CN107885030A - 掩膜板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种掩膜板，包括：空闲区和至少一个有效蒸镀区，空闲区设置于有效蒸镀区的外侧；至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口，各蒸镀开口均匀分布设置；有效蒸镀区与空闲区之间还设置有过渡区，过渡区包围有效蒸镀区设置，过渡区的厚度小于有效蒸镀区的厚度，且小于空闲区的厚度。通过在有效蒸镀区和空闲区之间设置过渡区，由于该过渡区的厚度相对于有效蒸镀区以及空闲区的厚度更小，使得过渡区的强度较小，当在掩膜板两端施加拉力时，在力的传递过程中，拉力受到的反作用逐渐减小，使得空闲区到有效蒸镀区的变形能平缓过渡，有效减小褶皱，减小有效蒸镀区的形变，使得蒸镀效果更佳，从而提高蒸镀的产品良率。

Description

掩膜板

技术领域

本发明涉及有机发光显示制造技术领域，特别是涉及掩膜板。

背景技术

AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)生产制程中最影响良率的即为蒸镀制程，蒸镀制程的基本过程即通过加热有机材料，使得有机材料蒸发，并通过高精度精细掩膜板蚀刻完成的通孔蒸镀到玻璃基板上，形成发光单元。

通常精细掩膜板的制作方法是通过将掩膜板焊接在掩膜板边框上，而在焊接之前通常要对掩膜板施加一定的拉力，对掩膜板进行张拉，其目的是为了保证掩膜板的开口能够符合设计的尺寸。而掩膜板施加一定拉力时，会由于受力不均，出现一定程度的扭曲和变形，使得蒸镀开口偏离原来的设计尺寸和形状，造成形状和尺寸误差。为减少掩膜板的变形及开口变形不均匀性，目前通常在掩膜板有效显示区的周围分布设计镂空的空闲区域(dummy)，通过调整空闲区域的尺寸、形状和分布来调整变形均匀性。但是有效显示区和空闲区域之间的过渡区域的强度与镂空开口的强度不同，在张网时此过渡区域容易有突兀的变形不均匀性，存在褶皱，严重时甚至影响到有效显示区边缘部分，导致良率降低。

发明内容

基于此，有必要提供一种掩膜板。

一种掩膜板，包括：空闲区和至少一个有效蒸镀区，所述空闲区设置于所述有效蒸镀区的外侧；

所述至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口，各所述蒸镀开口均匀分布设置；

所述有效蒸镀区与所述空闲区之间还设置有过渡区，所述过渡区包围所述有效蒸镀区设置，所述过渡区的厚度小于所述有效蒸镀区的厚度，且小于所述空闲区的厚度。

在一个实施例中，所述过渡区的厚度与所述有效蒸镀区的厚度之比为1：(1.5～2)。

在一个实施例中，所述过渡区的厚度与所述有效蒸镀区的厚度之比为1：2。

在一个实施例中，所述过渡区的形状为矩形。

在一个实施例中，所述过渡区的宽度为0.5mm～2mm。

在一个实施例中，所述过渡区的宽度为1mm。

在一个实施例中，所述空闲区开设有多个通孔。

在一个实施例中，所述通孔的形状与所述蒸镀开口的形状相同。

在一个实施例中，所述通孔的尺寸与所述蒸镀开口的尺寸相等。

在一个实施例中，相邻两所述通孔之间的间距与相邻两所述蒸镀开口之间的间距相等。

上述掩膜板，通过在有效蒸镀区和空闲区之间设置过渡区，由于该过渡区的厚度相对于有效蒸镀区以及空闲区的厚度更小，使得过渡区的强度较小，当在掩膜板两端施加拉力时，在力的传递过程中，拉力受到的反作用逐渐减小，使得空闲区到有效蒸镀区的变形能平缓过渡，有效减小褶皱，减小有效蒸镀区的形变，使得蒸镀效果更佳，从而提高蒸镀的产品良率。

附图说明

图1为一个实施例的掩膜板的结构示意图；

图2为一个实施例的掩膜板的剖面结构示意图；

图3为另一个实施例的掩膜板的结构示意图；

图4为又一个实施例的掩膜板的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

例如，一种掩膜板，包括空闲区和至少一个有效蒸镀区，所述空闲区设置于所述有效蒸镀区的外侧；所述至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口，各所述蒸镀开口均匀分布设置；所述有效蒸镀区与所述空闲区之间还设置有过渡区，所述过渡区包围所述有效蒸镀区设置，所述过渡区的厚度小于所述有效蒸镀区的厚度，且小于所述空闲区的厚度。

