CN107847841A - 用于从气流中沉淀颗粒的设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于从气流中沉淀液体和/或微粒杂质的设备,该设备包括至少一个第一引导元件和至少一个第二引导元件,有可能借助于所述第一引导元件对该气流施加至少一个第一方向变化并借助于该第二引导元件对该气流上施加至少一个第二方向变化,该流体流沿着该第一引导元件和该第二引导元件以基本上层流的方式附加地流动。

Description

用于从气流中沉淀颗粒的设备
技术领域
本发明涉及一种用于从气流中沉淀液体和/或微粒杂质的设备,该设备包括至少一个第一引导元件和至少一个第二引导元件,有可能借助于所述第一引导元件对该气流施加至少一个第一方向变化并借助于该第二引导元件对该气流上施加至少一个第二方向变化。
发明背景
根据现有技术,用于从气流,特别是机动车,特别是燃烧机的窜气流中沉淀液体和/或微粒杂质的各种沉淀设备是已知的。
例如,从曲轴箱排出的气流含有固体和液体颗粒,特别是油滴。为了减少对环境的影响和/或避免将含油气流引入该燃烧机的进气管,使用各种沉淀器从该气流中除去这些颗粒。
例如,DE 10 2004 010 583 B4公开了一种用于从流体流中沉淀油的油沉淀器。建议使用迷宫式流开口来沉淀油,其中挡板壁是至少部分橡胶状且可变形的,被布置在流路中。
利用这样的挡板壁,该流体流通常以垂直方式,即沿着该挡板壁的法线方向,撞击在该挡板壁上,这导致包含在该流体流中的液体或固体颗粒由于这类颗粒的惯性而撞击该挡板壁,而其余的流体流横向流出冲击表面。
这种类型的油分离器的缺点是该流体流中生成的动压相对较高,使得该分离器生成相对于该流体流或气体流的相对较高的流动阻力。
而且,现有技术中已知的是旋风沉淀器。例如,DE 20 2007 003 292 U1公开了一种具有至少一个旋风分离器的油沉淀器。该油沉淀器包含与燃烧机的曲轴箱连接的进气口和与燃烧机的进气管连接的出气口。曲轴箱通风气体从气体入口处进入该旋风分离器的内部空间,并在那里被转移入旋转流。作为离心力的结果,夹带的油滴被输送到外部并在该旋风分离器的内壁沉淀。油从那里流入排油管。
然而,这些沉淀器的缺点是它们需要相对较大的安装空间。在机动车的发动机舱内通常没有这个空间。
发明概述
因此,本发明的目的是提供一种用于从流体流,特别是气流中沉淀液体和/或气体颗粒的设备,其克服了现有技术的缺点,特别是确保了紧凑的设计,同时确保了对该流体流的可能的最低流动阻力。
根据本发明,这个目的是通过以下方式来实现的:该流体流通常以层流方式沿着该第一引导元件和该第二引导元件流动。
本发明的设备的特征在于至少一个第三引导元件,优选地多个第三引导元件,其中该第三引导元件在该流体流的方向上施加至少一个变化并且该流体流沿着该第三引导元件层流地流动,优选地通过与由前一个第三引导元件施加的方向不同的各个第三引导元件对该流体流施加流动方向的变化。
此外,该设备的发明提出,该流体流通常沿第一方向进入该设备;该第一方向变化导致该流体流大体上在第二方向上从该第一引导元件中出来;该第二方向变化导致该流体流大体上在第三方向上从该第二引导元件中出来;和/或第三方向变化导致该流体流大体上在第四方向上从该第三引导元件中出来,优选地在第一第四方向上至少从第一第三引导元件中出来并且在第二第四方向上从第二第三引导元件中出来。
特别优选的是,该第一方向和该第二方向,该第二方向和该第三方向;和/或该第一第三方向和该第二第三方向相对于彼此以90°和180°之间的角度取向;特别是,它们反向地平行延伸;和/或该流体流沿着出口方向,优选地该第三方向、第四方向和/或该第二第四方向从该设备中出来,其中该出口方向优选地平行于该第一方向。
