CN107887427A - 一种带有可调型场板的高压二极管 - Google Patents

一种带有可调型场板的高压二极管 Download PDF

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Abstract

本发明提出了一种带有可调型场板的高压二极管,包括阴极金属,阳极金属,场氧化层和位于场氧化层下方的漂移区,在所述场氧化层的表面设置若干可调型场板,相邻两个可调型场板之间间隔设定距离;每一个可调型场板均连接调节电容;通过调节可调型场板和调节电容的正负电极的尺寸,能够调节可调型场板上的感应电位和感应电荷量,使得漂移区内获得均匀的表面电场分布。该结构器件可以改善器件漂移区表面电场分布,具有很高的耐压能力、很小的正向压降和很小的反向恢复时间。

Description

一种带有可调型场板的高压二极管
技术领域
本发明涉及功率半导体器件领域,更具体的说,是涉及一种适用于高压应用的带有可调型场板的高压二极管。
背景技术
高压二极管具有耐压高、电流能力强、可集成等优点,并且更易与CMOS工艺兼容,因此在智能功率集成电路中得到广泛的应用。目前高压二极管设计的重点是如何合理缓和击穿电压与正向压降以及反向恢复时间之间的矛盾,并且保证其有较高的稳定性。当前人们对高压二极管研究的焦点主要集中在其漂移区浓度的设计,通过埋层技术减小器件表面电场强度(Reducd Sfurace Field,简称RESURF),以及电阻场极板、Super Junction、漂移区渐变掺杂等技术来实现击穿电压与正向压降以及反向恢复时间的折中。
高压二极管器件在芯片中发挥更好的作用,改善器件的击穿电压和正向压降以及反向恢复时间关系是高压二极管设计的一个重要研究课题。场板技术可以改善高压二极管器件的击穿电压和正向压降以及反向恢复时间的折中关系,然而,传统场板与器件的阴极相连接,具有固定的电位,而器件在耐压状态下漂移区表面的电位是沿着器件长度方向变化的,因此,传统场板在器件耐压状态下的感应电荷在器件长度方向上分布不均匀,使得器件漂移区不同位置处受到场板的影响大小不同,所以传统场板无法使器件漂移区获得均匀的电场分布。
发明内容
本发明的目的就是为了解决上述问题,提出了一种带有可调型场板的高压二极管,该器件中各场板的作用大小可通过器件结构参数设计进行调节,改善了漂移区电场分布不均匀的问题,器件具有更高的耐压能力、更小的正向压降和更小的反向恢复时间。
为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
本发明公开了一种带有可调型场板的高压二极管,包括阴极金属,场氧化层和位于场氧化层下方的漂移区,其特征在于,在所述场氧化层的表面设置若干可调型场板,相邻两个可调型场板之间间隔设定距离;
每一个可调型场板均连接调节电容;所述可调型场板与调节电容的正电极相连接,在所述调节电容正电极上方设置调节电容负电极;所有调节电容的负电极通过金属互连线与阴极金属连接;
通过设置可调型场板和调节电容的正负电极的尺寸,能够调节可调型场板上的感应电位和感应电荷量,使得漂移区内获得均匀的表面电场分布。
进一步地,所述调节电容的正、负电极大小相等,完全对齐。
进一步地,所述器件表面的空隙采用绝缘介质层填充。
进一步地,所述可调型场板和调节电容的长度和/或宽度根据实际需要进行设计。
进一步地,所述可调型场板沿宽度方向断续设置,将宽度方向上的可调型场板分成若干个可调型场板单元,每一个可调型场板单元均连接相应的调节电容单元。
本发明进一步公开了一种应用于打印机、电动机或者平板显示器上的驱动芯片,采用上述带有可调型场板的高压二极管。
本发明进一步公开了一种打印机,采用上述的驱动芯片。
本发明进一步公开了一种电动机,采用上述的驱动芯片。
本发明进一步公开了一种平板显示器,采用上述的驱动芯片。
本发明有益效果:
(1)传统结构的高压二极管在反向耐压状态下各个场板具有与阴极相同的电位,而器件漂移区表面的电位沿着长度方向在不断变化,因此场板对器件漂移区不同横向位置处的影响大小不同,导致器件漂移区表面电场分布不均匀。而本发明结构中,通过调节可调型场板与漂移区之间的寄生电容以及可调电容的大小,可以使不同横向位置处的场板在器件反向耐压状态下具有不同的电位,从而使器件在整个漂移区内获得均匀的表面电场分布,进而使得本发明结构器件具有更高的耐压能力。
(2)相比传统结构的高压二极管器件,本发明结构器件的漂移区表面具有更均匀的电场分布,因此相同击穿电压下本发明结构器件需要更小的横向长度,所以本发明结构器件占用的面积更小,器件的平台成本更低。同时,本发明器件漂移区横向长度小,器件在导通状态下存储的过量载流子会相应减少,所以,本发明结构的高压二极管从正向导通到反向耐压过程中需要抽走的载流子数量少,器件的反向恢复时间短,反向恢复消耗的能量少。
