CN107799416A - Rc‑igbt器件的背面加工方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种RC‑IGBT器件的背面加工方法，其包括如下步骤：步骤1、提供制备有正面元胞结构的RC‑IGBT晶圆，并将RC‑IGBT晶圆的背面减薄至所需的厚度；步骤2、对RC‑IGBT晶圆背面进行P型杂质离子注入；步骤3、将注入基片键合在上述RC‑IGBT晶圆的背面；步骤4、将N型杂质离子注入到RC‑IGBT晶圆的背面；步骤5、将注入基片与RC‑IGBT晶圆的背面分离，并激活RC‑IGBT晶圆背面的P型杂质离子与N型杂质离子；步骤6、对上述RC‑IGBT晶圆的背面金属化。本发明工艺步骤简单，能够省去RC‑IGBT晶圆背面N型杂质图形化注入所需的光刻工序，有效缩短RC‑IGBT晶圆的加工周期，降低加工成本，与现有工艺兼容，安全可靠。
Description
技术领域
本发明涉及一种加工方法，尤其是一种RC-IGBT器件的背面加工方法，属于微电子的技术领域。
背景技术
RC-IGBT器件背面含有图形化分布的P型掺杂和N型掺杂交错的区域。为了能在RC-IGBT器件的背面形成图形化分布的P型掺杂区域与N型掺杂区域，目前采用的主要方式包括对P型杂质进行整体注入，N型杂质进行图形化注入，其中，N型杂志浓度远大于P型杂质，然后通过激活杂质形成P型掺杂和N型掺杂交错的图形。
现有技术中，对RC-IGBT器件的背面加工方法包括如下步骤：
1)、将完成正面加工的RC-IGBT晶圆翻转，并对RC-IGBT晶圆的背面进行减薄；2)、背面P型杂质注入；3)、背面涂敷光刻胶；4)、使用背面N型注入光刻版对进行曝光；5)、光刻胶显影形成N型掺杂的注入阻挡层；6)、背面N型杂质注入(N型杂质的注入剂量远大于P型杂质)；7)、去除剩余光刻胶；8)、高温或激光激活P型和N型杂质；9)、背面金属化。
因此，现有技术中需要对RC-IGBT晶圆背面进行光刻加工工序，导致晶圆背面光刻加工工序成本高、生产周期长，不利于RC-IGBT进一步发展。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种RC-IGBT器件的背面加工方法，其工艺步骤简单，能够省去RC-IGBT晶圆背面N型杂质图形化注入所需的光刻工序，有效缩短RC-IGBT晶圆的加工周期，降低加工成本，与现有工艺兼容，安全可靠。
按照本发明提供的技术方案，一种RC-IGBT器件的背面加工方法，所述背面加工方法包括如下步骤：
步骤1、提供制备有正面元胞结构的RC-IGBT晶圆，并将所述RC-IGBT晶圆的背面减薄至所需的厚度；
步骤2、对上述减薄后RC-IGBT晶圆背面进行P型杂质离子注入；
步骤3、提供具有注入图形的注入基片，并将所述注入基片键合在上述RC-IGBT晶圆的背面；
步骤4、利用上述注入基片的注入图形，将N型杂质离子注入到RC-IGBT晶圆的背面，其中，N型杂质离子的注入剂量大于P型杂质离子的注入剂量；
步骤5、将注入基片与RC-IGBT晶圆的背面分离，并激活RC-IGBT晶圆背面的P型杂质离子与N型杂质离子，以在RC-IGBT晶圆背面形成所需图形化分布的P型掺杂区域与N型掺杂区域；
步骤6、对上述RC-IGBT晶圆的背面金属化，以得到与P型掺杂区域、N型掺杂区域欧姆接触的集电极金属。
步骤1中，对RC-IGBT晶圆背面减薄的过程包括利用机械研磨减薄以及化学腐蚀减薄。
所述注入基片的形状与RC-IGBT晶圆相一致，注入图形贯通注入基片，N型杂质离子通过注入图形能注入到RC-IGBT晶圆的背面。
所述注入基片呈圆形，注入基片上设置缺角或缺口。
所述注入基片的材料包括玻璃，注入基片的厚度为RC-IGBT晶圆厚度的1/5～1/2。
所述注入基片的厚度为50μm～300μm。
