CN107785291B - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种谋求更加省空间化的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置，并向处理单元的内部供给气体。另外，气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外，引进部配置于腔室的侧方，并且，在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及基板处理装置。
背景技术
以往，公知有一种基板处理装置，该基板处理装置具备：单张式的多个处理单元，其在保持半导体晶圆等基板、同时使其旋转的状态下，向基板的表面、表背面供给处理液来对基板进行液处理；以及输送装置，其进行基板的相对于这些处理单元的输入输出。
在该基板处理装置中，存在为了抑制装置的占用空间增加的情况、同时获得更高的生产率，采用了将处理单元层叠成多层的布局的基板处理装置，(参照例如专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2012-142404号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，对于上述的现有技术，在谋求更加省空间化这一点存在进一步的改善的余地。
具体而言，如上述那样地层叠处理单元的做法在谋求省空间化、同时使生产率提高方面是有效的，但如果增加层叠数，则装置的高度就增加，因此，存在层叠处理单元、同时也想尽可能抑制装置的高度这样的要求。
这一点，在专利文献1所公开的装置中，在层叠起来的处理单元的各层的上方配设有向处理单元进行供气的通用的供气管道和通用的风扇单元，因此，难以满足上述的要求。
实施方式的一形态的目的在于提供一种能够谋求更加省空间化的基板处理装置。
用于解决问题的方案
实施方式的一技术方案的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置，并向处理单元的内部供给气体。另外，气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外，引进部配置于腔室的侧方，并且，在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。
发明的效果
根据实施方式的一技术方案，能够谋求更加省空间化。
附图说明
图1是表示本实施方式的基板处理系统的概略结构的图。
图2是表示处理单元的概略结构的图。
图3是表示基板处理系统所具备的处理液供给系统的概略结构的图。
图4是表示处理单元的排气路径的图。
图5A是表示框架构造体的概略结构的图(其1)。
图5B是表示框架构造体的概略结构的图(其2)。
图5C是表示框架构造体的概略结构的图(其3)。
图5D是表示框架构造体的概略结构的图(其4)。
图6A是处理站的示意主视图。
图6B是处理站的示意俯视图。
图6C是处理单元的示意主视图。
图6D是处理单元的示意俯视图(其1)。
图7A是表示处理流体的供给管线的处理站的示意主视图。
图7B是图7A所示的A-A’线大致剖视图。
图7C是图7B所示的M2部的放大图。
图7D是表示第2排气管与壳体之间的连接部的示意立体图。
图7E是图7B所示的B-B’线大致剖视图。
图7F是图7E所示的M3部的放大图。
图7G是表示对处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气的排气路径的处理站的示意主视图。
图8是表示排气切换单元的结构的图。
图9A是处理单元的示意俯视图(其2)。
图9B是表示引进部的结构的示意图(其1)。
图9C是表示供气部的结构的示意图。
图9D是表示引进部的结构的示意图(其2)。
图10是表示在基板处理系统中所执行的基板处理的处理顺序的一个例子的流程图。
附图标记说明
1、基板处理系统；16、处理单元；20、腔室；21、FFU；21a、引进部；21b、供气部。
具体实施方式
以下，参照附图，详细地说明本申请所公开的基板处理装置的实施方式。此外，本发明并不被以下所示的实施方式限定。
图1是表示本实施方式的基板处理系统的概略结构的图。以下，为了使位置关系清楚，对互相正交的X轴、Y轴及Z轴进行规定，将Z轴正方向设为铅垂朝上方向。
如图1所示，基板处理系统1包括输入输出站2和处理站3。输入输出站2和处理站3相邻地设置。
输入输出站2包括承载件载置部11和输送部12。在承载件载置部11上载置多个承载件C，该多个承载件C用于将多张基板、在本实施方式中为半导体晶圆(以下称作晶圆W)以水平状态收纳。
输送部2与承载件载置部11相邻地设置，在输送部12的内部具有基板输送装置13和交接部14。基板输送装置13具有用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板输送装置13能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴线为中心进行旋转，其使用晶圆保持机构在承载件C与交接部14之间输送晶圆W。
处理站3与输送部12相邻地设置。处理站3包括输送部15和多个处理单元16。多个处理单元16以排列在输送部15的两侧的方式设置。
输送部15在内部具有基板输送装置17。基板输送装置17具有用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板输送装置17能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴线为中心进行旋转，其使用晶圆保持机构在交接部14与处理单元16之间输送晶圆W。