(3)本发明结构与传统工艺完全兼容,只需要传统制备工艺上进行版图的改动即可实现,不需要增加额外的工艺步骤,不会带来工艺成本的增加。
说明书附图
图1是传统的高压二极管结构的三维示意图;
图2是本发明实施例1的带有可调型场板的高压二极管结构三维示意图;
图3是本发明实施例1的带有可调型场板的高压二极管结构器件沿长度方向和厚度方向的截面示意图;
图4是本发明实施例1的带有可调型场板的高压二极管结构器件沿宽度方向和长度方向的截面示意图;
图5是本发明实施例2的带有可调型场板的高压二极管结构三维示意图;
其中,1.P型半导体衬底,2.埋氧化层,3.N型漂移区,4.P型阱,5.P型接触区,6.阴极金属,7.场氧化层,8.N型阳极接触区,9.阳极金属,101.第一可调型场板,102.第二可调型场板,103.第三可调型场板,111.第一调节电容正电极,112.第二调节电容正电极,113.第三调节电容正电极,121.第一调节电容负电极,122.第二调节电容负电极,123.第三调节电容负电极,13.金属互连线。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步介绍。
实施例1
如图2所示,一种带有可调型场板的高压二极管,包括:P型半导体衬底1,在P型半导体衬底1上设有埋氧化层2,在埋氧化层2上设有N型漂移区3和P型阱4,在P型阱4上设有P型接触区5,在P型接触区5上连接有阴极金属6,在N型漂移区3上设有场氧化层7和N型阳极接触区8,在N型阳极接触区8上连接有阳极金属9,在场氧化层7的表面设置若干可调型场板,相邻两个可调型场板之间间隔设定距离。
可调型场板在宽度方向上与阴极金属6平行设置,可调型场板在长度方向上间隔设定距离。
需要说明的是,本发明中可调型场板的数量根据实际需要进行设置。
本实施例中,可调型场板的数量为三个,分别为:第一可调型场板101、第二可调型场板102和第三可调型场板103;
第一可调型场板101上连接有第一调节电容正电极111,第二可调型场板102上连接有第二调节电容正电极112,第三可调型场板103上连接有第三调节电容正电极113;
第一调节电容正电极111上方设有第一调节电容负电极121,第二调节电容正电极112上方设有第二调节电容负电极122,第三调节电容正电极113上方设有第三调节电容负电极123,第一调节电容负电极121、第二调节电容负电极122和第三调节电容负电极123通过金属互连线13与阴极金属6相连。
作为优选的方案,本发明实施例中第一调节电容正电极111的正上方设置第一调节电容负电极121,第一调节电容正电极111和第一调节电容负电极121的大小相等,完全对齐。
作为一种实施方式,本发明带有可调型场板的高压二极管器件表面的空隙中可以填充绝缘介质层。
需要说明的是,本发明中,第一调节电容正电极111、第二调节电容正电极112、第三调节电容正电极113、第一调节电容负电极121、第二调节电容负电极122和第三调节电容负电极123的长度和宽度均可以根据器件需要进行设计。
作为一种实施方式,将可调型场板沿宽度方向上断续设置,每一个分段的可调型场板单元均连接调节电容的正极板,相邻两分段上的调节电容的正极板也是相应的断开的,调节电容的负极板可以断开也可以不断开。通过上述方式可以调节可调型场板与漂移区之间的寄生电容的大小以及调节电容的正负极板之间的寄生电容的大小。本发明结构中,第一可调型场板101与N型漂移区3之间具有寄生电容,命名为C101,第一调节电容正电极111与第一调节电容负电极121之间具有寄生电容,命名为C111,由于第一可调型场板101与第一调节电容正电极111相连,寄生电容C101和C111形成串联关系,当器件处于反向耐压状态时,第一调节电容负电极121处于低电位,而N型漂移区3处于高电位,根据串联电容的分压关系可得出,第一可调型场板101的电位介于N型漂移区3的电位和第一调节电容负电极121的电位之间,且第一可调型场板101的电位受寄生电容C101和C111的大小影响。
因此,通过设计第一可调型场板101、第一调节电容正电极111和第一调节电容负电极121的长度以及宽度,可以调节寄生电容C101和C111的大小,进而调节第一可调型场板101的电位,通过调节第一可调型场板101的电位可以调节第一可调型场板101上的感应电荷量,进而调节第一可调型场板101的作用大小,使得第一可调型场板101下方的N型漂移区3获得均匀的表面电场分布。
同理,通过第二可调型场板102、第二调节电容正电极112和第二调节电极负电极122的长度以及宽度设计,可以调节第二可调型场板102的电位,从而使第二可调型场板102下方的N型漂移区3获得均匀的表面电场分布,通过第三可调型场板103、第三调节电容正电极113和第三调节电极负电极123的长度以及宽度设计,可以调节第三可调型场板103的电位,从而使第三可调型场板103下方的N型漂移区3获得均匀的表面电场分布。
