CN107782750B - X射线透射检查装置 - Google Patents

X射线透射检查装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107782750B
CN107782750B CN201710717081.0A CN201710717081A CN107782750B CN 107782750 B CN107782750 B CN 107782750B CN 201710717081 A CN201710717081 A CN 201710717081A CN 107782750 B CN107782750 B CN 107782750B
Authority
CN
China
Prior art keywords
sample
ray
standard sample
ray source
inspection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710717081.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107782750A (zh
Inventor
高原稔幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Science Corp
Original Assignee
Hitachi High Tech Science Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Tech Science Corp filed Critical Hitachi High Tech Science Corp
Publication of CN107782750A publication Critical patent/CN107782750A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107782750B publication Critical patent/CN107782750B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/06Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
    • G01N23/083Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/06Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
    • G01N23/10Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the material being confined in a container, e.g. in a luggage X-ray scanners

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

提供X射线透射检查装置,其能够容易地进行基于标准试样的调整。该X射线透射检查装置具有:X射线源(2),其对试样S1照射X射线;试样移动机构,其在来自X射线源的X射线的照射中使试样向特定方向连续移动;X射线检测器(4),其相对于试样设置于与X射线源相反的一侧,检测透射过试样的X射线;标准试样移动机构(5),其能够使设置于不同于试样的位置的标准试样S2移动;以及配置变更机构(6),其能够使X射线源和X射线检测器与试样和标准试样相对移动,能够将X射线源和X射线检测器从与试样对置的配置状态变更到与通过标准试样移动机构移动的标准试样对置的配置状态。

Description

X射线透射检查装置
技术领域
本发明涉及能够检测试样中的微小异物等并容易进行检查的校准(calibration)等调整的X射线透射检查装置。
背景技术
一般情况下,为了检测试样中的微小金属等的异物等,使用通过对试样照射X射线而获取的X射线透射像进行检查的X射线透射检查。例如,近年来,在汽车、混合动力汽车或电动车等所采用的锂离子二次电池中,作为正极的电极在Al膜的两面形成有锰酸锂膜或钴酸锂膜。因此,当混入Fe或SUS等数十μm以上的异物时,可能发生短路而产生电池的烧毁或性能降低,在制造时,通过X射线透射检查来检测异物是否混入并将其去除。