处理单元16用于对由基板输送装置17输送过来的晶圆W进行预先设定的基板处理。
另外，基板处理系统1包括控制装置4。控制装置4例如是计算机，其包括控制部18和存储部19。在存储部19中存储有用于对在基板处理系统1中执行的各种处理进行控制的程序。控制部18通过读取并执行被存储在存储部19中的程序来控制基板处理系统1的动作。
此外，该程序既可以是存储在可由计算机读取的存储介质中的程序，也可以是从该存储介质安装到控制装置4的存储部19中的程序。作为可由计算机读取的存储介质，存在例如硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、光磁盘(MO)以及存储卡等。
在如所述那样构成的基板处理系统1中，首先，输入输出站2的基板输送装置13将晶圆W自载置于承载件载置部11的承载件C取出，并将取出后的晶圆W载置于交接部14。利用处理站3的基板输送装置17将被载置于交接部14的晶圆W自交接部14取出并将其输入到处理单元16中。
在利用处理单元16对被输入到处理单元16中的晶圆W进行处理之后，利用基板输送装置17将该晶圆W自处理单元16输出并将其载置于交接部14。然后，利用基板输送装置13将载置于交接部14的处理完成后的晶圆W返回到载置部11的承载件C。
接下来，参照图2说明处理单元16的结构。图2是表示处理单元16的概略结构的图。
如图2所示，处理单元16包括腔室20、基板保持机构30、处理流体供给部40以及回收杯50。
腔室20用于收纳基板保持机构30、处理流体供给部40以及回收杯50。在腔室20的顶部设有FFU(Fan Filter Unit：风机过滤单元)21。FFU21用于在腔室20内形成下降流。
基板保持机构30包括保持部31、支柱部32以及驱动部33。保持部31水平保持晶圆W。支柱部32是沿铅垂方向延伸的构件，其基端部被驱动部33支承为能够旋转，支柱部32在顶端部水平支承保持部31。驱动部33用于使支柱部32绕铅垂轴线旋转。该基板保持机构30通过使用驱动部33使支柱部32旋转而使由支柱部32支承着的保持部31旋转，由此，使由保持部31保持着的晶圆W旋转。
处理流体供给部40用于对晶圆W供给处理流体。处理流体供给部40与处理流体供给源70相连接。
回收杯50以包围旋转保持部31的方式配置，以收集因保持部31的旋转而自晶圆W飞散的处理液。在回收杯50的底部形成有排液口51，自该排液口51将由回收杯50收集到的处理液排出到处理单元16的外部。另外，在回收杯50的底部形成有排气口52，该排气口52用于将自FFU21供给过来的气体排出到处理单元16的外部。
接着，参照图3对基板处理系统1所具备的处理液供给系统的概略结构进行说明。图3是表示基板处理系统1所具备的处理液供给系统的概略结构的图。
如图3所示，基板处理系统1所具备的处理液供给系统具有向多个处理单元16供给处理液的处理流体供给源70。
处理流体供给源70具有贮存处理液的罐102和从罐102出来并返回罐102的循环管线104。在循环管线104设置有泵106。泵106形成从罐102出来并经由循环管线104返回罐102的循环流。在循环管线104的位于泵106的下游侧的部分设置有对处理液所含有的微粒等污染物质进行去除的过滤器108。也可以根据需要在循环管线104进一步设置辅助设备类(例如加热器等)。
在设定于循环管线104的连接区域110连接有1个或多个分支管线112。各分支管线112将在循环管线104中流动的处理液向所对应的处理单元16供给。在各分支管线112能够根据需要设置流量控制阀等流量调整机构、过滤器等。
基板处理系统1具有向罐102补充处理液或处理液构成成分的罐液补充部116。在罐102设置有用于废弃罐102内的处理液的废液部118。
接着，参照图4对处理单元16的排气路径进行说明。图4是表示处理单元16的排气路径的图。此外，在图4中，主要示出为了说明处理单元16的排气路径所需要的构成要素，适当省略了对一般的构成要素的记载。
首先，对本实施方式的处理单元16的结构进行说明。如图4所示，处理单元16所具备的处理流体供给部40具备喷嘴41和一端与该喷嘴41连接的配管42。配管42的另一端分支成多个，在分支出来的各端部分别连接有碱系处理液供给源71、酸系处理液供给源72、有机系处理液供给源73以及DIW供给源74。另外，在各供给源71～74与喷嘴41之间设置有阀75～78。
该处理流体供给部40将从各供给源71～74供给的碱系处理液、酸系处理液、有机系处理液以及DIW(纯水)从喷嘴41向晶圆W的表面(被处理面)供给。
在本实施方式中，使用SC1(氨、过氧化氢和水的混合液)作为碱系处理液，使用HF(氢氟酸)作为酸系处理液，使用IPA(异丙醇)作为有机系处理液。此外，酸系处理液、碱系处理液以及有机系处理液并不限定于这些。
另外，在本实施方式中，碱系处理液、酸系处理液、有机系处理液以及DIW从1个喷嘴41供给，但处理流体供给部40也可以具备与各处理液相对应的多个喷嘴。
在此，优选的是，出于防止例如排气管的污染等方面考虑，在SC1使用时从处理单元16排出的碱系排气、在HF使用时从处理单元16排出的酸系排气、在IPA使用时从处理单元16排出的有机系排气单独地排出。因此，在本实施方式的基板处理系统1中，针对碱系排气、酸系排气以及有机系排气分别设置有排气路径。
对该排气路径的结构进行说明。基板处理系统1的处理站3具备主排气管120、第1排气管200以及排气切换单元300作为处理单元16的排气路径。
