CN107937915B - 一种基于激光直写技术的微液滴操控方法 - Google Patents

一种基于激光直写技术的微液滴操控方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开一种基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，包括步骤：将沉积在基底上的Ti薄膜与NaOH水溶液反应生成具有多孔粗糙结构的Ti薄膜，然后在Ti薄膜上修饰一层氟硅烷，得到超疏水薄膜，最后采用激光直写技术在超疏水薄膜表面制作各种形状的图案，通过所述图案对超疏水薄膜上的微液滴进行操控。激光的高温作用使得图案部位超疏水多孔表面融化，改变其粗糙度，从而使得图案部位与超疏水薄膜未进行激光加工部位形成润湿性反差，因此可通过设计不同的图案对微液滴进行形状控制、定向驱动以及收集等操作；进一步地，本发明采用的激光直写技术加工分辨率高，灵活性强，可实现对纳升量级别的微液滴进行操控。

Description

一种基于激光直写技术的微液滴操控方法
技术领域
本发明涉及液滴操控领域，尤其涉及一种基于激光直写技术的微液滴操控方法。
背景技术
随着表面科学与工程技术的快速发展，微液滴操控领域已经引起了人们的重视。微液滴操控技术在微流体、液体输送、传感器等领域具有广泛的应用。目前，加工具有润湿性对比度的图案化表面已经被视为对昂贵的生物流体或液滴进行快速、精确、复杂、可靠的操作的有效途经。
然而，现有技术针对微升或纳升液滴的操控在灵活性、液滴尺寸、成本方面都存在很大的挑战。例如，常规UV光刻技术需要复杂的设备并且具有相对较低的分辨率、灵活性较差，而且所需的图案掩模成本相对较高，而喷墨打印制作亲疏水图案技术的加工分辨率较低，为微米级别。
针对目前的应用领域，如何有效实现灵活控制微液滴形状、微液滴定向驱动以及微液滴收集是非常必要的。
因此，现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种基于激光直写技术的微液滴操控方法，旨在解决现有微液滴操控方法分辨率较低以及灵活性较差的难题。
本发明的技术方案如下：
一种基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，包括步骤：
A、在清洗干净的基底上沉积一层Ti薄膜，并将所述Ti薄膜放置在NaOH水溶液中反应15-50min，得到具有多孔粗糙结构的Ti薄膜；
B、在所述具有多孔粗糙结构的Ti薄膜上修饰一层氟硅烷，得到超疏水薄膜；
C、采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作相应的图案，通过所述图案对超疏水薄膜上的微液滴进行操控。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述步骤C具体包括：
采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作各向异性的图案，通过各向异性图案化表面的定向驱动力对超疏水薄膜上的微液滴进行驱动。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述步骤C具体还包括：
采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作各种不同形状的图案，使超疏水薄膜上的微液滴按照预先制作的图案形状铺展。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述图案的形状包括圆形、椭圆形、梯形、五边形、六边形、矩形、三角形、缺失拐角和斑块。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述Ti薄膜的厚度为20-200nm。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述NaOH水溶液的浓度范围为4-10M。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述水热反应温度为50-100℃。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述基底为载玻片、硅片或玻璃片中的一种。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，所述激光的加工分辨率为100-500nm。