作为这种检测试样中的异物等的X射线透射检查装置,公知实施在线(in-line)检查时,对置配置X射线源和线传感器等X射线检测器以使得夹持向一个方向移动的试样。例如,在专利文献1中提出了通过利用TDI传感器而高灵敏度地检测微小异物的X射线异物检查装置。在该X射线异物检查装置中,使试样的移动速度和TDI传感器的电荷移动速度同步地进行异物的检测。
专利文献1:日本特开2004-257884号公报
在上述现有技术中残留有以下课题。
即,在现有的X射线透射检查装置中,在想要使用预先知道了异物的尺寸和位置的标准试样进行X射线源和X射线检测器的调整(校准等)的情况下,由于以与移动的试样对置的方式设置X射线源和X射线检测器,因此在代替试样而将标准试样设置在与试样相同的位置上的状态下,需要进行标准试样的检查。另外,在标准试样的检查后,也需要将试样重新设置在原来的位置上的作业。因此,需要试样与标准试样的更换作业,从而存在必须使检查作业长时间中断的不良情况。尤其在检查带状的试样的情况下,由于以从辊到辊的方式连续地流动试样并进行检查,因此很难在中途中断检查而将试样更换为标准试样并进行检查。
发明内容
本发明就是鉴于上述课题而完成的,其目的在于提供能够容易地进行基于标准试样的调整的X射线透射检查装置。
为了解决上述课题,本发明采用以下结构。
即,本发明的X射线透射检查装置的特征在于,所述X射线透射检查装置具有:X射线源,其对试样照射X射线;试样移动机构,其在来自所述X射线源的X射线的照射中使所述试样向特定方向连续移动;X射线检测器,其相对于所述试样设置在与所述X射线源相反的一侧,检测透射过所述试样的所述X射线;标准试样移动机构,其能够使设置于不同于所述试样的位置的标准试样移动;以及配置变更机构,其能够使所述X射线源和所述X射线检测器与所述试样和所述标准试样相对移动,能够将所述X射线源和所述X射线检测器从与所述试样对置的配置状态变更到与通过所述标准试样移动机构移动的所述标准试样对置的配置状态。
在该X射线透射检查装置中,由于具有能够使X射线源和X射线检测器与试样和标准试样相对移动,能够将X射线源和X射线检测器从与试样对置的配置状态变更到与通过标准试样移动机构移动的标准试样对置的配置状态的配置变更机构,因此在进行基于标准试样的校准等调整时,通过配置变更机构能够使X射线源和X射线检测器从作为试样的检查位置的行(line)线上退避而进行标准试样的检查,从而不会产生对试样的干涉,检查部等的维护也变得容易。因此,不需要试样与标准试样的更换作业,即使在多个或长条的试样的检查中途,也不需要将试样从检查线取下,从而能够容易地进行校准等调整。
第二发明的X射线透射检查装置的特征在于,在第一发明中,所述X射线透射检查装置设置有多个由彼此对置的所述X射线源和所述X射线检测器构成的检查部,所述配置变更机构能够使多个所述检查部移动。
即,在该X射线透射检查装置中,由于配置变更机构能够使多个检查部移动,因此能够通过标准试样来同时或单独地调整多个检查部。
第三发明的X射线透射检查装置的特征在于,在第一或第二发明中,所述试样为带状,所述试样移动机构使所述试样在延伸方向上移动,所述标准试样移动机构能够使配置于所述试样侧的所述标准试样在与所述试样的移动方向平行的方向上以与所述试样相同的速度移动。
即,在该X射线透射检查装置中,由于标准试样移动机构能够使配置于试样侧的标准试样在与试样的移动方向平行的方向上以与试样相同的速度移动,因此仅通过配置变更机构使X射线源和X射线检测器移动到位于带状的试样侧的标准试样的对置位置,就能够容易地以与试样相同的条件进行标准试样的检查。
第四发明的X射线透射检查装置的特征在于,在第一至第三发明的任一发明中,所述X射线透射检查装置具有控制部,该控制部与所述X射线源和所述X射线检测器连接,控制所述X射线源和所述X射线检测器,所述控制部根据检查所述标准试样时的结果,在检查所述试样时进行所述X射线源和所述X射线检测器的调整。
即,在该X射线透射检查装置中,由于控制部根据检查标准试样时的结果,在检查试样时进行X射线源和X射线检测器的调整,因此控制部能够自动地进行X射线源和X射线检测器的校准等调整,从而维持稳定的高精度的测定。
第五发明的X射线透射检查装置的特征在于,在第二发明中,所述配置变更机构在检查所述试样时能够使多个所述检查部移动至所述试样的宽度方向上彼此不同的位置。
即,在该X射线透射检查装置中,由于配置变更机构在检查试样时能够使多个检查部移动至试样的宽度方向上彼此不同的位置,因此能够将试样的宽度方向分割为多个,并通过检查部分别检查试样的宽度方向上的不同位置。因此,即使不是大型的检查部,通过多个小型的检查部也能够在试样的宽度方向上的宽范围内进行检查并且也可以仅对宽度方向上的特定的位置照射X射线来进行检查。另外,通过使多个检查部移动到与标准试样对置的位置,多个检查部能够同时或单独地对标准试样进行检查。
第六发明的X射线透射检查装置的特征在于,在第二发明中,所述配置变更机构在检查所述试样时能够使多个所述检查部移动至所述试样的宽度方向上相同的位置。