主排气管120具备多个单独排气管121～123。单独排气管121是供碱系排气流动的排气管，单独排气管122是供酸系排气流动的排气管，单独排气管123是供有机系排气流动的排气管。在这些单独排气管121～123分别设置有排气机构151～153。作为排气机构151～153，能够使用泵等吸气装置。
本实施方式的单独排气管121～123的至少一部分配置于比处理单元16靠上方的位置。后述单独排气管121～123的具体的配置。
第1排气管200是将来自处理单元16的排气向主排气管120引导的配管。该第1排气管200的一端侧与处理单元16的排气口52连接，另一端经由后述的排气切换单元300与主排气管120的配置于比处理单元16靠上方的部分连接。
第1排气管200具备：水平部201，其从处理单元16的排气口52水平地延伸；以及上升部202，其设置于水平部201的下游侧，并朝向上方铅垂地延伸。另外，在上升部202的最下位置设置有将第1排气管200内的液体向外部排出的废液部250。
排气切换单元300与第1排气管200的上升部202连接，将来自处理单元16的排气的流出目的地切换成单独排气管121～123中的任一者。与主排气管120同样地，该排气切换单元300也配置于比处理单元16靠上方的位置。
处理单元16的排气路径如上述那样地构成，来自处理单元16的排气经由第1排气管200以及排气切换单元300向单独排气管121～123中的任一者流出。
在此，在本实施方式的基板处理系统1中，如上所述，主排气管120的至少一部分和排气切换单元300配置于比处理单元16靠上方的位置，第1排气管200的另一端侧经由排气切换单元300与主排气管120的配置于比处理单元16靠上方的部分连接。由此，来自处理单元16的排气在第1排气管200的上升部202中上升了之后，从排气切换单元300向主排气管120流出。
另外，在此虽未图示，但在本实施方式中，还设置有对各供给源71～74、阀75～78等处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气的排气路径。该排气路径使用后述的第2排气管500、第3排气管600(参照随后示出的图7G等)来形成，以利用主排气管120来进行排气的方式连接到排气切换单元300。由此，能够进行应对处理流体的供给管线周围处的处理流体的泄漏的排气。
以下，参照图5A及其以后附图依次说明包括上述的主排气管120、第1排气管200以及排气切换单元300的配置在内的处理站3的更具体的结构。
首先，处理站3具备框架构造体400，该框架构造体400具有多个柱部401和多个梁部402，在由柱部401和梁部402形成的收纳空间收纳有多个处理单元16。多个处理单元16沿着输送部15(参照图1)的延伸方向、即X轴方向并列地配置，且多层地层叠。
在此，参照图5A～图5D预先对本实施方式的框架构造体400的概略结构进行说明。图5A～图5D是表示框架构造体400的概略结构的图(其1)～(其4)。
此外，图5A是框架构造体400的示意立体图，图5B是以YZ平面剖切相对的1组第1梁部402-1和第2梁部402-2的情况下的剖视图，图5C是以XY平面剖切相对的第1柱部401-1的组和第2柱部401-2的组的情况下的剖视图，图5D是图5C所示的M1部的放大图。
如图5A所示，框架构造体400的柱部401至少包括垂直地设置于该X轴负方向侧的端部的第1柱部401-1以及垂直地设置于该X轴正方向侧的端部的第2柱部401-2。
另外，框架构造体400的梁部402沿着处理单元16的排列方向、即X轴方向水平且多层地设置，包括：第1梁部402-1，其配置于处理单元16的Y轴负方向侧；以及第2梁部402-2，其与该第1梁部402-1平行地配置于处理单元16的Y轴正方向侧。
此外，优选的是，柱部401或梁部402使用方管、型材这样的方材。通过使用方材，能够易于在各相对面之间等形成构件(例如配管等)的可收纳区域。
并且，如图5A所示，框架构造体400基本上是由第1柱部401-1、第2柱部401-2以及多个第1梁部402-1构成的构造体、和由第1柱部401-1、第2柱部401-2以及多个第2梁部402-2构成的构造体组合而形成收纳空间。
不过，在本实施方式中，如在图5A中以双点划线所示，设为尽量不在框架构造体400设置沿着宽度方向架设的梁的构造。在本实施方式中，如图5B所示，相对的1组第1梁部402-1和第2梁部402-2的各自下表面由板材403连结。
由此，如图5B所示，位于第1梁部402-1和第2梁部402-2的相对面之间、且具有第1梁部402-1以及第2梁部402-2的高度h的可收纳区域R1如图5C所示那样能够沿着整个排列方向形成。
另外，通过如上述那样第1梁部402-1和第2梁部402-2由板材403连结，如图5D所示，位于例如第2柱部401-2的组的相对面之间、且具有第2柱部401-2的宽度w的可收纳区域R2能够沿着第2柱部401-2的延伸方向形成。
在本实施方式中，通过灵活运用这些可收纳区域R1、R2且将以处理单元16为首的处理站3的各种构成要素收纳于框架构造体400的收纳空间，谋求了装置整体的省空间化。以下，依次说明其具体例。
图6A是处理站3的示意主视图。另外，图6B是该处理站3的示意俯视图。此外，在此所谓的主视图是从维护区域侧沿Y轴正方向观察处理站3情况下的图，俯视图是沿Z轴负方向观察处理站3的情况下的图。另外，维护区域侧是从处理站3的外侧面对处理单元16的排的那一侧。
如图6A所示，在本实施方式中，处理单元16例如上下层叠成两层。以下，存在将上下层叠成两层的处理单元16中的、配置于上层的处理单元16记载为“处理单元16U”，将配置于下层的处理单元16记载为“处理单元16L”的情况。
此外，在本实施方式中，表示处理单元16被上下层叠成两层的情况的例子，但处理单元16的层叠数并不限定于两层。另外，在本实施方式中，表示5台处理单元16并列配置的情况的例子，但并列配置的处理单元16的台数并不限定于5台。