此外,本发明提出,在该第一方向变化期间,在该第二方向变化期间和/或在该第三方向变化期间,该流体流被设定为旋转、涡旋和/或自旋运动。
本发明的有利实施方式的特征可以在于,该第一引导元件提供至少一个第一引导表面并且该第二引导元件提供至少一个第二引导表面;和/或该第三引导元件提供至少一个第三引导表面。
在上述实施方式中,特别优选的是,该流体流大体上与该第一引导表面相切地进入该第一引导元件,与该第二引导表面相切地进入该第二引导元件;和/或与该第三引导表面相切地进入该第三引导元件。
在上述两个实施方式中,特别优选的是,该第一引导表面、该第二引导表面和/或该第三引导表面,提供至少部分的球形、椭圆形和/或拱形横截面;然而,优选地,至少该横截面包括圆柱体、抛物柱面、椭圆柱体和/或拱形表面或由其组成。
本发明的特别有利的实施方式规定,该第一引导表面包括至少一个第一至少部分的弯曲半径,该第二引导表面包括至少一个第二至少部分的弯曲半径;和/或该第三引导表面包括至少一个第三至少部分的弯曲半径;优选地,该第一弯曲半径等于该第二弯曲半径和/或等于该第三弯曲半径;该第一弯曲半径大于该第二弯曲半径,该第二弯曲半径大于该第三弯曲半径;和/或该第一弯曲半径大于该第三弯曲半径;或者该第一弯曲半径小于该第二弯曲半径,该第二弯曲半径小于该第三弯曲半径;和/或该第一弯曲半径小于该第三弯曲半径。
本发明进一步提出,该流体流特别是在大体上垂直于该第一方向的平面中,借助于该第一引导元件、该第二引导元件和/或该第三引导元件以迷宫式或曲折式方式流动。
根据本发明的设备的特征可以进一步在于,至少一个引导装置,其优选地由该第二引导元件封闭并且特别地位于第二引导元件背离该第二引导表面的一侧上,其中这个引导装置迫使该流体流进入该第一方向。
特别优选的是,该第一引导元件、该第二引导元件和/或该第三引导元件通常位于该第一平面中。
本发明进一步提出,根据本发明的设备的特征在于,至少一个支撑框架,其优选地布置在该第一平面中,其中该第一引导元件、该第二引导元件和/或该第三引导元件至少间接地由该支撑框架支撑。
对于上述实施方式,特别优选的是,该第一引导元件、该第二引导元件和/或第三引导元件,特别是该第一第三引导元件和/或该第二第三引导元件相对于该支撑框架,特别是抵靠由至少一个复位设备建立的至少一个复位力可移动地加以安装,该复位设备优选地,至少部分地,与该第一引导元件、该第二引导元件或该第三引导元件一起制造为一体件;优选地,其中该第一引导元件相对于该第二引导元件,该第三引导元件相对于该第二引导元件和/或该第二第三引导元件相对于该第一第三引导元件是可移动的。
本发明的发明人进一步提出,该复位设备包括至少一个弹簧元件,优选地钢板弹簧、螺旋弹簧和/或弹性体弹簧。
根据本发明的沉淀设备的特征还在于,在该第一引导元件和该第二引导元件之间,在该第三引导元件和该第二引导元件之间和/或在该第二第三引导元件和该第一第三引导元件之间存在间隙,根据该气流的流动参数,如动态压力的类型、静态压力的类型、流量和/或流动速度,该间隙是可变化的,在该第一引导元件和该第二引导元件之间,在该第三引导元件和该第二引导元件之间和/或优选地,在该第二第三引导元件和该第一第三引导元件之间保持最小的大于零的间隙。
特别优选的是,该第一引导元件至少部分地延伸到该第二引导元件中,该第二引导元件至少部分地延伸到该第一引导元件中,该第二引导元件至少部分地延伸到该第三引导元件中,该第三引导元件至少部分地延伸到该第二引导元件中,该第一第三引导元件至少部分地延伸到该第二第三引导元件中;和/或该第二第三引导元件至少部分地延伸到该第一第三引导元件中。
特别有利的实施方式的特征可以在于,多个第一引导元件、第二引导元件和/或第三引导元件被布置在若干平面中,其中,优选地至少两个第一引导元件、两个第二引导元件和/或两个第三引导元件被至少部分地制造为一体件并且特别地提供W形横截面。