即,在该X射线透射检查装置中,由于配置变更机构在检查试样时能够使多个检查部移动至试样的宽度方向上相同的位置,因此能够通过多个检查部来多级检查试样的相同位置,从而能够更高精度地检测异物。另外,例如专用于针对Fe和Pt等不同的多个异物的灵敏度,通过改变各X射线源的线质(quality of radiation),能够在一次检查中检测不同的多个异物。并且,通过使用多个检查部来检查相同的位置,也能够加快试样的扫描速度。
根据本发明实现了以下效果。
即,根据本发明的X射线透射检查装置,由于具有能够使X射线源和X射线检测器与试样和标准试样能够相对移动,能够将X射线源和X射线检测器从与试样对置的配置状态变更到与通过标准试样移动机构移动的标准试样对置的配置状态,因此不需要试样与标准试样的更换作业,即使在多个或长条的试样的检查中途,也不需要将试样从检查线取下,从而能够容易地进行校准等调整。
附图说明
图1是示出本发明的X射线透射检查装置的第一实施方式中的试样检查时的状态(a)和标准试样检查时的状态(b)的概略俯视图。
图2是示出第一实施方式中的X射线透射检查装置的试样检查时的概略主视图。
图3是示出第一实施方式中的X射线检测器(TDI传感器)的立体图。
图4是示出本发明的X射线透射检查装置的第二实施方式中的标准试样检查时的状态的概略俯视图。
图5是示出第二实施方式中的X射线透射检查装置的试样检查时的概略主视图。
图6是示出本发明的X射线透射检查装置的第三实施方式中的试样检查时的状态的概略俯视图。
图7是示出第三实施方式中的标准试样检查时的状态的概略俯视图。
图8是示出本发明的X射线透射检查装置的第四实施方式中的试样检查时的状态的概略俯视图。
图9是示出第四实施方式中的标准试样检查时的状态的概略俯视图。
标号说明
1、21、31、41:X射线透射检查装置;2、22A、22B、22C、32A、32B、32C:X射线源;3:试样移动机构;4、24A、24B、24C、34A、34B、34C:X射线检测器;5:标准试样移动机构;6、26A、26B、26C、36A、36B、36C、46:配置变更机构;7、27A、27B、27C、37A、37B、37C:检查部;C:控制部;S1:试样;S2:标准试样;X:X射线。
具体实施方式
下面,参照图1~图3对本发明的X射线透射检查装置的第一实施方式进行说明。
如图1至图3所示,本实施方式的X射线透射检查装置1具有:X射线源2,其对试样S1照射X射线X;试样移动机构3,其在来自X射线源2的X射线X的照射中使试样S1向特定方向连续移动;X射线检测器4,其相对于试样S1设置于与X射线源2相反的一侧,检测透射过试样S1的X射线X;标准试样移动机构5,其能够使设置于不同于试样S1的位置的标准试样S2移动;以及配置变更机构6,其能够使X射线源2和X射线检测器4与试样S1和标准试样S2相对移动,能够将X射线源2和X射线检测器4从与试样S1对置的配置状态变更到与通过标准试样移动机构5移动的标准试样S2对置的配置状态。
另外,本实施方式的配置变更机构6能够使X射线源2和X射线检测器4从与试样S1对置的位置移动到与通过标准试样移动机构5移动的标准试样S2对置的位置。
上述彼此对置的X射线源2和X射线检测器4构成检查部7。
另外,本实施方式的X射线透射检查装置1具有控制部C,该控制部C与X射线源2和X射线检测器4连接,控制X射线源2和X射线检测器4。
该控制部C根据检查标准试样S2时的结果,在检查试样S1时进行X射线源2和X射线检测器4的调整。
另外、控制部C与试样移动机构3、标准试样移动机构5以及配置变更机构6连接,控制这些各机构。
另外,上述控制部C是由CPU等构成的计算机。包含如下的运算处理电路等:根据所输入的来自X射线检测器4的信号进行图像处理而生成透射像,进而使该图像显示在显示器等显示部(省略图示)上。
上述X射线源2是能够照射X射线X的X射线管球,从管球内的灯丝(阴极)产生的热电子因施加给灯丝(阴极)与靶(阳极)之间的电压而被加速,从而与靶的W(钨)、Mo(钼)、Cr(铬)等发生冲突产生X射线X,将其作为一次X射线,从铍箔等的窗中射出。
另外,在本实施方式中,X射线源2对置配置在在一对辊R之间移动的试样S1的下方。
上述试样S1例如是形成为带状的Li离子电池用的材料或医药品系列所使用的材料。
例如,在试样S1是用于Li离子二次电池的电极片等的情况下,混入其中异物的F是担心作为异物F而混入电极中的Fe、Pt或SUS等。
上述试样移动机构3具有用于使试样S1在彼此对置配置的X射线源2与X射线检测器4之间移动的马达等的结构。试样移动机构3例如具有使带状的试样S1以辊到辊方式在延伸方向上移动的至少一对辊R和驱动它们的马达(省略图示)等。