如图6B所示，主排气管120所具有的单独排气管121～123配置于框架构造体400的上部。另外，如图6A所示，在单独排气管121～123的上部配置有与各处理单元16相对应的多个排气切换单元300。另外，这些主排气管120和排气切换单元300收纳到壳体301，并与框架构造体400划分开。此外，壳体301以能够引进外部空气的方式与外部空间连通。
另外，如图6A所示，主排气管120配置于比配置于最上层的处理单元16U靠上方的位置，且与上层侧的处理单元16U和下层侧的处理单元16L分别相对应的第1排气管200U、200L经由排气切换单元300U、300L连接。
如此，在本实施方式中，上层侧的处理单元16U和下层侧的处理单元16L共用主排气管120。因此，与在上层侧的处理单元16U和下层侧的处理单元16L分别设置有主排气管120的情况相比，能够将基板处理系统1的制造成本抑制得较低。另外，能够抑制处理站3的高度增大，谋求省空间。
此外，如图6B所示，基板处理系统1具备：与配置于比输送部15靠Y轴负方向侧的处理单元16相对应的主排气管120、以及与配置于比输送部15靠Y轴正方向侧的处理单元16相对应的主排气管120。各主排气管120分别配置于所对应的处理单元16所配置的区域的上方。
在此，多个第1排气管200中的、与上层的处理单元16U连接的第1排气管200U、与下层的处理单元16L连接的第1排气管200L排列配置于处理单元16U、16L的一部分的背侧。
例如，如图6A和图6B所示，对于第1排气管200U、200L，在处理单元16U、16L的一部分的背侧，从靠近输送部15的一侧依次配置有第1排气管200L、第1排气管200U。此外，在此所谓的处理单元16U、16L的一部分相当于后述的FFU21的引进部21a(参照随后所示的图6D)。
另外，多个排气切换单元300中的、与上层的处理单元16U相对应的排气切换单元300U、与下层的处理单元16L相对应的排气切换单元300L沿着处理单元16的排列方向交替配置。
并且，排气切换单元300U和排气切换单元300L具有相同的构造，且、彼此相对地配置。具体而言，如图6A所示，在沿Y轴正方向观察处理站3的情况下，与上层的处理单元16U相对应的排气切换单元300U和与下层的处理单元16L相对应的排气切换单元300L配置成以与这些处理单元16U、16L连接的第1排气管200U、200L为中心线x呈线对称。
如此，在本实施方式中，与上层的处理单元16U连接的第1排气管200U和与下层的处理单元16L连接的第1排气管200L排列配置于处理单元16U、16L的一部分的背侧。另外，与上层的处理单元16U相对应的排气切换单元300U和与下层的处理单元16L相对应的排气切换单元300L相对地配置成以这些第1排气管200U、200L为中心线x呈线对称。
通过设为这样的配置，容易使第1排气管200U、200L、排气切换单元300U、300L在上层和下层通用化。此外，排气切换单元300U和排气切换单元300L也可以未必相对地配置。
另外，如图6A和图6B所示，处理站3具备第2排气管500。第2排气管500构成如上述那样对处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气的排气路径中的、垂直方向的路径。
如图6A和图6B所示，第2排气管500配置于与上述的可收纳区域R2(参照图5D)相对应的、第1柱部401-1的组的相对面之间、或、第2柱部401-2的组的相对面之间。由此，能够形成灵活运用了可收纳区域R2的排气路径，能够有助于装置整体的省空间化。
另外，在此并未图示的第3排气管600构成对处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气的排气路径中的、水平方向的路径。第3排气管600配置于与上述的可收纳区域R1(参照图5B)相对应的、第1梁部402-1以及第2梁部402-2的相对面之间。由此，能够形成灵活运用了可收纳区域R1的排气路径，能够有助于装置整体的省空间化。在参照图7A及其以后的附图的说明中，后述第2排气管500和第3排气管600的详细情况。
此外，如图6A所示，由第2排气管500和第3排气管600形成的排气路径的排气口501a连接到收纳排气切换单元300的壳体301。
接着，参照图6C和图6D对处理单元16的更具体的结构进行说明。图6C是处理单元16的示意主视图。另外，图6D是处理单元16的示意俯视图(其1)。
如图6C所示，处理单元16具备腔室20和FFU21。FFU21具备引进部21a和供气部21b。引进部21a是引进外部空气的单元，配置于腔室20的侧方，并且在层叠地配置的处理单元16之间配置于腔室20的同一侧面。并且，如图6D所示，引进部21a从维护区域侧将外部空气引进而利用过滤器等将外部空气清洁化成清洁空气且向供气部21b送入。此外，如图6D所示，引进部21a相对于供气部21b以在输送部15侧形成空闲空间的方式配置。
如图6C和图6D所示，供气部21b设置成，配置于腔室20的上方而腔室20侧开口，并且在侧方与引进部21a连接而与该引进部21a连通。并且，供气部21b利用从引进部21a送入的清洁空气在腔室20内形成下降流。
如此，多个处理单元16分别通过将单独的外部空气的引进部21a设置于腔室20的一侧的侧方，从而在将处理单元16层叠起来的情况下，能够抑制高度增大。即、能够谋求更加省空间化。
另外，通过如此地在多个处理单元16分别设置外部空气的引进部21a，能够针对各处理单元16对下降流进行调整。即、能够有助于将多个处理单元16各自的晶圆W的处理品质保持均等。