最后,对于根据本发明的设备提出,该支撑框架、该第一引导元件、该第二引导元件和/或该第三引导元件,至少部分地,包括塑料材料,特别是注塑部件;和/或该第一引导元件、该第二引导元件、该第三引导元件和/或该复位设备包括至少一个金属,优选金属片,优选为至少一个冲孔金属片部件的形式。
因此,本发明是基于以下的令人惊讶的发现:通过沉淀器内各引导元件的适当成形,可以提供对流体流,特别是气流的迷宫式流动引导以实现颗粒从该流体流中的最佳可能的沉淀,同时避免对该流体流的不必要的流动阻力的增加。
为达到这个效果,提出,引导该流体流,使得它大体上沿着引导元件的表面以层流的方式流动,以便避免将导致流动阻力和动态压力增加的涡流和湍流的形成。同时,作为被动式沉淀器的该设备实现了高度的效率,即,由于该流体流被设定为旋转或自旋运动,所以该沉淀器不需要额外的驱动力,以便颗粒由于离心力从该流体流中沉淀。
因此,可以利用旋风分离器的优良特性,然而,并不需要增加安装空间。而且,该流体流经多次偏转,使得在一个平面中发生该流体流的大体上迷宫式或曲折式运动,并且由于多次偏转而实现高度的沉淀。基本上,初始的严重偏转对于实现足够高的沉淀量是适当的。小半径与高流速相结合,导致达到了特别高的离心力,该离心力能够沉淀甚至最小的颗粒。例如,仅需要“多次偏转”或第二次偏转才能将流体引导到预期的最终方向,使得第三流动方向与第一流动方向大致相同。换句话说,离心力导致颗粒沉淀发生,其中该流体流的分离,引起该流的旋转运动的加速和偏转实现了高效率。
由于该流体流的偏转,特别是主要通过该流在分离元件的表面上的切向冲击,该流体流循着该沉淀器或该引导元件的弯曲的表面轮廓,类似于该旋风分离器的进气区域;随后经由部分圆周偏转,例如旋风分离器中的第一半圆偏转。通过使用大量的第一和第二引导元件,该流体流被分到大量的偏转区域中,其中这些大量的引导元件及其相应的半径适应相应燃烧机的设计体积。因此,第一引导元件引起该流体流从第一方向偏转到第二方向,特别是与该第一方向相反的平行方向。借助于以第二引导元件的形式制造的反轮廓,然后在该流体流中引起第二方向变化,特别是使得该流体流离开该第二引导元件并由此在一个偏转之后离开该沉淀器,这使得该流体流设定为在与该第一方向大体上平行且具有相同取向的方向上,旋转运动。
所提供的引导元件的数量可以进一步增加,特别地,可以提供一个或多个第三元件,该流体流在离开该第二引导元件之后进入该第三元件并且在其中偏转一次或多次。特别优选的是,该引导元件中每个均引起该流体流的180°偏转,使得该流体流在每个引导元件内执行半圆拱形运动。通过这种方式,在该流体流中建立了最大可能的离心力,同时为该沉淀器实现了尽可能低的安装高度。这种设计还确保了,该流体流沿着垂直于该流体流的入口方向的一个平面被引导进行迷宫式或曲折式运动,进入该设备,以及该流在与入口方向相同的方向上离开该沉淀器。由于大量的第一、第二和第三引导元件,特别是沿着上述平面,彼此相邻地安装,因此可以确保在该沉淀器中有足够的容积通过量,尤其是可以防止该流体流中增加的动态压力的积聚。
相应的引导元件可以具有不同的表面形状。它们可以是圆形或球形,也可以是椭圆形、抛物线形或类似形状。以这种方式,可以实现该流的最大可能的层流性,并且同时在该流体流中引起最大可能的离心力。各个引导元件的弯曲半径可以不同,使得可以确保各个偏转的一致的沉淀程度,其中该弯曲半径从一个引导元件递减到下一个。以这种方式,最大的颗粒可以在该第一引导元件中在第一次偏转过程中沉淀,因为这需要最低的离心力。随着偏转次数的增加,该弯曲半径可以减小,从而在该流体流中产生更高的离心力,使得也可能有效沉淀较小的颗粒。