所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其中，采用磁控溅射法，离子溅射法、电子束蒸发法、热蒸镀法或激光脉冲法中的一种在基底上沉积一层Ti薄膜。
有益效果：本发明首先将沉积在基底上的Ti薄膜与NaOH水溶液反应生成具有多孔粗糙结构的Ti薄膜，然后在所述Ti薄膜上修饰一层氟硅烷，得到超疏水薄膜，最后采用激光直写技术在所述超疏水薄膜表面加工各种形状的图案，通过所述图案对滴加在超疏水薄膜上的微液滴进行操控。激光的高温作用使得图案部位超疏水多孔表面融化，改变其粗糙度，从而使得图案部位与超疏水薄膜未进行激光加工部位形成润湿性反差，因此可通过设计不同的图案对微液滴进行形状控制、定向驱动以及收集等操作；进一步地，本发明采用的激光直写技术加工分辨率高，灵活性强，可对纳升量级别的微液滴进行操控，且本发明方法简单可控、生产成本低，可实现大规模生产。
附图说明
图1为本发明一种基于激光直写技术的微液滴操控方法较佳实施例的流程图；
图2-图4为本发明实施例1中不同激光直写图案化表面对微液滴的定向驱动示意图；
图5为本发明实施例2中激光直写图案化表面对微液滴的形状进行控制的示意图，其中，a为圆形、b为椭圆形、c为梯形、d为五边形、e为六边形、f为矩形、g为三角形、h为缺失拐角、i为斑块、j为五边形液滴阵列、k为椭圆形液滴阵列图案。
具体实施方式
本发明提供了一种基于激光直写技术的微液滴操控方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
请参阅图1，图1为本发明一种基于激光直写技术的微液滴操控方法实施例的流程图，如图所示，其中包括步骤：
S10、在清洗干净的基底上沉积一层Ti薄膜，并将所述Ti薄膜放置在NaOH水溶液中反应15-50min，得到具有多孔粗糙结构的Ti薄膜；
S20、在所述具有多孔粗糙结构的Ti薄膜上修饰一层氟硅烷，得到超疏水薄膜；
S30、采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作相应的图案，通过所述图案对超疏水薄膜上的微液滴进行操控。
在本实施方式中，首先选择一种在NaOH水溶液中短时间内不会被腐蚀掉的基片，例如，载玻片、硅片或玻璃片等；然后采用物理气相沉积工艺在清洗干净的基底上沉积一层Ti薄膜，优选地，所述物理气相沉积工艺包括磁控溅射法、离子溅射法、电子束蒸发法、热蒸镀法或激光脉冲法，但不限于此。
具体地，在所述步骤S10中，将所述Ti薄膜放置在浓度为4-10M的NaOH水溶液中进行水热反应，即可获得具有多孔粗糙结构的Ti薄膜。
优选地，当所述Ti薄膜的厚度为20-200nm时，在温度为50-100℃的条件下反应15-50min，可制得具有多孔粗糙结构的Ti薄膜。Ti薄膜在NaOH水溶液中会同时发生氧化和腐蚀反应，温度越高，其反应速度越快。因此，当温度高于100℃或/和反应时间高于50min时，则可能导致Ti薄膜完全被腐蚀掉；而当温度低于50℃或/和反应时间低于15min时，则可能导致反应不充分，得不到具有多孔粗糙结构的Ti薄膜。
进一步地，所述Ti薄膜在与NaOH水溶液反应时，除了把Ti薄膜表面腐蚀成多孔状粗糙表面，还在其多孔状粗糙表面引入了大量的羟基基团。
在所述步骤S20中，在120℃下通过化学气相沉积的方法在所述具有多孔粗糙结构的Ti薄膜上修饰一层氟硅烷，所述氟硅烷能够与Ti薄膜表面上的羟基基团发生有效偶联，从而对多孔粗糙的Ti薄膜表面进行改性，得到超疏水薄膜。
更进一步地，在所述步骤30中，采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作相应的图案，通过所述图案对滴加在超疏水薄膜上的微液滴进行操控。具体来说，任何带有粗糙表面的超疏水薄膜都可以通过激光的熔融效应改变粗糙度，从而改变润湿性。
为了提升微液滴操控的灵活性，本发明优选加工分辨率为100-500nm的激光设备，在该尺寸下刻写的图案，能够实现对纳升量级的微液滴进行操作。
较佳地，针对不同厚度的薄膜，需要选取合适的激光刻写功率，例如，针对厚度为100nm的薄膜采用的激光能量密度范围为40-100 J/cm2，在该能量密度范围内能够把薄膜表面的多孔粗糙结构熔融成相对平整的表面，随着粗糙度的降低，表面润湿性增强，从而实现激光调控薄膜表面润湿性，进而实现对微液滴的操控。
下面通过具体实施例对本发明基于激光直写技术的微液滴操控方法做进一步的解释说明：
实施例1
通过激光直写技术设计各向异性的图案对微液滴进行定向驱动：