另外,在本实施方式中,将试样S1在一对辊R之间移动的移动方向设为X轴方向,将与该X轴方向垂直且水平的方向设为Y轴方向,并且,将与X轴方向和Y轴方向垂直的方向设为Z轴方向。
如图3所示,上述X射线检测器4是在与试样S1的移动方向垂直的方向和平行的方向上分别配置多个单元(传感器元件)的TDI(Time Delay Integration:时间延迟积分)传感器,具有配置在检测面4a上的荧光体4b、在荧光体4b下方以二维方式纵横并列配置多列的多个光纤的FOP(纤维光学面板)4c、配置在FOP4c的下方的Si受光元件4d,具有并列多列线传感器的结构。例如,在试样S的输送方向上并列200~1000级的单位线传感器构成TDI传感器。
在该X射线检测器4中,使用CsI(碘化铯)、GOS(钆氧硫化物)或YAG(钇铝石榴石)等荧光体4b。
另外,在本实施方式中,X射线检测器4对置配置在移动的试样S1的上方。
另外,在本实施方式中,作为X射线检测器4采用TDI传感器,但也可以采用通常的线传感器等CCD传感器。
上述标准试样S2与张紧设置在一对辊R之间的试样S1相邻地配置。另外,标准试样S2具有已知预尺寸、元素、材质以及位置等基准数据的异物F。另外,该异物F的基准数据预先存储在控制部C中。
上述标准试样移动机构5是能够使标准试样S2沿试样S1的移动方向(X轴方向)移动的X轴平台。
另外,标准试样移动机构5能够使配置于试样S1的附近的标准试样S2在与试样S1相同的高度位置平行地移动。
上述配置变更机构6具有能够使X射线源2在与试样S1的移动方向(X轴方向)垂直的方向且水平的方向(以下,Y轴方向)上移动的射射线源用Y轴平台6yb、能够使X射线检测器4在Y轴方向上移动的检测器用Y轴平台6ya、以及能够使X射线检测器4在Z轴方向上移动的检测器用Z轴平台6z。
另外,图中的箭头Y1是试样S1的移动方向,箭头Y2是检查部7的移动方向,另外,箭头Y3是标准试样S2的移动方向。并且,箭头Y4是作为TDI传感器的X射线检测器4的TDI驱动朝向。
接下来,对使用了本实施方式的X射线透射检查装置1的检查部7的校准等的调整方法进行说明。
首先,在进行试样S1的检查时,通过试样移动机构3使试样S1在对置的X射线源2与X射线检测器4之间以一定速度移动,在进行校准时,停止来自X射线源2的X射线X的照射和试样S1的移动。
接下来,通过配置变更机构6使检查部7移动到能够检查标准试样S2的位置。即,通过射线源用Y轴平台6yb使X射线源2移动到标准试样S2的移动区域的下方并且通过检测器用Y轴平台6ya使X射线检测器4移动到标准试样S2的移动区域的上方且与X射线源2对置的位置。
接下来,如上所述,在使X射线源2和X射线检测器4分别从试样S1的检查位置退避,并移动到标准试样S2的检查位置的状态下,通过标准试样移动机构5使标准试样S2在沿试样S1的移动方向Y1的方向Y3上以与试样S1相同的速度移动。
此时,与试样S1的检查同样地,通过检查部7对标准试样S2进行检查,而检测标准试样S2中的异物F。并且,控制部C根据该检测信息和事先存储的异物F的基准数据来进行检查部7的校准等调整。
这样,在本实施方式的X射线透射检查装置1中,由于具有能够将X射线源2和X射线检测器4从与试样S1对置的位置移动到与通过标准试样移动机构5移动的标准试样S2对置的位置的配置变更机构6,因此在进行基于标准试样S2的校准等调整时,通过配置变更机构6能够使X射线源2和X射线检测器4从作为试样S1的检查位置的行线上退避而进行标准试样S2的检查,从而不会产生对试样S1的干涉,检查部7等的维护也变得容易。因此,不需要试样S1与标准试样S2的更换作业,即使在多个或长条的试样S1的检查中途,也不需要取下试样S1,从而能够容易地进行校准等调整。
另外,由于标准试样移动机构5能够使配置于试样S1侧的标准试样S2在与试样S1的移动方向平行的方向上以与试样S1相同的速度移动,因此仅通过配置变更机构6使X射线源2和X射线检测器4移动到位于带状的试样S1侧的标准试样S2的对置位置,就能够容易地以与试样S1相同的条件进行标准试样S2的检查。
并且,由于控制部C根据检查标准试样S2时的结果,在检查试样S1时进行X射线源2和X射线检测器4的调整,因此控制部C能够自动地进行X射线源2和X射线检测器4的校准等调整,从而维持稳定的高精度的测定。
接下来,下面参照图4至图9对本发明的X射线透射检查装置的第二至第四实施方式进行说明。另外,在以下的各实施方式的说明中,对与在上述实施方式中进行了说明的相同的构成要素标注相同的标号而省略其说明。
第二实施方式与第一实施方式的不同之处在于,在第一实施方式中,检查部7为一个,与此相对,如图4和图5所示,第二实施方式的X射线透射检查装置21设置有多个由彼此对置的X射线源和X射线检测器构成的检查部,配置变更机构6能够使多个检查部27A、27B、27C移动。