另外，如图6C和图6D所示，上述的第1排气管200U、200L配置于引进部21a的背后、且腔室20的侧方的、上述的空闲空间。即、相对于设置于处理单元16的侧方、且是与配置有引进部21a的侧面不同的位置的输送部15，从靠近该输送部15的一侧依次配置第1排气管200L、第1排气管200U、引进部21a。如此，第1排气管200U、200L相对于腔室20配置于与引进部21a相同的侧面，并在腔室20的侧面沿上下延伸。由此，在处理单元16单独地设置有引进部21a，同时也能够防止由于第1排气管200U、200L而处理单元16的占有空间增大。即、能够有助于装置整体的省空间化。
另外，如图6C所示，在腔室20的下部配置有电气组件箱22。电气组件箱22是供电气组件收纳的容器，供例如驱动部33(参照图2)等收纳。在引进部21a的下部配置气箱23。气箱23是供构成后述的低露点气体的供给管线的部件收纳的容器，供例如阀23b(参照随后所示的图9C)等收纳。参照图9A～图9D后述包括低露点气体的供给管线在内的、更加具体的FFU21的结构。
另外，在电气组件箱22和气箱23的下部配置有阀室24。阀室24是供构成处理流体的供给管线的部件收纳的容器，供包括例如阀75～78(参照图4)等在内的流通控制部、过滤器、流量计等收纳。另外，在阀室24的下部以与上述的第3排气管600连通的方式连接有第3排气管600。
接着，参照图7A～图7G对包括该第3排气管600和上述的第2排气管500在内的、对处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气的排气路径的结构进行说明。
图7A是表示处理流体的供给管线的处理站3的示意主视图。图7B是图7A所示的A-A’线大致剖视图。图7C是图7B所示的M2部的放大图。图7D是表示第2排气管500与壳体301之间的连接部的示意立体图。
图7E是图7B所示的B-B’线大致剖视图。图7F是图7E所示的M3部的放大图。图7G是表示对处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气的排气路径的处理站3的示意主视图。
首先，如图7A所示，在框架构造体400的剩余空间410配置有处理流体供给源70。
如在图7A中以粗的箭头所示，处理流体的供给管线形成为，从例如处理流体供给源70垂直地穿过第1柱部401-1的背后，在中途分支而水平地在处理单元16U、16L各自的下方的第1梁部402-1的背后穿过。形成为，然后，进一步在第2柱部401-2的背后垂直地穿过同时汇合、水平地穿过最下层的第1梁部402-1的背后而返回处理流体供给源70。
此外，在此所谓的“背后”与上述的“相对面之间”相对应。另外，如此地形成的供给管线相当于上述的循环管线104(参照图3)。
首先，在第1柱部401-1或第2柱部401-2的背后垂直地穿过的循环管线104以在配置于上述的可收纳区域R2的、图7B所示的第2排气管500中穿过的方式形成。第2排气管500相对于腔室20以穿过与配置有引进部21a的侧面相反的一侧的侧方、或、穿过引进部21a的侧方的方式配置。
具体而言，如图7C所示，第2排气管500配置于第1柱部401-1的组的相对面之间、或、第2柱部401-2的组的相对面之间，并以形成循环管线104的垂直配管104V在其中穿过的方式配置。因而，第2排气管500相当于收纳垂直配管104V的壳体。
垂直配管104V是并列设置于第2排气管500内的多个垂直方向的配管组，各自单独地供从各供给源71～74供给的碱系处理液、酸系处理液、有机系处理液以及DIW(纯水)流通。
并且，如图7D所示，第2排气管500在其上端部由连接管501以在排气切换单元300的壳体301的下表面部301a开设有排气口501a的方式连接。
另外，在第1梁部402-1的背后水平地穿过的循环管线104以穿过图7E所示的处理单元16U、16L各自的下方的、上述的可收纳区域R1的方式配置。
具体而言，如图7F所示，第3排气管600配置于第1梁部402-1以及第2梁部402-2的相对面之间，并以形成循环管线104的水平配管104H在其中穿过的方式配置。因而，第3排气管600相当于收纳水平配管104H的壳体。
水平配管104H是并列设置于第3排气管600内的多个水平方向的配管组，各自与垂直配管104V同样单独地供从各供给源71～74供给的各处理流体流通。
另外，第3排气管600以在上述的连接区域110(参照图3)与阀室24连通的方式连接，并设置为由此分支管线112朝向阀室24分支。根据需要对于分支管线112如上述那样地设置流通控制部、过滤器、流量计等，并收纳于阀室24内。另外，第3排气管600在其两端部与第2排气管500连接。
此外，如图7F所示，在本实施方式中，在具有高度h的第1梁部402-1以及第2梁部402-2的相对面之间配置跨多个处理单元16的水平配管104H，因此，能够抑制由于处理单元16被层叠而装置整体的高度增大。因而，能够有助于装置整体的省空间化。
由如此地构成的第2排气管500以及第3排气管600形成对处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气的排气路径。具体而言，如图7G所示，收纳垂直配管104V的第2排气管500、收纳水平配管104H的第3排气管600以及经由分支管线112与该第3排气管600连通的阀室24相连而可以说形成一个壳体，可以说成在该壳体内共有处理流体的供给管线周围的气氛气体(参照图7G中的涂黑的部分)。
因而，经由与排气切换单元300的壳体301连接的排气口501a，排气切换单元300引入该气氛气体，能够对处理流体的供给管线周围的气氛气体进行排气。