１、采用磁控溅射在清洗干净的基底上沉积100 nm厚的Ti薄膜，随后将Ti薄膜在60℃的10 M的氢氧化钠溶液中水热反应30分钟，获得具有多孔粗糙结构的Ti薄膜； 120℃条件下在具有多孔粗糙结构的Ti薄膜表面通过化学气相沉积修饰一层氟硅烷，时长为4个小时，获得超疏水薄膜；
２、采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上逐点直写各向异性的图案，在激光烧结过程中，超疏水表面的粗糙度被降低，从而改变加工部分的润湿性；
３、在所述设置有图案的薄膜上喷水雾，由于微液滴在各向异性图案化的表面受到表面能梯度和拉普拉斯压强的共同影响，会对微液滴存在定向驱动的力，因此，所述水雾会在各向异性图案表面驱动力的作用下发生定向移动。
图2—图4为根据实施例1的激光直写图案化表面对微液滴的定向驱动图，如图所示，从左至右，随着时间延长，液滴逐渐被驱动到特定的图案位置。
实施例2
通过激光直写技术在超疏水基底上加工不同形状的润湿性图案对微液滴进行定向驱动
1、采用磁控溅射在清洗干净的基底上沉积100 nm厚的Ti薄膜，随后将Ti薄膜在60℃的10 M的氢氧化钠溶液中水热反应30分钟，获得具有多孔粗糙结构的Ti薄膜； 120℃条件下在具有多孔粗糙结构的Ti薄膜表面通过化学气相沉积修饰一层氟硅烷，时长为4个小时，获得超疏水薄膜；
2、采用激光直写技术在所述超疏水薄膜表面分别设计a圆形、b椭圆形、c梯形、d五边形、e六边形、f矩形、g三角形、h缺失拐角、i斑块、j五边形液滴阵列以及k椭圆形液滴阵列图案，在激光烧结过程中，可以改变加工部分（即图案部分）的润湿性，激光加工过的区域和未加工过的区域表面能存在明显润湿性差异；
3、当微液滴被滴到加工的图案上，由于不能突破激光设计图案的表面能能量势垒，不能形成自然的圆形，于是按照预先设计的图案的形状进行铺展，成为预先设计的各种形状。
图5为根据实施例2的激光直写图案化表面对微液滴的形状进行控制的图片，从图5可以看出微液滴基于设计的各种形状的基底图案形成了各种各样的形状和液滴阵列。
综上所述，本发明首先将沉积在基底上的Ti薄膜与NaOH水溶液反应生成具有多孔粗糙结构的薄膜，然后在所述粗糙薄膜上修饰一层氟硅烷，得到超疏水薄膜，最后采用激光直写技术在所述超疏水薄膜表面制作各种形状的图案，通过所述加工图案对滴加在超疏水薄膜上的微液滴进行操控。激光的高温作用使得图案部位超疏水多孔表面融化，改变其粗糙度，从而使得图案部位与超疏水薄膜未进行激光加工部位形成润湿性反差，因此可通过设计不同的图案对微液滴进行形状控制、定向驱动以及收集等操作；进一步地，本发明采用的激光直写技术加工分辨率高，灵活性强，可对纳升量级别的微液滴进行操控，且本发明方法简单可控、生产成本低，可实现大规模生产。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，包括步骤：
A、在清洗干净的基底上沉积一层Ti薄膜，并将所述Ti薄膜放置在NaOH水溶液中反应15-50min，得到具有多孔粗糙结构的Ti薄膜；
B、在所述具有多孔粗糙结构的Ti薄膜上修饰一层氟硅烷，得到超疏水薄膜；
C、采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作相应的图案，通过所述图案对超疏水薄膜上的微液滴进行操控。
2.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述步骤C具体包括：
采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作各向异性的图案，通过各向异性图案化表面的定向驱动力对超疏水薄膜上的微液滴进行驱动。
3.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述步骤C具体还包括：
采用激光直写技术在所述超疏水薄膜上制作各种不同形状的图案，使超疏水薄膜上的微液滴按照预先制作的图案铺展。
4.根据权利要求3所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述图案的形状包括圆形、椭圆形、梯形、五边形、六边形、矩形、三角形和斑块。
5.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述Ti薄膜的厚度为20-200nm。
6.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述NaOH水溶液的浓度范围为4-10M。