注入图形包括若干贯通注入基片的圆孔，圆孔在注入基片上呈矩形或品字形均匀排列。
激活P型杂质离子、N型杂质离子的方法包括高温激活或激光激活。
RC-IGBT晶圆包括第一导电类型基区，正面元胞结构包括设置于第一导电类型基区内上部的第二导电类型基区，在第二导电类型基区内设置元胞沟槽，元胞沟槽的槽底位于第二导电类型基区下方的第一导电类型基区内，元胞沟槽内的侧壁以及底壁生长有绝缘栅氧化层，在生长有绝缘栅氧化层的元胞沟槽内填充有导电多晶硅，在相邻元胞沟槽侧壁外上方设有第一导电类型源区，第一导电类型源区位于第二导电类型基区内且第一导电类型源区与相应的元胞沟槽侧壁接触；相邻元胞沟槽间的第一导电类型源区通过第二导电类型体区隔离，第一导电类型源区以及第二导电类型体区均与第一导电类型基区正面正上方的源极金属欧姆接触，源极金属通过绝缘介质层与导电多晶硅绝缘隔离。
本发明的优点：利用注入基片以及注入图形能使得N型杂质离子注入到RC-IGBT晶圆的背面，当注入基片与RC-IGBT晶圆的背面分离后，注入基片依然可以用作其他RC-IGBT晶圆背面N型杂质离子的注入过程，只要利用注入基片以及注入图形能得到所需图形化分布的P型掺杂区域以及N型掺杂区域即可，从而能够省去RC-IGBT晶圆背面N型杂质图形化注入所需的光刻工序，有效缩短RC-IGBT晶圆的加工周期，降低加工成本，与现有工艺兼容，安全可靠。
附图说明
图1为本发明的流程图。
图2为本发明一种N型RC-IGBT器件的剖视图。
图3为本发明注入基片的结构示意图。
图4为本发明注入基片的另一种结构示意图。
附图标记说明：1-N型基区、2-元胞沟槽、3-绝缘栅氧化层、4-导电多晶硅、5-P型基区、6-N+源区、7-P+体区、8-绝缘介质层、9-源极金属、10-P型掺杂区域、11-N型掺杂区域、12-集电极金属、13-注入基片、14-缺角以及15-缺口。
具体实施方式
下面结合具体附图和实施例对本发明作进一步说明。
如图1所示：为了能够省去RC-IGBT晶圆背面N型杂质图形化注入所需的光刻工序，有效缩短RC-IGBT晶圆的加工周期，降低加工成本，与现有工艺兼容，本发明背面加工方法包括如下步骤：
步骤1、提供制备有正面元胞结构的RC-IGBT晶圆，并将所述RC-IGBT晶圆的背面减薄至所需的厚度；
具体地，根据实际的需要在RC-IGBT晶圆的正面制备正面元胞结构，具体制备正面元胞结构的过程以及工艺条件等均可以采用现有常用的技术手段，具体为本机司令员人员所熟知，此处不再赘述。在制备得到正面元胞结构后，将RC-IGBT晶圆进行减薄，具体减薄后的厚度可以根据需要进行选择确定，此处不再赘述。具体实施时，对RC-IGBT晶圆背面减薄的过程包括利用机械研磨减薄以及化学腐蚀减薄。先利用机械研磨减薄，在利用化学腐蚀减薄，具体减薄的工艺过程等均与现有相同，此处不再赘述。
步骤2、对上述减薄后RC-IGBT晶圆背面进行P型杂质离子注入；
具体地，在RC-IGBT晶圆的背面减薄后，对RC-IGBT晶圆的背面进行P型杂质离子注入，以在RC-IGBT晶圆的背面得到P型层，P型层横贯RC-IGBT晶圆，具体进行P型杂质离子注入的过程等均与现有技术相同，此处不再赘述。
步骤3、提供具有注入图形的注入基片13，并将所述注入基片13键合在上述RC-IGBT晶圆的背面；
具体地，所述注入基片13的形状与RC-IGBT晶圆相一致，注入图形贯通注入基片13，一般地，注入基片13的尺寸以及形状均与RC-IGBT晶圆的背面相一致，当注入基片13键合固定在RC-IGBT晶圆的背面时，能有效贴合在RC-IGBT晶圆的背面，实现对RC-IGBT晶圆的背面进行有效遮挡。具体实施是，RC-IGBT晶圆的外圈边缘具有缺角14或缺口15，为了能与RC-IGBT晶圆适配，在注入基片13上也需要设置缺角14或缺口15，如图3和图4所示。