接着，参照图8对该排气切换单元300的结构进行说明。图8是表示排气切换单元300的结构的图。
如图8所示，排气切换单元300具备排气导入部310、多个切换机构320＿1～320＿3、外部空气导入部330以及多个流出部340。另外，排气切换单元300具备外部空气引进管350、压差端口(日文：差圧ポート)360以及排气流量调整部370。切换机构320＿1～320＿3具备主体部321。主体部321具有两端被封闭的圆筒状的内部空间，在其内周面形成有与排气导入部310连通的排气引进口322、与外部空气导入部330连通的外部空气引进口323以及与流出部340连通的流出口324。
在主体部321的内部空间设置有能够沿着主体部321的内周面滑动的阀芯325。阀芯325被设置于切换机构320＿1～320＿3的外部的驱动部(省略图示)驱动。该驱动部由控制部18控制。
在主体部321的内周面形成的排气引进口322、外部空气引进口323以及流出口324中的、排气引进口322以及外部空气引进口323中的任一者成为被阀芯325堵塞的状态。换言之，成为仅排气引进口322以及外部空气引进口323中的任一者与流出口324连通了的状态。切换机构320＿1～320＿3通过使阀芯325沿着主体部321的内周面滑动，将与流出口324连通的开口从排气引进口322切换成外部空气引进口323、或、从外部空气引进口323切换成排气引进口322。即、对排气导入部310和流出部340连通了的状态以及外部空气导入部330和流出部340连通了的状态进行切换。
外部空气导入部330与切换机构320＿1～320＿3连接，并将外部空气向内部引进而向切换机构320＿1～320＿3供给。
接着，对将来自处理单元16的排气的流出目的地在单独排气管121～123之间切换的情况下的动作进行说明。
例如，在图8中示出使碱系排气向单独排气管121流动的情况的例子。在该情况下，排气切换单元300成为切换机构320＿1的排气引进口322与排气导入部310连通、剩余的切换机构320＿2、320＿3的外部空气引进口323与外部空气导入部330连通了的状态。
如此，在切换机构320＿1与排气导入部310连通期间，成为剩余的切换机构320＿2、320＿3与外部空气导入部330连通了的状态。由此，碱系排气向单独排气管121流入，外部空气向剩余的单独排气管122、123流入。此外，此时，该外部空气一并含有经由排气口501a引入的、处理流体的供给管线周围的气氛气体。
接下来，想到将排气的流出目的地从单独排气管121切换成单独排气管122的情况。在该情况下，控制部18通过对切换机构320＿1、320＿2的驱动部326进行控制，使切换机构320＿2的排气引进口322与排气导入部310连通，使剩余的切换机构320＿1、320＿3的外部空气引进口323与外部空气导入部330连通。由此，酸系排气向单独排气管122流入，外部空气向剩余的单独排气管121、123流入。另外，此时，在该外部空气中一并含有经由排气口501a引入的、处理流体的供给管线周围的气氛气体。
如此，在本实施方式的基板处理系统1中，在来自处理单元16的排气向单独排气管121～123中的任一者流入期间，外部空气向剩余的单独排气管121～123流入。因而，在排气切换的前后，向各单独排气管121～123流入的气体的流量不会大幅度变动。因而，能够抑制随着流量的变动而产生的处理单元16的压力变动。
另外，在本实施方式的基板处理系统1中，通过在切换机构320＿1～320＿3所具备的外部空气引进口323的前段设置有与各外部空气引进口323连通的外部空气导入部330，也能够抑制排气切换中的处理单元16的压力变动。
接着，想到将排气的流出目的地从酸系排气流动的单独排气管122切换到有机系排气流动的单独排气管123的情况。在该情况下，控制部18通过对切换机构320＿2、320＿3的驱动部326进行控制，使切换机构320＿3的排气引进口322与排气导入部310连通，使剩余的切换机构320＿1、320＿2的外部空气引进口323与外部空气导入部330连通。由此，在有机系排气向单独排气管123流入期间，外部空气向剩余的单独排气管121、122流入。另外，此时，在该外部空气中一并含有经由排气口501a引入的、处理流体的供给管线周围的气氛气体。
在此，在从例如后述的冲洗处理向干燥处理转换之际，在将在处理单元16中所使用的处理液的种类切换成作为有机系处理液的IPA的情况下，控制部18通过对FFU21进行控制，将向处理单元16供气的气体的种类从例如清洁空气变更成湿度或氧浓度比清洁空气的湿度或氧浓度低的CDA(清洁干燥空气，Clean Dry Air)等低露点气体。
接着，参照图9A～图9D对包括该低露点气体的供给管线的、FFU21的进一步的具体的结构进行说明。
图9A是处理单元16的示意俯视图(其2)。另外，图9B是表示引进部21a的结构的示意图(其1)。另外，图9C是表示供气部21b的结构的示意图。另外，图9D是表示引进部21a的结构的示意图(其2)。
此外，图9A与图6D相对应，因此，适当省略在图6D中已经说明的点。如图9A所示，引进部21a具备第1过滤器21aa、引导部21ab、风扇21ac以及第2过滤器21ad。另外，如图9B所示，引进部21a还具备路径切换部21ae和风门21af。
第1过滤器21aa是例如ULPA(超高效空气Ultra Low Penetration Air)过滤器，将外部空气中的垃圾、尘埃等去除掉，使外部空气清洁空气化。引导部21ab将来自第1过滤器21aa的清洁空气朝向风扇21ac引导。
风扇21ac引进清洁空气。第2过滤器21ad是例如化学过滤器，通过去除氨、酸、有机物等而进行进一步的清洁空气化。