替代性地,从一个引导元件到另一个,该弯曲半径可以增加。这确保了在之前的偏转中已由较小的颗粒形成的较大颗粒的沉淀。在这种情况下,小颗粒和大颗粒恰在第一次严重偏转时均沉淀。在第一次严重偏转时沉淀的颗粒,例如大小油粒,可以沿着引导表面以薄膜的形式沉淀,并且由于流动速度高而可能与该流一起被夹带,使得在该引导表面的末端,它们以大颗粒,如油滴的形式被带走。然而,这些大颗粒由于离心力低已经沉淀下来,因为它们在随后的偏转中被诱导(较大的横截面导致较低的离心力,从而导致较低的流速和较大的弯曲半径)。从这里,沉淀的颗粒可以在流速较低的区域中排出。
该引导元件优选地,至少部分地,延伸到彼此中,从而实现该流体流从一个引导元件到随后的引导元件的平滑过渡,特别是确保了气流的最佳可能的层流性。
整个设备可以构造为一体件,特别地,安装在支撑框架上的相应的引导元件可以构造为单件。这尤其使得有可能将该设备制造成价格合理的注塑成型的塑料部件。此外,它也可以被设计成使得沉淀设备提供可变的几何形状。在此,特别优选的是,各引导元件交替地固定在该支撑框架上或相对于该支撑框架是可移动的。例如,该第一引导元件可以相对于该支撑框架是可移动的,而该反轮廓或该第二引导元件相对于该支撑框架固定。在此,针对可移动性,优选的是,该第一引导元件抵靠复位设备,特别是弹簧元件,例如与该引导元件一起制造为一体件的钢板弹簧元件设置。这确保了流体横截面可以根据体积流量的大小而被放大。以这种方式防止了该流体流中增加的动态压力的附加积聚。
因此,本发明提供的优点是提供了一种沉淀设备,该沉淀设备可以以低成本制造,提供了紧凑的结构,可以以灵活的方式使用,特别是以最小的努力适应各种框架条件,并且能够集成到旁路功能。例如,旁路开口可能集成在该支撑框架内并且,特别是通过控制旁路阀来打开或关闭,该流体流可以完全地或部分地,通过该控制旁路阀,部分地绕过该引导元件,从分离器的入口区域被引导朝向出口区域。
本发明的进一步特征和优点由以下提供的说明产生,该说明包含通过示意图对本发明的优选实施方式的解释。
附图说明
下面是说明:
图1 根据本发明的沉淀设备的初始实施方式的示意性俯视图;
图2 从图1的方向A看去,如图1所示的沉淀设备的示意性横截面图;
图3 从图1的方向A看去,如图1和图2所示的沉淀设备的示意性截面图;
图4 根据第二实施方式的沉淀设备的透视俯视图;以及
图5 从图4的方向B看去,如图4所示的沉淀设备的横截面图。
发明详述
图1示出了根据本发明的沉淀设备1的示意性俯视图。图1示出了该沉淀设备1的出口侧的俯视图。该沉淀设备1包含若干个引导元件3。更确切地说,该沉淀设备包括相对于气流平行安装的六个功能性元件,即引导元件3。
该引导元件3被制造成冲压金属板部件并且配备有作为单件制造的弹簧元件5形式的复位设备。该弹簧元件5在安装点7处用该沉淀设备1的框架9固定。该框架1特别地包括注塑塑料部件。
第二引导元件11与该框架9被制造成一体件。该沉淀设备1还包括六个第二引导元件11。
图2示出了图1中所示的该沉淀设备1的沿着平面A的横截面视图。从图2中可以特别地得知,气流沿着方向R1进入该第一引导元件3。在这种情况下,引导装置13被集成在该第二引导元件11的后侧上。这个引导装置13使得该气流,切向于该第一引导元件的该第一引导表面15,大体上进入该第一引导元件。此外,该引导表面15通常具有部分球形的设计,使得该气流发生方向变化,并且特别是沿着方向R2离开该第一引导元件3。在所示的实施方式中,该流偏转180°,即第二方向R2与第一方向R1反向平行。
由于该第一引导表面15的球形设计,该气流的层流导向得以实现,同时将旋转或自旋运动引入到该气流中,这使得油滴和/或颗粒朝向该引导表面15的方向沉淀。聚集在该引导表面15处的颗粒流动到图2所示的纸平面上,并且通过附图中未示出的排水设备从该沉淀设备中排出。