7.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述将Ti薄膜放置在NaOH水溶液中反应的温度为50-100℃。
8.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述基底为硅片或玻璃片中的一种。
9.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，所述激光的加工分辨率为100-500nm。
10.根据权利要求1所述的基于激光直写技术的微液滴操控方法，其特征在于，采用磁控溅射法、离子溅射法、电子束蒸发法、热蒸镀法或激光脉冲法中的一种在基底上沉积一层Ti薄膜。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108816702B (zh) 2018-06-28 2020-03-31 清华大学 一种具有超疏-超亲水结构的自驱动集水表面及制备方法
CN109765235A (zh) * 2019-03-08 2019-05-17 深圳大学 一种二维纳米材料各向异性的快速检测方法
CN111106027A (zh) * 2019-12-23 2020-05-05 武汉大学 一种soi顶层硅片的测量修饰系统
CN111606298B (zh) * 2020-04-30 2021-02-26 深圳技术大学 一种定向无源自驱动薄膜及其制备方法
CN111606299B (zh) * 2020-05-21 2021-01-26 深圳技术大学 一种用于控制液滴形状的薄膜及其制备方法与应用
CN111604018B (zh) * 2020-06-04 2021-01-12 深圳技术大学 一种引发液滴定向自弹跳的薄膜及其制备方法与应用
CN113084353B (zh) * 2021-02-20 2022-04-22 清华大学 基于配体化学的纳米晶体激光热致图案化方法和图案化纳米晶体膜
CN113059269B (zh) * 2021-04-19 2023-08-04 北京工业大学 基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法
CN114713479A (zh) * 2022-04-14 2022-07-08 扬州大学 一种通过激光固化提高液料喷涂EP+PDMS/SiO2超疏水涂层耐久性能的方法
CN115106542B (zh) * 2022-08-29 2022-11-11 芯体素(杭州)科技发展有限公司 一种高效精密电子直写三维打印路径规划方法
CN116984747B (zh) * 2023-09-19 2023-11-24 讯创(天津)电子有限公司 基于lmc工艺使用激光束刻蚀射频区域的方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101033561A (zh) * 2007-03-29 2007-09-12 上海交通大学 异形喷丝头制造方法
JP2009109570A (ja) * 2007-10-26 2009-05-21 Kyocera Mita Corp 電子写真用現像剤
CN101696916A (zh) * 2009-10-29 2010-04-21 浙江大学 基于芯片一体化取样探针的液滴分析筛选装置
CN106707715A (zh) * 2017-01-11 2017-05-24 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种半导体器件及其制作方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101033561A (zh) * 2007-03-29 2007-09-12 上海交通大学 异形喷丝头制造方法
JP2009109570A (ja) * 2007-10-26 2009-05-21 Kyocera Mita Corp 電子写真用現像剤
CN101696916A (zh) * 2009-10-29 2010-04-21 浙江大学 基于芯片一体化取样探针的液滴分析筛选装置
CN106707715A (zh) * 2017-01-11 2017-05-24 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种半导体器件及其制作方法

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