所以,本发明结构器件中的不同场板在器件反向耐压状态下具有不同的电位,器件可以在整个漂移区内获得均匀的表面电场分布,使得本发明结构器件具有更高的横向耐压能力。
实施例2
如图5所示,一种带有可调型场板的高压二极管,包括:阳极金属9,在阳极金属9上设有N型漂移区3,在N型漂移区3表面设有P型阱4和场氧化层7,在P型阱4上设有P型接触区5,在P型接触区5上连接有阴极金属6,在场氧化层7的表面设置若干可调型场板,相邻两个可调型场板之间间隔设定距离。
可调型场板在宽度方向上与阴极金属6平行设置,可调型场板在长度方向上间隔设定距离。
需要说明的是,本发明中可调型场板的数量根据实际需要进行设置。
本实施例中,可调型场板的数量为三个,分别为:第一可调型场板101、第二可调型场板102和第三可调型场板103;
第一可调型场板101上连接有第一调节电容正电极111,第二可调型场板102上连接有第二调节电容正电极112,第三可调型场板103上连接有第三调节电容正电极113;
第一调节电容正电极111上方设有第一调节电容负电极121,第二调节电容正电极112上方设有第二调节电容负电极122,第三调节电容正电极113上方设有第三调节电容负电极123,第一调节电容负电极121、第二调节电容负电极122和第三调节电容负电极123通过金属互连线13与阴极金属6相连。
作为优选的方案,本发明实施例中第一调节电容正电极111的正上方设置第一调节电容负电极121,第一调节电容正电极111和第一调节电容负电极121的大小相等,完全对齐。
作为一种实施方式,本发明带有可调型场板的高压二极管器件表面的空隙中可以填充绝缘介质层。
需要说明的是,本发明中,第一调节电容正电极111、第二调节电容正电极112、第三调节电容正电极113、第一调节电容负电极121、第二调节电容负电极122和第三调节电容负电极123的长度和宽度均可以根据器件需要进行设计。
作为一种实施方式,将可调型场板沿宽度方向上断续设置,每一个分段的可调型场板单元均连接调节电容的正极板,相邻两分段上的调节电容的正极板也是相应的断开的,调节电容的负极板可以断开也可以不断开。通过上述方式可以调节可调型场板与漂移区之间的寄生电容的大小以及调节电容的正负极板之间的寄生电容的大小。本发明结构中,第一可调型场板101与N型漂移区3之间具有寄生电容,命名为C101,第一调节电容正电极111与第一调节电容负电极121之间具有寄生电容,命名为C111,由于第一可调型场板101与第一调节电容正电极111相连,寄生电容C101和C111形成串联关系,当器件处于反向耐压状态时,第一调节电容负电极121处于低电位,而N型漂移区3处于高电位,根据串联电容的分压关系可得出,第一可调型场板101的电位介于N型漂移区3的电位和第一调节电容负电极121的电位之间,且第一可调型场板101的电位受寄生电容C101和C111的大小影响。
因此,通过设计第一可调型场板101、第一调节电容正电极111和第一调节电容负电极121的长度以及宽度,可以调节寄生电容C101和C111的大小,进而调节第一可调型场板101的电位,通过调节第一可调型场板101的电位可以调节第一可调型场板101上的感应电荷量,进而调节第一可调型场板101的作用大小,使得第一可调型场板101下方的N型漂移区3表面获得均匀的表面电场分布。
同理,通过第二可调型场板102、第二调节电容正电极112和第二调节电极负电极122的长度以及宽度设计,可以调节第二可调型场板102的电位和感应电荷量,从而使第二可调型场板102下方的N型漂移区3获得均匀的表面电场分布,通过第三可调型场板103、第三调节电容正电极113和第三调节电极负电极123的长度以及宽度设计,可以调节第三可调型场板103的电位和感应电荷量,从而使第三可调型场板103下方的N型漂移区3获得均匀的表面电场分布。
所以,本发明结构器件中的不同场板在器件反向耐压状态下具有不同的电位,器件可以在整个漂移区内获得均匀的表面电场分布,使得本发明结构器件具有更高的横向耐压能力,器件横向终端位置耐压需要的长度更小。
需要说明的是,上述对于带有可调型场板的高压二极管的描述是针对N型漂移区器件的结构进行的,对于P型漂移区器件的结构,同样可以采用本发明的可调型场板结构,具体实施方式同上,在此不再赘述。
本发明进一步公开了一种应用于打印机、电动机或者平板显示器上的驱动芯片,该芯片中采用了本发明的带有可调型场板高压二极管。
本发明进一步公开了一种打印机、电动机或者平板显示器,上述装置均采用包括了本发明公开的带有可调型场板的高压二极管的驱动芯片。
上述虽然结合附图对本发明的具体实施方式进行了描述,但并非对本发明保护范围的限制,所属领域技术人员应该明白,在本发明的技术方案的基础上,本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本发明的保护范围以内。