即,第二实施方式的X射线透射检查装置21具有三个检查部27A、27B、27C和与这些检查部27A、27B、27C对应的三个配置变更机构26A、26B、26C。
上述检查部27A由X射线源2A和X射线检测器4A构成,上述检查部27B由X射线源2B和X射线检测器4B构成,上述检查部27C由X射线源2C和X射线检测器4C构成。
这些检查部27A、27B、27C具有检查区域比试样S1的宽度窄的小型的X射线源2A、2B、2C和X射线检测器4A、4B、4C。
在进行试样S1的检查时,检查部27A配置于试样S1的检查线的上游侧,另外,检查部27B配置于比检查部27A靠下游侧的位置,并且,检查部27C配置于比检查部27B靠下游侧的位置。
另外,在进行试样S1的检查时,检查部27A、27B、27C配置在试样S1的宽度方向上的彼此不同的位置。即,检查部27A与试样S1的宽度方向上的偏向标准试样S2侧的位置对置地配置,另外,检查部27B与试样S1的宽度方向上的中央位置对置地配置,并且,检查部27C与试样S1的宽度方向上的偏向与标准试样S2侧相反的一侧的位置对置地配置。由此,能够被三个检查部27A、27B、27C分割地检查试样S1的整个宽度方向。因此,作为这些各检查部27A、27B、27C,可以采用比第一实施方式的检查部7小型的X射线源和X射线检测器,并且即使是宽幅的试样S1也能够检查整个宽度方向。
在第二实施方式中,在进行各检查部27A、27B、27C的校准等的情况下,如图4所示,能够通过配置变更机构26A、26B、26C使各检查部27A、27B、27C单独或全部移动到标准试样S2的移动区域,检查标准试样S2。
这样,在第二实施方式的X射线透射检查装置21中,由于配置变更机构26A、26B、26C能够使多个检查部27A、27B、27C移动,因此能够通过标准试样S2来同时或单独地调整多个检查部27A、27B、27C。
尤其是,由于配置变更机构26A、26B、26C在检查试样S1时能够使多个检查部27A、27B、27C移动到试样S1的宽度方向上的彼此不同的位置,因此能够将试样S1的宽度方向分割为多个,通过检查部27A、27B、27C分别检查试样S1的宽度方向上的不同位置。
因此,即使不是大型的检查部,通过多个小型的检查部27A、27B、27C也能够在试样S1的宽度方向上的宽范围内进行检查,并且也可以仅对宽度方向上的特定位置照射X射线X来进行检查。另外,通过使多个检查部27A、27B、27C移动到与标准试样S2对置的位置,多个检查部27A、27B、27C能够同时或单独地对标准试样S2进行检查。
接下来,第三实施方式与第二实施方式的不同之处在于,在第二实施方式中,三个小型的检查部27A、27B、27C配置在试样S1的宽度方向上的不同位置,与此相对,如图6和图7所示,第三实施方式的X射线透射检查装置31的能够检查试样S1的整个宽度的大的检查部37A、37B、37C在试样S1的移动方向上并列配置。
即,在第三实施方式中,检查部37A、37B、37C均具有与试样S1的宽度相同或比该宽度宽的检查区域,配置在试样S1的宽度方向上的相同的位置。
因此,这些各检查部37A、37B、37C采用比第二实施方式的检查部27A、27B、27C大型的X射线源32A、32B、32C和X射线检测器34A、34B、34C,分别能够单独地检查试样S1的整个宽度方向。
另外,在该第三实施方式中,在进行各检查部37A、37B、37C的校准等的情况下,如图4所示,能够通过配置变更机构36A、36B、36C使各检查部37A、37B、37C单独或全部移动到标准试样S2的移动区域,来检查标准试样S2。
另外,本实施方式的X射线检测器34A、34B、34C不需要是TDI传感器,也可以采用通常的线传感器等CCD传感器。在这种情况下,通过对多级排列的CCD传感器的X射线检测器34A、34B、34C中的检测信号进行积分处理,也能够进行TDI化。另外,通过将X射线检测器的个数增加为N倍,能够使试样S1的移动速度也为N倍,从而也能够提高处理量(throughput)。这样,针对提高处理量的课题,也可以通过上述结构来对应。
并且,针对各X射线源32A、32B、32C和各X射线检测器34A、34B、34C的各检测部36A、36B、36C,能够单独地调整各X射线源的线质。即,通过单独地改变X射线源32A、32B、32C的线质,并使用对应的X射线检测器34A、34B、34C进行摄像,在检测不同的元素和材质等的异物F时,即使不按照对应的异物F改变X射线的线质而进行多次测定,也可以通过一次测定来同时检测这些异物F。