上述实施例中，通过在有效蒸镀区和空闲区之间设置过渡区，由于该过渡区的厚度相对于有效蒸镀区以及空闲区的厚度更小，使得过渡区的强度较小，当在掩膜板两端施加拉力时，在力的传递过程中，拉力受到的反作用逐渐减小，使得空闲区到有效蒸镀区的变形能平缓过渡，有效减小褶皱，减小有效蒸镀区的形变，使得蒸镀效果更佳，从而提高蒸镀的产品良率。

在一个实施例中，如图1所示，提供一种掩膜板10，包括：空闲区200和一个有效蒸镀区100，所述空闲区200设置于所述有效蒸镀区100的外侧；所述至少一个有效蒸镀区100开设有多个蒸镀开口110，各所述蒸镀开口110均匀分布设置；所述有效蒸镀区100与所述空闲区200之间还设置有过渡区300，所述过渡区300包围所述有效蒸镀区100设置，所述过渡区300的厚度小于所述有效蒸镀区100的厚度，且小于所述空闲区200的厚度。

具体地，有效蒸镀区100为有效的蒸镀区，有效蒸镀区100开设的蒸镀开口110用于通过蒸镀材料，使得蒸镀材料蒸镀在基板上，使得基板上形成有效显示区，该有效蒸镀区100对应显示面板的AA(Ative Area)区，即有效显示区。蒸镀时，蒸发后的有机材料通过有效蒸镀区100的蒸镀开口110蒸镀至基板上。

该空闲区200为非蒸镀区，或者为非有效区。空闲区200也可称为Dummy区。该空闲区200可以视为掩膜板10在有效蒸镀区100的外侧延伸形成的区域，该空闲区200并不用于蒸镀。

本实施例中，有效蒸镀区100和空闲区200之间设置有过渡区300，例如，有效蒸镀区100通过过渡区300与空闲区200连接，例如，有效蒸镀区100的外侧依次连接过渡区300和空闲区200，例如，过渡区300设置于有效蒸镀区100的外侧，例如，过渡区300设置于空闲区200的内侧，也就是说，掩膜板10包括由内至外设置的有效蒸镀区100、过渡区300和空闲区200。该过渡区300包覆于整个的有效蒸镀区100的外侧，而该空闲区200则设置于过渡区300的外侧。

本实施例中，该过渡区300的厚度小于有效蒸镀区100的厚度，且小于所述空闲区200的厚度，例如，有效蒸镀区100的厚度与空闲区200的厚度相等。值得一提的是，该有效蒸镀区100包括实体部分和开设在实体部分的蒸镀开口110，例如，该过渡区300的厚度小于有效蒸镀区100的实体部分的厚度，例如，有效蒸镀区100的实体部分的厚度与空闲区200的厚度相等。

例如，通过对有效蒸镀区100与空闲区200之间的过渡区300进行刻蚀，使得过渡区300的厚度减小，例如，通过对有效蒸镀区100与空闲区200之间的过渡区300进行半刻蚀，例如，对掩膜板10的一个表面上的过渡区300进行半刻蚀，使得过渡区300的厚度减小，本实施例中所述的半刻蚀，指的是，将掩膜板10的厚度刻蚀至将近原厚度的一半，也就是说，该过渡区300在未进行刻蚀或者半刻蚀前，过渡区300的厚度与有效蒸镀区100以及空闲区200的厚度相等，经过对过渡区300的半刻蚀处理后，使得过渡区300的厚度减小。值得一提的是，该过渡区300不开口或者不开孔，掩膜板10在过渡区300内均为实体部分。

由于该过渡区300的厚度相对于有效蒸镀区100以及空闲区200的厚度更小，使得过渡区300的强度较小，当在掩膜板10两端施加拉力时，在力的传递过程中，拉力受到的反作用逐渐减小，使得空闲区200到有效蒸镀区100的变形能平缓过渡，有效减小褶皱，减小有效蒸镀区100的形变，使得有效蒸镀区100的受力更为均匀，且形变也更均匀，避免蒸镀开口110形变过大，使得蒸镀效果更佳，有效避免像素混色，从而提高蒸镀的产品良率，即提高AMOLED的良率。

值得一提的是，该有效蒸镀区可以是一个或者两个，或者是多个。在其他的实施例中，该掩膜板包括多个有效蒸镀区，每一有效蒸镀区分别开设有多个蒸镀开口，每一所述有效蒸镀区与所述空闲区之间还设置有过渡区，所述过渡区包围所述有效蒸镀区设置。例如，每一有效蒸镀区的外侧分别设置有过渡区，过渡区可以是一个或者多个，例如，一个过渡区包覆于多个有效蒸镀区的外侧，例如，多个过渡区分别包围于多个有效蒸镀区的外侧，即一个过渡区对应包围一所述有效蒸镀区，各过渡区的外侧设置空闲区。同样地，由于过渡区的厚度较所有的有效蒸镀区的厚度都小，且较空闲区的厚度小，使得过渡区的强度较低，有利于拉力的平缓过渡，使得空闲区到有效蒸镀区的变形能平缓过渡，有效减小褶皱，减小有效蒸镀区的形变，使得蒸镀效果更佳，从而提高蒸镀的产品良率。对此，本实施例不再累赘描述。