第2过滤器21ad安装于路径切换部21ae。路径切换部21ae能够升降地设置，如箭头901所示，在上升时能够将清洁空气的流动的路径切换到供气部21b侧。风门21af在清洁空气向供气部21b供气的情况下成为关闭的状态。此外，路径切换部21ae和风门21af由控制部18控制。
另外，如图9C所示，供气部21b具备第1供气管21ba、第2供气管21bb、供气切换阀21bc以及供气口部21bd。第1供气管21ba的一端侧与引进部21a连接，另一端侧与供气切换阀21bc连接而形成清洁空气的供气路径。
第2供气管21bb的一端侧与从低露点气体供给源23a经由阀23b的低露点气体的供给管线连接，另一端侧与供气切换阀21bc连接而形成CDA等低露点气体的供气路径。
供气切换阀21bc利用控制部18的控制来对朝向腔室20供气的气体的种类进行切换。即、在需要对清洁空气进行供气的情况下，将第2供气管21bb侧关闭而打开第1供气管21ba侧，在需要对低露点气体进行供气的情况下，关闭第1供气管21ba侧而打开第2供气管21bb侧。
供气口部21bd具有朝向腔室20大致均等地配置的多个供气口，从供气切换阀21bc流入的清洁空气或低露点气体经由该供气口整流，同时向腔室20内形成下降流。
此外，如图9D的箭头902所示，路径切换部21ae能够在下降时阻断清洁空气向供气部21b侧流动。另外，此时，风门21af被慢慢地打开，将经由风扇21ac流入的清洁空气向外部排气。由此，能够抑制供气的气体的种类从清洁空气向低露点气体变更的情况下的压力变动。
接着，参照图10对在本实施方式的基板处理系统1中所执行的基板处理的一个例子进行说明。图10是表示在基板处理系统1中所执行的基板处理的处理顺序的一个例子的流程图。
此外，图10所示的一系列基板处理是通过控制部18对处理单元16和排气切换单元300等进行控制来执行。控制部18是例如CPU(中央处理单元，Central Processing Unit)，按照存储到存储部19的未图示的程序来对处理单元16和排气切换单元300等进行控制。
如图10所示，在处理单元16中，首先，进行第1化学溶液处理(步骤S101)。在该第1化学溶液处理中，首先，驱动部33使保持部31旋转，从而使保持到保持部31的晶圆W以预定的转速旋转。接下来，处理流体供给部40的喷嘴41位于晶圆W的中央上方。之后，阀75被打开预定时间，从而从碱系处理液供给源71供给的SC1从喷嘴41向晶圆W的被处理面供给。供给到晶圆W的SC1在由于晶圆W的旋转而产生的离心力的作用下向晶圆W的被处理面的整个面扩展。由此，晶圆W的被处理面被SC1处理。
在进行该第1化学溶液处理期间，作为来自处理单元16的排气的碱系排气从第1排气管200经由排气切换单元300的切换机构320＿1向单独排气管121排出。另外，从排气口501a流入的处理流体的供给管线周围的气氛气体作为外部空气被引进，并向单独排气管122、123排出。
接下来，在处理单元16中，进行利用DIW冲洗晶圆W的被处理面的第1冲洗处理(步骤S102)。在该第1冲洗处理中，阀78被打开预定时间，从而从DIW供给源74供给的DIW从喷嘴41向晶圆W的被处理面供给，残存于晶圆W的SC1被冲洗。在进行该第1冲洗处理期间，来自处理单元16的排气向例如单独排气管121排出。另外，从排气口501a流入的处理流体的供给管线周围的气氛气体作为外部空气被引进，并向例如单独排气管122、123排出。
接下来，在处理单元16中，进行第2化学溶液处理(步骤S103)。在该第2化学溶液处理中，阀76被打开预定时间，从而从酸系处理液供给源72供给的HF从喷嘴41向晶圆W的被处理面供给。供给到晶圆W的HF在由于晶圆W的旋转而产生的离心力的作用下向晶圆W的被处理面的整个面扩展。由此，晶圆W的被处理面被HF处理。
控制部18在开始该第2化学溶液处理之前对排气切换单元300进行控制，从而将排气的流出目的地从单独排气管121切换成单独排气管122。由此，在进行第2化学溶液处理期间，作为来自处理单元16的排气的酸系排气从第1排气管200经由排气切换单元300的切换机构320＿2向单独排气管122排出。另外，从排气口501a流入的处理流体的供给管线周围的气氛气体作为外部空气被引进，并向单独排气管121、123排出。
接下来，在处理单元16中，进行利用DIW冲洗晶圆W的被处理面的第2冲洗处理(步骤S104)。在该第2冲洗处理中，阀78被打开预定时间，从而从DIW供给源74供给的DIW从喷嘴41向晶圆W的被处理面供给，对残存于晶圆W的HF进行冲洗。在进行该第2冲洗处理期间，来自处理单元16的排气向例如单独排气管122排出。另外，从排气口501a流入的处理流体的供给管线周围的气氛气体作为外部空气被引进，并向例如单独排气管121、123排出。
接下来，在处理单元16中，进行干燥处理(步骤S105)。在该干燥处理中，阀77被打开预定时间，从而从有机系处理液供给源73供给的IPA从喷嘴41向晶圆W的被处理面供给。供给到晶圆W的IPA在由于晶圆W的旋转而产生的离心力的作用下向晶圆W的被处理面的整个面扩展。由此，残存于晶圆W的被处理面的DIW被置换成挥发性比DIW的挥发性高的IPA。之后，在处理单元16中，通过使晶圆W的旋转速度增速，使晶圆W上的IPA甩开而使晶圆W干燥。
控制部18在开始干燥处理之前对排气切换单元300进行控制，从而将排气的流出目的地从单独排气管122切换成单独排气管123。由此，在进行干燥处理期间，作为来自处理单元16的排气的有机排气从第1排气管200经由排气切换单元300的切换机构320＿3向单独排气管123排出。另外，从排气口501a流入的处理流体的供给管线周围的气氛气体作为外部空气被引进，并向单独排气管121、122排出。