Claims (9)

1.一种带有可调型场板的高压二极管,包括:阴极金属,场氧化层和位于场氧化层下方的漂移区,其特征在于,在所述场氧化层的表面设置若干可调型场板,相邻两个可调型场板之间间隔设定距离;
每一个可调型场板均连接调节电容;所述可调型场板与调节电容的正电极相连接,在所述调节电容正电极上方设置调节电容负电极;所有调节电容的负电极通过金属互连线与阴极金属连接;
通过设置可调型场板和调节电容的正负电极的尺寸,能够调节可调型场板上的感应电位和感应电荷量,使得漂移区内获得均匀的表面电场分布。
2.如权利要求1所述的带有可调型场板的高压二极管,其特征在于,所述调节电容的正、负电极大小相等,完全对齐。
3.如权利要求1所述的带有可调型场板的高压二极管,其特征在于,所述器件表面的空隙采用绝缘介质层填充。
4.如权利要求1所述的带有可调型场板的高压二极管,其特征在于,所述可调型场板和调节电容的正、负电极的长度和/或宽度根据实际需要进行设计。
5.如权利要求1所述的带有可调型场板的高压二极管,其特征在于,所述可调型场板沿宽度方向断续设置,将宽度方向上的可调型场板分成若干个可调型场板单元,每一个可调型场板单元均连接相应的调节电容单元。
6.一种应用于打印机、电动机或者平板显示器上的驱动芯片,其特征在于,采用权利要求1-5所述的任一种带有可调型场板的高压二极管。
7.一种打印机,其特征在于,采用权利要求6所述的驱动芯片。
8.一种电动机,其特征在于,采用权利要求6所述的驱动芯片。
9.一种平板显示器,其特征在于,采用权利要求6所述的驱动芯片。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019085835A1 (zh) * 2017-10-30 2019-05-09 济南大学 一种适用于功率半导体器件的超级场板结构及其应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5434445A (en) * 1992-04-17 1995-07-18 Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. Junction-isolated high-voltage MOS integrated device
CN1301045A (zh) * 1999-12-17 2001-06-27 松下电子工业株式会社 耐高压半导体器件
CN1231977C (zh) * 2001-03-22 2005-12-14 松下电器产业株式会社 高耐压半导体器件
CN106653830A (zh) * 2015-10-28 2017-05-10 无锡华润上华半导体有限公司 半导体器件耐压结构

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5434445A (en) * 1992-04-17 1995-07-18 Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. Junction-isolated high-voltage MOS integrated device
CN1301045A (zh) * 1999-12-17 2001-06-27 松下电子工业株式会社 耐高压半导体器件
CN1231977C (zh) * 2001-03-22 2005-12-14 松下电器产业株式会社 高耐压半导体器件
CN106653830A (zh) * 2015-10-28 2017-05-10 无锡华润上华半导体有限公司 半导体器件耐压结构

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019085835A1 (zh) * 2017-10-30 2019-05-09 济南大学 一种适用于功率半导体器件的超级场板结构及其应用

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