)。在取出后在去离子水中进行清洗,并在423K下进行烘干。钯铜膜的厚度为4μm。
d.后处理:将钯铜复合膜在氮气气氛下从室温按1-5K/min(此处为2K/min)的升温程序升温到773K,在0.1MPa和氢气气氛下煅烧48h,后在氮气气氛下降到室温。
(2)多孔层的制备
a.NaA分子筛制膜液的制备
①号溶液是取硅酸钠(5.47g)与去离子水(40g)混合为硅酸钠溶液;②号溶液是取偏铝酸钠(1.58g)与去离子水(40g)混合为偏铝酸钠溶液,将①号硅酸钠溶液倒入②号偏铝酸钠溶液中,室温下磁子搅拌10h。
b.涂覆过程:
水热合成:将制好的制膜液倒入反应合成釜中,并将上述步骤(1)制备好的单层钯复合膜装入反应釜中,反应釜在均相反应器中以6转/分钟的速度旋转,同时升温至363K,继续旋转水热合成1-6小时(此处为6小时),合成结束后自然降温,取出后用去离子水清洗至中性,置于烘箱,423K干燥4小时,取出备用。多孔层厚度为2μm。
(3)双层钯复合膜的制备及性能测试
照步骤(1)中b,c,d,e进行第二层PdCu合金膜的沉积(厚度为4μm)。在573K和673K之间进行循环稳定性测试,期间反复测量氢气和氮气渗透量,测试条件为T=573K,Pfeed/Pperm=2/1bar,以及T=673K,Pfeed/Pperm=2/1bar。
与传统的钯复合膜相比,该材料包括两层连续金属钯膜,两层金属膜之间填充多孔材料(如分子筛,氧化铝),能起到抑制杂质气体渗透的作用从而保证使用过程中的高选择性及稳定性。

Claims (7)

1.一种制备双层钯复合膜的方法,其特征在于:在钯复合膜表面涂覆或沉积一层厚度为1-10μm的多孔材料后再沉积一层金属钯膜,从而得到高稳定性的双层钯复合膜材料。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所用的多孔材料孔径大小在1-50nm之间,多孔膜材料可以是分子筛、Al2O3、CeO2、TiO2、ZrO2、SiO2中的一种或几种。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述多孔材料是采用水热合成制备分子筛层或“改进的”溶胶凝胶法制备Al2O3、CeO2、TiO2、ZrO2、SiO2中的一种或二种以上材料层,其厚度是0.5~10μm。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述沉积采用化学镀方法,钯试剂可以是PdSO4,PdCl2,Pd(NO3)2或醋酸钯等中的一种或二种以上,钯试剂的浓度是0.1mol/L~10mol/L。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述沉积采用化学镀方法,还原剂可以是肼、SnCl2等中的一种或二种以上,还原剂的浓度是0.1mol/L~10mol/L。
6.如权利要求1、4或5所述的方法,其特征在于:所述沉积采用化学镀,温度在308-333K之间,每次反应时间为1-3h,重复次数为2-10次。
7.如权利要求1、4、5或6所述的方法,其特征在于:两层金属钯膜的厚度均为0.5~20μm。
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