另外，控制部18在开始干燥处理之前将从FFU21供气的气体的种类从清洁空气切换成低露点气体。另外，控制部18通过对风门21af进行控制，从而将被引进部21a引进的外部空气向外部排气。由此，即使是在变更了向处理单元16供气的气体的种类的情况下，也能够抑制处理单元16的压力变动。
之后，在处理单元16中，在由驱动部33进行的晶圆W的旋转停止之后，晶圆W被基板输送装置17(参照图1)从处理单元16输出。由此，对1张晶圆W的一系列的基板处理完成。
如上所述，本实施方式的基板处理系统1(相当于“基板处理装置”的一个例子)具备多个处理单元16和FFU21(相当于“气体供给部”的一个例子)。
多个处理单元16层叠地配置，并在腔室20内保持晶圆W(相当于“基板”的一个例子)而利用处理液对晶圆W进行液处理。FFU21针对各处理单元16设置，并向处理单元16的内部供给气体。
另外，FFU21包括引进部21a和供气部21b。引进部21a将外部空气引进而使该外部空气清洁化。供气部21b将被引进部21a清洁化后的清洁空气向处理单元16的内部供气。另外，引进部21a配置于腔室20的侧方，并且在层叠地配置的处理单元16之间配置于腔室20的同一侧面。
因而，根据本实施方式的基板处理系统1，能够谋求更加省空间化。
此外，在上述的实施方式中，示出了水平配管104H以收纳于第1梁部402-1以及第2梁部402-2的相对面之间的方式配置的例子(参照例如图7F)，但也可以不完全收纳于该相对面之间。即、水平配管104H的至少一部分包含于该相对面之间即可。
同样地，在上述的实施方式中，示出了垂直配管104V以收纳于第1柱部401-1的组的相对面之间、或第2柱部401-2的组的相对面之间的方式配置的例子(参照例如图7C)，但也可以不完全收纳于该相对面之间。即、垂直配管104V的至少一部分包含于该相对面之间即可。
进一步的效果、变形例能够由本领域技术人员容易地导出。因此，本发明的更广泛的形态并不限定于如以上那样地表述且叙述的特定的详细情况以及代表性的实施方式。因而，不脱离由权利要求书及其等效物定义的总结性的发明的概念的精神或范围，能够进行各种变更。

Claims (8)

1.一种基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置具备：
多个处理单元，其层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对所述基板进行液处理；以及
气体供给部，其针对各所述处理单元设置，向该处理单元的内部供给气体，
所述气体供给部包括：
引进部，其将外部空气引进而使该外部空气清洁化；以及
供气部，其将被所述引进部清洁化后的清洁空气向所述处理单元的内部供气，
所述引进部配置于所述腔室的侧方，并且在层叠地配置的所述处理单元之间配置于所述腔室的同一侧面，
所述供气部设置成配置于所述处理单元的上方并且在侧方与所述引进部连接而与该引进部连通，利用从所述引进部送入的清洁空气在所述处理单元内形成下降流。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置还具备作为对来自所述处理单元的排气进行引导的配管的第1排气管，
所述第1排气管相对于所述腔室配置于与所述引进部相同的侧面，并在所述腔室的侧面沿上下延伸。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置还具备输送部，该输送部设置于所述处理单元的侧方且是与配置有所述引进部的侧面不同的位置，并将所述基板向所述处理单元输送，
从靠近所述输送部的一侧起依次配置所述第1排气管、所述引进部。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
所述引进部的外部空气的引进口朝向与所述输送部那一侧相反的一侧开口。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置还具备作为对处理液的供给系统周围的气氛气体进行排气的配管的第2排气管，
所述第2排气管相对于所述腔室配置为穿过与配置有所述引进部的侧面相反的一侧的侧方、或穿过所述引进部的侧方。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第2排气管收纳有用于向所述处理单元供给处理液的配管。
7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理单元能够供给多个种类的处理液，
该基板处理装置具有与所述多个种类的处理液的至少1种相对应的多个单独排气管，还具备将在所述第1排气管中流动的排气的流出目的地切换成所述单独排气管中的任一者排气切换单元，
所述排气切换单元配置于比所层叠的所述处理单元靠上方的位置，
所述第2排气管的排气口与所述排气切换单元连接。
8.一种基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置具备：
多个处理单元，其层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对所述基板进行液处理；以及
多个气体供给部，其针对各所述处理单元设置，向该处理单元的内部供给气体，
各个所述气体供给部包括：
引进部，其将外部空气引进而使该外部空气清洁化；以及
供气部，其将被所述引进部清洁化后的清洁空气向所述处理单元的内部供气，
各个所述引进部配置于对应的所述处理单元的所述腔室的侧方，并且多个所述引进部在层叠地配置的多个所述处理单元之间配置于多个所述腔室的同一侧面。
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