如从图1中可以进一步看到的,该第二引导元件11部分地延伸到该第一引导元件3中。
该第二引导元件11包括引导表面17。如在图2中可以特别看到的,第二引导表面17具有比该第一引导表面15更大的半径。以这种方式,该流体流的下一次偏转从第二方向R2到第三方向R3上发生。
由于该第二引导元件11中的偏转也大约为180°,所以该第三方向R3在与该第一方向R1大体上平行且具有相同取向的方向上延伸。随后,该气流离开该沉淀设备1。
从图2中可以进一步得知,这个实施方式确保了该气流沿平面E的迷宫式或曲折式偏转。
一方面,该支撑框架位于平面E中,另一方面,平面E垂直于该第一方向R1取向。在未示出的实施方式中可以规定,沿着该气流的流动,该第二引导元件邻接有另外的第三引导元件,特别是多个第三引导元件。以这种方式,可以建立该气流的额外的多重偏转,从而进一步增加沉淀的程度。
该实施方式进一步包括若干平行的第一和第二引导元件3、11,如从图1至3中可以得知的那样。以这种方式,进入的气流被分成大量的分流,该分流各自通过串联连接的第一分离元件3、第二分离元件11,以及可选地第三分离元件进行偏转,使得旋转或自旋运动被引入到这些迷宫式或曲折式(如上所述)流中,使得适当的颗粒由于离心力而沉淀。
在图1至3所示的实施方式中,该第一分离元件3相对于该第二分离元件11和/或该支撑框架9是可移动的。在流体压力或该流体流增加的情况下,图2中的该第一分离元件在方向X上,即沿着平面E的法线方向移动。然而,在这种情况下,优选地保持该第一引导元件3和该第二引导元件11之间的最小间隙,即该第一引导元件3和该第二引导元件11之间的最小间隙19大于零(not undershot)。
如在图1至3中可以进一步看到的,特别优选的是,若干个第一和第二引导元件3、11至少部分地制造为单件。换句话说,这确保了在平面E的第一方向上引导该气流的第一部分,并且在平面E内在相反的方向上以迷宫式或曲折式方式引导该流体流的第二部分。
图4和5示出了根据本发明的沉淀设备1’的第二实施方式。该沉淀设备1’的元件对应于该沉淀设备1的元件,具有相同的附图标记,只不过多了符号’。
与第一实施方式相反,该沉淀设备1’包括与框架9’一起制成单件的第一引导元件3’。因此,该第一引导元件3’和第二引导元件11’两者均与该框架9’一起被制造为一体件。因此,这个实施方式特别没有配备弹簧元件5。以这种方式,实现了设计更加简单的沉淀设备,这导致成本的显着降低。此外,这种更简单的结构设计导致沉淀不易出错和发生故障。
在权利要求和附图中,上面的说明中指定的特征在其各个实施方式中,单独或组合地,对于本发明来说可能是至关重要的。
附图标记
1、1’ 沉淀设备
3、3’ 引导元件
5 弹簧元件
7 安装点
9、9’ 框架
11、11’ 引导元件
13、13’ 引导装置
15、15' 引导表面
17、17' 引导表面
19、19’ 间隙
A、B 方向
F、F’ 流体流
R1、R1’ 方向
R2、R2’ 方向
R3、R3’ 方向
E、E’ 平面
X 方向

Claims (19)

1.用于从流体流(F,F’)中沉淀液体和/或微粒杂质的设备(1,1’),该设备包括至少一个第一引导元件(3,3’)和至少一个第二引导元件(7,7’),有可能借助于该第一引导元件(3,3’)对该流体流(F,F’)施加至少一个第一方向变化并借助于该第二引导元件(11,11’)对该流体流(F,F’)施加至少一个第二方向变化,其特征在于,该流体流(F,F’)通常沿着该第一引导元件(3,3’)和该第二引导元件(11,11’)以层流方式流动。