所述注入基片13的材料包括玻璃，注入基片13的厚度为RC-IGBT晶圆厚度的1/5～1/2，具体实施时，注入基片13的厚度为50μm～300μm。注入图形包括若干贯通注入基片13的圆孔，圆孔在注入基片13上呈矩形或品字形均匀规则排列。注入基片13上注入图形具体的形式等需要与在RC-IGBT晶圆背面形成P型掺杂区10与N型掺杂区域11的图形化分布相关。
步骤4、利用上述注入基片13的注入图形，将N型杂质离子注入到RC-IGBT晶圆的背面，其中，N型杂质离子的注入剂量大于P型杂质离子的注入剂量；
具体地，在注入基片13键合到RC-IGBT晶圆的背面后，由于只有注入图形的位置才能允许N型杂质离子通过并注入到RC-IGBT晶圆的背面，未有注入图形的其余位置阻挡N型杂质离子注入到RC-IGBT晶圆的背面。N型杂质离子通过注入图形注入RC-IGBT晶圆的背面。由于之前在RC-IGBT晶圆的背面得到P型层，为了能得到N型掺杂区域11，需要使得N型杂质离子的注入剂量大于P型杂质离子的注入剂量，N型杂质离子的具体注入剂量可以根据需要进行选择，此处不再赘述。
步骤5、将注入基片13与RC-IGBT晶圆的背面分离，并激活RC-IGBT晶圆背面的P型杂质离子与N型杂质离子，以在RC-IGBT晶圆背面形成所需图形化分布的P型掺杂区域10与N型掺杂区域11；
具体地，注入基片13采用常用的技术手段实现与RC-IGBT晶圆的背面键合，在键合后，采用相应的技术手段能实现注入基片13与RC-IGBT晶圆的分离，注入基片13与RC-IGBT晶圆间的键合方式以及解键合的过程等均可以选择现有常用的技术手段，具体为本技术领域人员所熟知，只要能实现所需的键合与解键合需要即可，此处不再赘述。
在将注入基片13与RC-IGBT晶圆的背面分离后，采用高温激活或激光激活的方式激活上述注入的P型杂质离子、N型杂质离子，在激活后，以在RC-IGBT晶圆背面形成图形化分布的P型掺杂区域10与N型掺杂区域11，不同的N型掺杂区域11的位置分布等可以通过调整注入基片13上的注入图形实现，具体为本技术领域人员所熟知。高温激活、激光激活的具体工艺过程等均与现有技术相同，具体为本技术领域人员所熟知，此处不再赘述。
步骤6、对上述RC-IGBT晶圆的背面金属化，以得到与P型掺杂区域10、N型掺杂区域11欧姆接触的集电极金属12。
具体地，采用本技术领域常用的技术手段制备得到集电极金属12，集电极金属12与P型掺杂区域10、N型掺杂区域11欧姆接触。
如图2所示，为制备得到RC-IGBT器件的剖视图，以N型RC-IGBT器件为例，RC-IGBT晶圆包括N型基区1，正面元胞结构包括设置于N型基区1内上部的P型基区5，在P型基区5内设置元胞沟槽2，元胞沟槽2的槽底位于P型基区5下方的N型基区1内，元胞沟槽2内的侧壁以及底壁生长有绝缘栅氧化层3，在生长有绝缘栅氧化层3的元胞沟槽2内填充有导电多晶硅4，在相邻元胞沟槽2侧壁外上方设有N+源区6，N+源区6位于P型基区5内且N+源区6与相应的元胞沟槽3侧壁接触；相邻元胞沟槽3间的N+源区6通过P型体区7隔离，N+源区6以及P型体区6均与N型基区1正面正上方的源极金属9欧姆接触，源极金属9通过绝缘介质8层与导电多晶硅4绝缘隔离。
本发明实施例中，P型基区5位于N型基区1内的上部，P型基区5从N型基区1的正面向下延伸，P型基区5横贯N型基区1的有源区，元胞沟槽2的深度小于N型基区1的厚度，P型体区7的掺杂浓度大于P型基区5的掺杂浓度，绝缘介质层8覆盖元胞沟槽2的槽口，元胞沟槽2从N型基区1的正面垂直向下延伸，源极金属9与N+源区6以及P型体区7欧姆接触后，能形成IGBT器件的源电极。同理，根据上述结构，能得到P型RC-IGBT器件。
具体实施时，当注入基片13与RC-IGBT晶圆的背面分离后，注入基片13依然可以用作其他RC-IGBT晶圆背面N型杂质离子的注入过程，只要利用注入基片13以及注入图形能得到所需图形化分布的P型掺杂区域10以及N型掺杂区域11即可，从而能够省去RC-IGBT晶圆背面N型杂质图形化注入所需的光刻工序，有效缩短RC-IGBT晶圆的加工周期，降低加工成本，与现有工艺兼容，安全可靠。