值得一提的是，通过半刻蚀对掩膜板10的过渡区300进行处理，使得过渡区300的厚度减小，过渡区300的厚度不能太小，太小的过渡区300强度太低，容易导致掩膜板10在过渡区300断裂，而过渡区300的厚度也不能太大，太大的过渡区300强度与空闲区200相近，不能实现拉力的平缓过渡，容易导致在有效蒸镀区100和空闲区200之间产生褶皱，为了避免掩膜板10断裂，并且减小有效蒸镀区100和空闲区200之间的褶皱，在一个实施例中，所述过渡区300的厚度与所述有效蒸镀区100的厚度之比为1：(1.5～2)。例如，所述过渡区300的厚度与所述空闲区200的厚度之比为1：(1.5～2)。例如，所述过渡区300的厚度为所述有效蒸镀区100的厚度的二分之一至三分之二，例如，所述过渡区300的厚度为所述空闲区200的厚度的二分之一至三分之二。

具体地，本实施例中，由于过渡区300的厚度大于或等于有效蒸镀区100的厚度的二分之一，并且小于或等于有效蒸镀区100的厚度的三分之二，使得过渡区300能够很好地连接有效蒸镀区100和空闲区200，有效避免掩膜板10断裂，而由于过渡区300相对于有效蒸镀区100以及空闲区200的厚度小，使得过渡区300相对于有效蒸镀区100和空闲区200具有较低的强度，有利于拉力的平缓过渡，进而使得空闲区200到有效蒸镀区100的变形能平缓过渡，有效减小褶皱，减小有效蒸镀区100的形变，使得有效蒸镀区100的形变更小，且形变更为均匀，使得蒸镀效果更佳。

为了进一步使得拉力从空闲区200至有效蒸镀区100平缓过渡，并且进一步避免掩膜板10在过渡区300断裂，例如，所述过渡区300的厚度与所述有效蒸镀区100的厚度之比为1：2。例如，所述过渡区300的厚度与所述空闲区200的厚度之比为1：2。例如，所述过渡区300的厚度为所述有效蒸镀区100的厚度的二分之一，例如，所述过渡区300的厚度为所述空闲区200的厚度的二分之一，即过渡区300的厚度为有效蒸镀区100的实体部分的厚度的一半，过渡区300的厚度为空闲区200的厚度的一半，这样，能够使得过渡区300的强度相当于有效蒸镀区100以及空闲区200的一半，使得拉力能够平缓从空闲区200过渡至有效蒸镀区100，并且过渡区300的厚度不至于过小，有利于提高过渡区300与有效蒸镀区100以及空闲区200连接，从而有效避免掩膜板10在过渡区300断裂，且有效减小褶皱，减小有效蒸镀区100的形变，使得有效蒸镀区100的形变更小，且形变更为均匀，使得蒸镀效果更佳。

为了进一步避免掩膜板10断裂，并且使得过渡区300能够有效使得拉力平缓过渡，例如，如图2所示，从掩膜板10的两个相背的表面分别对过渡区300进行半刻蚀，例如，在掩膜板10的两个相背的表面在所述过渡区300均凹陷设置过渡槽301，且两个过渡槽301的深度相同，也就是说，该过渡区300在掩膜板10的两个相背的表面上均凹陷设置，使得该过渡区300的厚度小于有效蒸镀区100以及空闲区200的厚度，这样，过渡区300连接于有效蒸镀区100的中间层部分，有利于拉力在掩膜板10的厚度方向上的均匀分布，进而使得掩膜板10均匀受力，进一步有效避免有效蒸镀区100的形变。

为了更好地包围该有效蒸镀区100，在一个实施例中，如图1所示，所述过渡区300的形状为矩形，例如，该有效蒸镀区100为矩形，例如，该过渡区300的形状为矩形环状，该矩形环状的过渡区300绕所述矩形的有效蒸镀区100的外侧设置。这样，使得过渡区300能够充分包围该有效蒸镀区100，使得在各方向上的拉力均能够通过过渡区300传递至有效蒸镀区100，使得有效蒸镀区100的形变更为均匀，避免蒸镀开口110形变过大，使得蒸镀效果佳。