例如,通过使用各X射线源32A、32B、32C和各X射线检测器34A、34B、34C中的二组X射线源和X射线检测器而使它们分别专用于分别适于Fe和Pt的检测的线质,从而仅通过流动一次试样S1就能够同时检测这些异物F。这样,在检查元素和材质等不同的异物F的情况下,以往需要流动多次试样S1,但由改变了X射线的线质的上述各级的检查部37A、37B通过一次测定就能够进行各种异物F的检测。
另外,包含于测定对象中的作为代表的元素的特定是能够通过扣除按照不同的异物F自适应地获取的各个异物的图像而将X射线的线质作为包含目的的元素在内的异物的像来特定的。
这样,在第三实施方式的X射线透射检查装置31中,由于配置变更机构36A、36B、36C在检查试样S1时能够使多个检查部37A、37B、37C移动至试样S1的宽度方向上相同的位置,因此能够通过多个检查部37A、37B、37C多级检查试样S1的相同的位置,从而能够更高精度地检测异物F。另外,例如通过与Fe和Pt等不同的多个异物F对应地将基于各X射线源32A、32B、32C的X射线的线质变为规定的线质,能够通过一次测定来检测不同的多个异物F。并且,通过使用多个检查部37A、37B、37C对相同的位置进行检查,也能够加快试样S1的扫描速度。
接下来,第四实施方式与第一实施方式的不同之处在于,在第一实施方式中,配置变更机构6能够使X射线源2和X射线检测器4从与试样S1对置的位置移动到与通过标准试样移动机构5移动的标准试样S2对置的位置,与此相对,在第四实施方式的X射线透射检查装置41中,如图8和图9所示,配置变更机构46使试样S1从与X射线源2和X射线检测器4对置的位置退避并且使标准试样S2移动到与X射线源2和X射线检测器4对置的位置。
即,在第二实施方式中,配置变更机构46具有能够使试样S1、一对辊R、标准试样移动机构5、标准试样S2同时在Y轴方向上横向滑动的Y轴平台。
另外,图中的箭头Y5是试样S1和标准试样S2的滑动方向。
这样,在第四实施方式中,配置变更机构46通过使试样S1和标准试样S2移动而不是使X射线源2和X射线检测器4移动,能够将X射线源2和X射线检测器4从与试样S11对置的配置状态变更到与通过标准试样移动机构5移动的标准试样S2对置的配置状态。
因此,在第四实施方式中也与第一实施方式同样地,X射线源2和X射线检测器4、试样S1和标准试样S2能够相对移动,在进行基于标准试样S2的校准等调整时,通过配置变更机构46使试样S1从X射线源2和X射线检测器4的对置位置退避,而代替地将标准试样S2配置在X射线源2和X射线检测器4的对置位置,由此能够进行标准试样S2的检查。
另外,本发明的技术范围并不限定于上述各实施方式,可以在不脱离本发明的主旨的范围内施加各种变更。
例如,上述第二和第三实施方式中,采用三个检查部,但也可以采用两个或四个以上的检查部。
另外,在上述各实施方式中,通过配置变更机构来进行X射线源和X射线检测器的移动或试样和标准试样的移动中的任意一方,但也可以采用能够进行这两者的移动的配置变更机构。

Claims (6)

1.一种X射线透射检查装置,其特征在于,该X射线透射检查装置具有:
X射线源,其对带状的试样照射X射线;
试样移动机构,其在来自所述X射线源的X射线的照射中使所述试样在该试样的延伸方向上连续移动;
X射线检测器,其相对于所述试样设置在与所述X射线源相反的一侧,检测透射过所述试样的所述X射线;
标准试样移动机构,其能够使设置于不同于所述试样的位置的标准试样移动;以及
配置变更机构,其能够使所述X射线源和所述X射线检测器与所述试样和所述标准试样相对移动,能够将所述X射线源和所述X射线检测器从与所述试样对置的配置状态变更到与通过所述标准试样移动机构移动的所述标准试样对置的配置状态,
所述试样移动机构使所述带状的试样以张紧设置的状态移动,
所述标准试样移动机构能够使在与所述试样相同的高度配置的所述标准试样在与所述试样的移动方向平行的方向上移动,并且能够在所述试样移动机构引起的所述试样的移动停止的状态下使所述标准试样移动。
2.根据权利要求1所述的X射线透射检查装置,其特征在于,
该X射线透射检查装置设置有多个由彼此对置的所述X射线源和所述X射线检测器构成的检查部,
所述配置变更机构能够使多个所述检查部移动。
3.根据权利要求1或2所述的X射线透射检查装置,其特征在于,
所述标准试样移动机构能够在与所述延伸方向平行的方向上以与所述试样相同的速度移动。
4.根据权利要求1或2所述的X射线透射检查装置,其特征在于,
该X射线透射检查装置具有控制部,该控制部与所述X射线源和所述X射线检测器连接,控制所述X射线源和所述X射线检测器,
所述控制部根据检查所述标准试样时的结果,在检查所述试样时进行所述X射线源和所述X射线检测器的调整。