2.根据权利要求1的设备,其特征在于,至少一个第三引导元件,优选地多个第三引导元件,有可能借助于该第三引导元件对该流体流(F,F’)施加至少一个第三方向变化,并且该流体流(F,F’)有可能沿着该第三引导元件大体上以层流方式流动,优选地借助于各个第三引导元件施加与前一个第三引导元件相比的方向变化。
3.根据权利要求1或2的设备,其特征在于,该流体流(F,F’)通常沿着第一方向(R1,R1’)进入该设备(1,1’),其中该第一方向变化导致该流体流(F,F’)大体上在第二方向(R2,R2’)上从该第一引导元件(3,3’)中出来;其中该第二方向变化导致该流体流(F,F’)大体上在第三方向(R3,R3’)上从该第二引导元件(11,11’)中出来;和/或该第三方向变化导致该流体流(F,F’)大体上在第四方向上从该第三引导元件中出来,优选地在第一第四方向上从至少一个第一第三引导元件中出来并且在第二第四方向上从至少一个第二第三引导元件中出来。
4.根据权利要求3的设备,其特征在于,该第一方向(R1,R1’)和该第二方向(R2,R2’),该第二方向(R2,R2’)和该第三方向;和/或该第一第三方向和该第二第三方向相对于彼此以90°和180°之间的角度,特别是,反向地平行延伸;和/或该流体流(F,F’)沿着出口方向,优选地该第三方向(R3,R3’)、第四方向和/或第二第四方向从该设备(1,1’)中出来,其中该出口方向优选地平行于该第一方向(R1,R1’)。
5.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,在该第一方向变化期间,在该第二方向变化期间和/或在该第三方向变化期间,在该流体流(F,F’)中引起旋转、涡旋或自旋运动。
6.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,该第一引导元件(3,3’)包括至少一个第一引导表面(15,15’),该第二引导元件(11,11’)包括至少一个第二引导表面(17,17’);和/或该第三引导元件包括至少一个第三引导表面。
7.根据权利要求6的设备,其特征在于,该流体流(F,F’)大体上与该第一引导表面(15,15’)相切地进入该第一引导元件(3,3’),大体上与该第二引导表面(17,17’)相切地进入该第二引导元件(11,11’);和/或大体上与该第三引导表面相切地进入该第三引导元件。
8.根据权利要求6或7的设备,其特征在于,该第一引导表面(15,15’)、该第二引导表面(17,17’)和/或该第三引导表面,提供至少部分的球形、椭圆形和/或拱形横截面,优选地,至少部分地,圆柱体、抛物柱面、椭圆柱体和/或拱形表面的横截面。
9.根据权利要求6至8中任一项的设备,其特征在于,该第一引导表面(15,15’)至少部分地提供至少一个第一弯曲半径,该第二引导表面(17,17’)至少部分地提供至少一个第二弯曲半径;和/或该第三引导表面至少部分地提供至少一个第三弯曲半径,其中该第一弯曲半径优选地等于该第二弯曲半径和/或等于该第三弯曲半径,该第一弯曲半径大于该第二弯曲半径,该第二弯曲半径大于该第三弯曲半径;和/或该第一弯曲半径大于该第三弯曲半径;或者该第一弯曲半径小于该第二弯曲半径,该第二弯曲半径小于该第三弯曲半径;和/或该第一弯曲半径小于该第三弯曲半径。
10.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,该流体流(F,F’)特别是在大体上垂直于该第一方向(R1,R1’)取向的第一平面(E,E’)中,借助于该第一引导元件(3,3’)、该第二引导元件(11,11’)和/或该第三引导元件以迷宫式或曲折式方式流动。