例如，如图3所示，该矩形的过渡区300包括两个第一子区310以及两个第二子区320，两个第一子区310以及两个第二子区320呈矩形连接，两个第一子区310相互平行，两个第二子区320相互平行，各第一子区310和各第二子区320相互垂直，第一子区310至少部分设置于第二子区320的外侧，例如，第一子区310至少部分朝向第二子区320的外侧延伸设置，例如，第一子区310至少部分设置于空闲区200，并且延伸至空闲去的第一子区310的部分将空闲区200隔离为多个部分，这样，由于该矩形的过渡区300的第一子区310延伸至第二子区320所在直线的外侧，使得过渡区300能够与空闲区200具有更大的连接范围或者连接面积，使得空闲区200的拉力能够更为均匀地传递至过渡区300，进而传递至有效蒸镀区100，使得有效蒸镀区100均匀受力，此外，避免应力过于集中，使得过渡区300对拉力的过渡效果更佳。

在其他实施例中，过渡区的形状为圆形，例如，过渡区的形状为圆环形，该圆环形的过渡区绕所述圆形的有效蒸镀区设置，例如，过渡区的形状为六边形，例如，过渡区的形状为六边的环形，该六边的环形的过渡区绕所述六边形的有效蒸镀区设置。其他实施例中的其他形状的过渡区均可以实现良好的过渡效果，使得拉力能够平缓过渡，本文中不累赘描述。

为了进一步使得拉力从空闲区200至有效蒸镀区100平缓过渡，并且进一步避免掩膜板10在过渡区300断裂，在一个实施例中，所述过渡区300的宽度为0.5mm～2mm。应该理解的是，过渡区300的宽度太大将占用空闲区200的面积，造成空闲区200的支撑面积减小，不利于对空闲区200施加拉力，且过渡区300的宽度太宽，容易由于其厚度较小而造成掩膜板10凹陷，此外，过渡区300的宽度太小则使得拉力平缓过渡较差，容易在有效蒸镀区100和空闲区200之间产生褶皱，因此，本实施例中，过渡区300的宽度为0.5mm～2mm，能够避免占用过多空闲区200的面积，使得空闲区200具有较大的支撑面积，有利于对空闲区200施力，此外，过渡区300的宽度在0.5mm～2mm范围内，能够使得垃圾平缓过渡，具有较佳的过渡效果，有效避免掩膜板10产生褶皱，且使得有效蒸镀区100的形变更小，且形变更为均匀。

为了进一步使得拉力从空闲区200至有效蒸镀区100平缓过渡，并且进一步避免掩膜板10在过渡区300断裂，例如，所述过渡区300的宽度为1mm。本实施例中，过渡区300的宽度为1mm，使得空闲区200具有更大的支撑面积，有利于对空闲区200施力，此外，过渡区300的宽度在1mm范围内，能够进一步使得垃圾平缓过渡，具有较佳的过渡效果，有效避免掩膜板10产生褶皱，且使得有效蒸镀区100的形变更小，且形变更为均匀。

值得一提的是，该空闲区200可以开设通孔，也可以是保持整体为实体部分，例如，如图4所示，所述空闲区200开设有多个通孔210。例如，所述通孔210的形状与所述蒸镀开口110的形状相同。例如，所述通孔210的尺寸与所述蒸镀开口110的尺寸相等，即所述通孔210的宽度与所述蒸镀开口110的宽度相等。例如，相邻的两个所述通孔210之间的间距与相邻的两个所述蒸镀开口110之间的间距相等。具体地，本实施例中，空闲区200开设有蒸镀开口110形状相同、大小相等、间距相等的通孔210，这样，因此，空闲区200具有与有效蒸镀区100具有相同的力学性能，因此，空闲区200和有效蒸镀区100具有相同的应力特性，使得空闲区200和有效蒸镀区100之间不容易产生褶皱，使得蒸镀效果更佳，有效避免像素混色，提高AMOLED的良率。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出多个变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括空闲区和至少一个有效蒸镀区，所述空闲区设置于所述有效蒸镀区的外侧；

所述至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口，各所述蒸镀开口均匀分布设置；

所述有效蒸镀区与所述空闲区之间还设置有过渡区，所述过渡区包围所述有效蒸镀区设置，所述过渡区的厚度小于所述有效蒸镀区的厚度，且小于所述空闲区的厚度。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的厚度与所述有效蒸镀区的厚度之比为1：(1.5～2)。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的厚度与所述有效蒸镀区的厚度之比为1：2。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的形状为矩形。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的宽度为0.5mm～2mm。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的宽度为1mm。

7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述空闲区开设有多个通孔。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述通孔的形状与所述蒸镀开口的形状相同。

9.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述通孔的尺寸与所述蒸镀开口的尺寸相等。

10.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，相邻两所述通孔之间的间距与相邻两所述蒸镀开口之间的间距相等。