Claims (9)
1.一种RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是，所述背面加工方法包括如下步骤：
步骤1、提供制备有正面元胞结构的RC-IGBT晶圆，并将所述RC-IGBT晶圆的背面减薄至所需的厚度；
步骤2、对上述减薄后RC-IGBT晶圆背面进行P型杂质离子注入；
步骤3、提供具有注入图形的注入基片，并将所述注入基片键合在上述RC-IGBT晶圆的背面；
步骤4、利用上述注入基片的注入图形，将N型杂质离子注入到RC-IGBT晶圆的背面，其中，N型杂质离子的注入剂量大于P型杂质离子的注入剂量；
步骤5、将注入基片与RC-IGBT晶圆的背面分离，并激活RC-IGBT晶圆背面的P型杂质离子与N型杂质离子，以在RC-IGBT晶圆背面形成所需图形化分布的P型掺杂区域与N型掺杂区域；
步骤6、对上述RC-IGBT晶圆的背面金属化，以得到与P型掺杂区域、N型掺杂区域欧姆接触的集电极金属。
2.根据权利要求1所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：步骤1中，对RC-IGBT晶圆背面减薄的过程包括利用机械研磨减薄以及化学腐蚀减薄。
3.根据权利要求1所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：所述注入基片的形状与RC-IGBT晶圆相一致，注入图形贯通注入基片，N型杂质离子通过注入图形能注入到RC-IGBT晶圆的背面。
4.根据权利要求3所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：所述注入基片呈圆形，注入基片上设置缺角或缺口。
5.根据权利要求1或2或3或4所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：所述注入基片的材料包括玻璃，注入基片的厚度为RC-IGBT晶圆厚度的1/5～1/2。
6.根据权利要求5所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：所述注入基片的厚度为50μm～300μm。
7.根据权利要求1或2或3或4所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：注入图形包括若干贯通注入基片的圆孔，圆孔在注入基片上呈矩形或品字形均匀排列。
8.根据权利要求1所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：激活P型杂质离子、N型杂质离子的方法包括高温激活或激光激活。
9.根据权利要求1所述的RC-IGBT器件的背面加工方法，其特征是：RC-IGBT晶圆包括第一导电类型基区，正面元胞结构包括设置于第一导电类型基区内上部的第二导电类型基区，在第二导电类型基区内设置元胞沟槽，元胞沟槽的槽底位于第二导电类型基区下方的第一导电类型基区内，元胞沟槽内的侧壁以及底壁生长有绝缘栅氧化层，在生长有绝缘栅氧化层的元胞沟槽内填充有导电多晶硅，在相邻元胞沟槽侧壁外上方设有第一导电类型源区，第一导电类型源区位于第二导电类型基区内且第一导电类型源区与相应的元胞沟槽侧壁接触；相邻元胞沟槽间的第一导电类型源区通过第二导电类型体区隔离，第一导电类型源区以及第二导电类型体区均与第一导电类型基区正面正上方的源极金属欧姆接触，源极金属通过绝缘介质层与导电多晶硅绝缘隔离。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20180313 |