11.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,至少一个引导装置(13,13’),其优选地由该第二引导元件(11,11’)封闭并且特别地位于第二引导元件(11,11’)背离该第二引导表面(17,17’)的一侧上,其中该引导装置(13,13’)迫使该流体流(F,F’)进入该第一方向(R1,R1’)。
12.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,该第一引导元件(3,3’)、该第二引导元件(11,11’)和/或该第三引导元件通常位于该第一平面(E,E’)中。
13.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,至少一个支撑框架(9,9’),其优选地布置在该第一平面(E,E’)中,其中该第一引导元件(3,3’)、该第二引导元件(11,11’)和/或该第三引导元件至少间接地由该支撑框架(9,9’)支撑。
14.根据权利要求13的设备,其特征在于,该第一引导元件(3,3’)、该第二引导元件和/或第三引导元件,特别是该第一第三引导元件和/或该第二第三引导元件相对于该支撑框架(9,9’),特别是抵靠由至少一个复位设备(5,5’)形成的至少一个复位力可移动地加以安装,该复位设备优选地,至少部分地,与该第一引导元件(3,3’)一起制造为一体件;优选地,其中该第一引导元件(3,3’)相对于该第二引导元件(11,11’),该第三引导元件相对于该第二引导元件和/或该第二第三引导元件相对于该第一第三引导元件是可移动的。
15.根据权利要求14的设备,其特征在于,该复位设备包括至少一个弹簧元件(5,5’),优选地钢板弹簧、螺旋弹簧和/或弹性体弹簧。
16.根据权利要求14或15的设备,其特征在于,在该第二引导元件(11,11’)和该第一引导元件(3,3’)之间,在该第三引导元件和该第二引导元件之间和/或在该第二第三引导元件和该第一第三引导元件之间的间隙,优选地,根据该流体流(F,F’)的流动参数,如动态压力、静态压力、流量和/或流动速度,是可调节的但大于零,其中在该第二引导元件(11,11’)和该第一引导元件(3,3’)之间,在该第三引导元件和该第二引导元件之间和/或在该第二第三引导元件和该第一第三引导元件之间保持最小的间隙(5,5’)。
17.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,该第一引导元件(3,3’)至少部分地延伸到该第二引导元件(11,11’)中,该第二引导元件(11,11’)至少部分地延伸到该第一引导元件(3,3’)中,该第二引导元件至少部分地延伸到该第三引导元件中,该第三引导元件至少部分地延伸到该第二引导元件中,该第一第三引导元件至少部分地延伸到该第二第三引导元件中;和/或该第二第三引导元件至少部分地延伸到该第一第三引导元件中。
18.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,多个第一引导元件(3,3’)、第二引导元件(11,11’)和/或第三引导元件被布置在该第一平面(E,E’)中,其中,优选地至少两个第一引导元件(3,3’)、两个第二引导元件(11,11’)和/或两个第三引导元件被至少部分地制造为一体件并且特别地提供W形横截面。
19.根据前述权利要求中任一项的设备,其特征在于,该支撑框架(9,9’)、该第一引导元件(3,3’)、该第二引导元件(11,11’)和/或该第三引导元件,至少部分地,包括塑料材料,特别是注塑部件;和/或该第一引导元件(3,3’)、该第二引导元件、该第三引导元件和/或该复位设备(5,5’)包括至少一个金属,优选金属片,优选为冲孔金属片部件的形式。
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