5.根据权利要求2所述的X射线透射检查装置,其特征在于,
所述配置变更机构在检查所述试样时能够使多个所述检查部移动至所述试样的宽度方向上彼此不同的位置。
6.根据权利要求2所述的X射线透射检查装置,其特征在于,
所述配置变更机构在检查所述试样时能够使多个所述检查部移动至所述试样的宽度方向上相同的位置。
CN201710717081.0A 2016-08-24 2017-08-21 X射线透射检查装置 Active CN107782750B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-163437 2016-08-24
JP2016163437A JP6783456B2 (ja) 2016-08-24 2016-08-24 X線透過検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107782750A CN107782750A (zh) 2018-03-09
CN107782750B true CN107782750B (zh) 2021-10-12

Family

ID=61240418

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710717081.0A Active CN107782750B (zh) 2016-08-24 2017-08-21 X射线透射检查装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10379066B2 (zh)
JP (1) JP6783456B2 (zh)
KR (1) KR102357088B1 (zh)
CN (1) CN107782750B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7219148B2 (ja) * 2018-04-25 2023-02-07 住友化学株式会社 検査システム及び検査システムの駆動方法
WO2023277039A1 (ja) * 2021-06-30 2023-01-05 株式会社堀場製作所 透過x線検査装置、及び透過x線検査方法
CN115077436B (zh) * 2022-07-21 2022-11-22 浙江双元科技股份有限公司 一种叠片电池的极片错位检测系统及方法
KR102525867B1 (ko) 2022-11-08 2023-04-26 주식회사 코메스타 웨이크업 수신 기술 기반의 무인 이동체 수색 구조 방법 및 이를 실행하는 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0743320A (ja) * 1993-03-15 1995-02-14 Hitachi Ltd X線検査方法およびその装置並びにプレプレグの検査方法および多層配線基板の製造方法
JPH1043320A (ja) * 1996-07-31 1998-02-17 Shimadzu Corp 放射線治療計画用シュミレータシステム
JP4074204B2 (ja) * 2003-02-18 2008-04-09 名古屋電機工業株式会社 X線検査装置、x線検査方法およびx線検査装置の制御プログラム
JP2015090341A (ja) * 2013-11-07 2015-05-11 キヤノン株式会社 放射線検査システム
CN104950002A (zh) * 2014-03-31 2015-09-30 日本株式会社日立高新技术科学 X射线透过检查装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52112885U (zh) * 1976-02-23 1977-08-27
JP3891285B2 (ja) * 2002-11-01 2007-03-14 株式会社島津製作所 X線透視装置
JP3678730B2 (ja) 2003-02-26 2005-08-03 株式会社日鉄エレックス X線異物検査方法及び装置
JP5307504B2 (ja) * 2008-08-22 2013-10-02 株式会社日立ハイテクサイエンス X線分析装置及びx線分析方法
JP5850059B2 (ja) * 2011-10-04 2016-02-03 株式会社ニコン X線を用いた形状測定装置、形状計測方法、及び構造物の製造方法
EP2813841B1 (en) * 2012-02-06 2018-04-11 Hitachi High-Technologies Corporation X-ray inspection device and inspection method
EP2927948A1 (en) * 2014-04-04 2015-10-07 Nordson Corporation X-ray inspection apparatus for inspecting semiconductor wafers
JP6305247B2 (ja) * 2014-06-13 2018-04-04 株式会社日立ハイテクサイエンス 蛍光x線分析装置
US9782136B2 (en) * 2014-06-17 2017-10-10 The University Of North Carolina At Chapel Hill Intraoral tomosynthesis systems, methods, and computer readable media for dental imaging

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0743320A (ja) * 1993-03-15 1995-02-14 Hitachi Ltd X線検査方法およびその装置並びにプレプレグの検査方法および多層配線基板の製造方法
JPH1043320A (ja) * 1996-07-31 1998-02-17 Shimadzu Corp 放射線治療計画用シュミレータシステム
JP4074204B2 (ja) * 2003-02-18 2008-04-09 名古屋電機工業株式会社 X線検査装置、x線検査方法およびx線検査装置の制御プログラム
JP2015090341A (ja) * 2013-11-07 2015-05-11 キヤノン株式会社 放射線検査システム
CN104950002A (zh) * 2014-03-31 2015-09-30 日本株式会社日立高新技术科学 X射线透过检查装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP6783456B2 (ja) 2020-11-11
CN107782750A (zh) 2018-03-09
US20180059035A1 (en) 2018-03-01
US10379066B2 (en) 2019-08-13
KR102357088B1 (ko) 2022-01-27
KR20180022598A (ko) 2018-03-06
JP2018031643A (ja) 2018-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107782750B (zh) X射线透射检查装置
CN106404811B (zh) X射线透射检查装置和x射线透射检查方法
JP6397690B2 (ja) X線透過検査装置及び異物検出方法
US10989674B2 (en) X-ray inspection apparatus and x-ray inspection method
US20020012418A1 (en) X-ray fluorescence thickness measurement device
WO2013118386A1 (ja) X線検査装置、検査方法およびx線検出器
KR102342030B1 (ko) 이온주입장치 및 측정장치
KR20130016059A (ko) X선 분석 장치 및 방법
CN105403583A (zh) 荧光x射线分析装置以及其测定位置调整方法
CN112925034A (zh) X射线检查装置和x射线检查方法
EP3816616A1 (en) Radiation transmission inspection method and device, and method for manufacturing microporous film
CN104950002A (zh) X射线透过检查装置
US20140294144A1 (en) Foreign Matter Detector
WO2001040735A1 (fr) Dispositif d'analyse/observation
CN118679379A (zh) 异物检测以及利用荧光x射线的识别装置
US10866331B2 (en) X-ray inspection apparatus
WO2023189135A1 (ja) 検査装置及び検査方法
CN117148461A (zh) X射线检查装置以及x射线检查方法
CN117147598A (zh) X射线检查装置以及x射线检查方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant