CN107749554A - 准分子激光处理装置及其激光收集装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种准分子激光处理装置及其激光收集装置，激光收集装置包括设于激光器出射光路上远离激光器的第一反射镜、设于激光器出射光路上靠近激光器的第二反射镜以及设于激光器出射光路外的第一反射镜组，第一反射镜接收激光器发出的光线并反射至第一反射镜组，经第一反射镜组反射的光线射出至第二反射镜，第二反射镜朝向背离激光器的方向倾斜，将从第一反射镜组射入的光线反射至待激光处理的对象表面。本发明通过在激光器与待激光处理的对象之间设置有对未射到待激光处理的对象表面的激光进行收集的激光收集装置，将未被利用的光线进行收集并再投射到待激光处理的对象表面进行二次利用，提高了激光的光线利用率，降低了生产成本。

Description

准分子激光处理装置及其激光收集装置
技术领域
本发明涉及准分子激光技术领域，尤其涉及一种准分子激光处理装置及其激光收集装置。
背景技术
随着准分子激光器(Excimer Laser)在显示面板行业的广泛应用，准分子激光器的使用成本越来越受到关注。例如，作为一个关键的加工工艺，准分子激光退火(ExcimerLaser Annealing，ELA)将非晶硅(a-Si)转变为多晶硅(p-Si)，使电子迁移率提高了数百倍，由此可以提升高端薄膜晶体管或显示屏中的像素密度。准分子激光器线光束系统能够加工智能手机和OLED((Organic Light Emitting Display，有机发光显示器)电视所需的有源矩阵驱动液晶显示屏(AMLCD)和主动矩阵有机发光二极管面板(AMOLED)。
目前，行业对于如何提高准分子激光器的使用效率没有特别有效的解决方法，特别是当产品制程尺寸小于激光辐射范围时，往往在产品制程尺寸外的激光辐射范围铺设有反光板，并在激光器所在侧设置冷却装置，未射到产品上的多余的激光就会被反光板反射回，最后被冷却装置吸收，这就造成了激光能量的浪费和成本的增加。
发明内容
鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种提高激光光线利用率、降低生产成本的准分子激光处理装置及其激光收集装置。
为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：
一种准分子激光处理装置的激光收集装置，包括设于激光器出射光路上远离激光器的第一反射镜、设于激光器出射光路上靠近激光器的第二反射镜以及设于激光器出射光路外的第一反射镜组，所述第一反射镜设于激光器的出射光的辐射范围边缘，用于接收激光器发出的光线，并将接收的光线射出至所述第一反射镜组，经所述第一反射镜组反射的光线射出至所述第二反射镜，所述第二反射镜朝向背离激光器的方向倾斜，将从所述第一反射镜组射入的光线反射至待激光处理的对象表面。
作为其中一种实施方式，所述第一反射镜组包括第一子反射镜和第二子反射镜，所述自所述第一反射镜射入的光线依次经所述第一子反射镜、第二子反射镜反射后射出至所述第二反射镜。
作为其中一种实施方式，所述第一反射镜、所述第一子反射镜、所述第二子反射镜、所述第二反射镜与所述激光器的出射光路的夹角均为45°。
作为其中一种实施方式，所述的准分子激光处理装置的激光收集装置还包括设于激光器出射光路上远离激光器的第一副反射镜、设于激光器出射光路上靠近激光器的第二副反射镜以及设于激光器出射光路外的第二反射镜组，所述第一副反射镜设于激光器的出射光的辐射范围边缘；在激光器的出射光路方向上，所述第二副反射镜在所述第一反射镜上的投影至少部分位于所述第一反射镜外，所述第二反射镜在所述第一副反射镜上的投影至少部分位于所述第一副反射镜外；所述第二反射镜组用于接收从第一副反射镜反射的光线，并反射至所述第二副反射镜，所述第二副反射镜朝向背离激光器的方向倾斜，用于将从所述第二反射镜组射入的光线反射至待激光处理的对象表面。
作为其中一种实施方式，所述第一副反射镜、所述第二副反射镜分别与所述第一反射镜、所述第二反射镜关于激光器对称设置。
作为其中一种实施方式，所述第一反射镜、所述第二反射镜在激光器上的投影分别位于激光器的两相对侧。
作为其中一种实施方式，所述第一子反射镜上靠近所述第二子反射镜的端部与所述第二子反射镜上对应的端部相交且抵接。
作为其中一种实施方式，所述第一子反射镜上靠近所述第一反射镜的端部与所述第一反射镜上对应的端部相交且抵接。
作为其中一种实施方式，所述第一子反射镜与所述第二子反射镜、所述第一反射镜中的至少一个一体形成。
本发明的另一目的在于提供一种准分子激光处理装置，包括激光器和所述的准分子激光处理装置的激光收集装置。
本发明在激光器与待激光处理的对象之间设置有对未射到待激光处理的对象表面的激光进行收集的激光收集装置，将未被利用的光线进行收集并再投射到待激光处理的对象表面进行二次利用，提高了激光的光线利用率，降低了生产成本。
附图说明
图1为本发明实施例的准分子激光处理装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
参阅图1，本发明实施例的准分子激光处理装置的结构示意图，该准分子激光处理装置包括激光器L和位于激光器L与待激光处理的对象P之间的激光收集装置(图未标)。激光器L发出的激光光线一部分直接照射至待激光处理的对象P表面，另一部分经激光收集装置收集后照射至待激光处理的对象P表面进行二次利用。
本实施例的激光收集装置主要包括第一反射镜1、第二反射镜2、第一反射镜组3、第一副反射镜1＇、第二副反射镜2＇以及第二反射镜组3＇，第一反射镜1、第一副反射镜1＇均设于激光器L的出射光路上并远离激光器L，第二反射镜2、第二副反射镜2＇均设于激光器L的出射光路上且相比第一反射镜1、第一副反射镜1＇更靠近激光器L，第一反射镜组3、第二反射镜组3＇均设于激光器L的出射光路的辐射范围外。
第一反射镜1、第二反射镜2与第一反射镜组3组成一路光路通道，第一副反射镜1＇、第二副反射镜2＇与第二反射镜组3＇组成另一路光路通道。第一反射镜1设于激光器L的出射光的辐射范围边缘，用于接收激光器L发出的将会射至待激光处理的对象P上的制程(如切割)尺寸外的光线，并将接收到的光线射出至第一反射镜组3，经第一反射镜组3反射的光线射出至第二反射镜2，第二反射镜2朝向背离激光器L的方向倾斜，将从第一反射镜组3射入的光线反射至待激光处理的对象P表面。同样地，第一副反射镜1＇设于激光器L的出射光的辐射范围边缘，第二反射镜组3＇接收从第一副反射镜1＇反射的光线，并将其反射至第二副反射镜2＇，第二副反射镜2＇朝向背离激光器L的方向倾斜，可将从第二反射镜组3＇射入的光线反射至待激光处理的对象P表面。
为保证最大限度地将收集到的光线射入到待激光处理的对象P表面，这里，第一反射镜1、第二反射镜2在激光器L上的投影分别位于激光器L的两相对侧，即第一反射镜1、第二副反射镜2＇、第一反射镜组3位于激光器L的出射光路的一侧，第一副反射镜1＇、第二反射镜2、第二反射镜组3＇位于激光器L的出射光路的另一个相对侧，第二反射镜2、第二反射镜组3＇在待激光处理的对象P表面的投影分别至少覆盖该待激光处理的对象P的对应的边缘。这样，如图1所示，位于右侧的第二反射镜2反射至待激光处理的对象P的光线至少覆盖待激光处理的对象P的右侧边缘及靠近中部的部分区域，而位于左侧的第二副反射镜2＇反射至待激光处理的对象P的光线至少覆盖待激光处理的对象P的左侧边缘及靠近中部的部分区域。
作为其中一种实施方式，第一反射镜组3包括第一子反射镜31和第二子反射镜32，自第一反射镜1射入的光线依次经第一子反射镜31、第二子反射镜32反射后射出至第二反射镜2。第二反射镜组3＇包括第一子副反射镜31＇和第二子副反射镜32＇，自第一副反射镜1＇射入的光线依次经第一子副反射镜31＇、第二子副反射镜32＇反射后射出至第二副反射镜2＇。
需要注意的是，由于本实施例的第一反射镜1、第二反射镜2、第一反射镜组3、第一副反射镜1＇、第二副反射镜2＇以及第二反射镜组3＇中的各反射镜只在单面镀反射层，激光光线的集中度高，因此，激光光线可以从各反射镜背面正常透过，而当激光光线射入到各反射镜镀附有反射层的正面时则会被反射回。因此，激光收集装置的两路光线的光路路径分别是：激光器L→第一反射镜1→第一反射镜组3→第二反射镜2，激光器L→第一副反射镜1＇→第二反射镜组3＇→第二副反射镜2＇，从第一反射镜组3的第二子反射镜32射出的光线透过第二副反射镜2＇后射入到第二反射镜2的反射面，从第二反射镜组3＇的第二子副反射镜32＇射出的光线透过第二反射镜2后射入到第二副反射镜2＇的反射面，左右两部分的光路互不干涉。
另外，在激光器L的出射光路方向上，第二副反射镜2＇在第一反射镜1上的投影至少部分位于第一反射镜1外和待激光处理的对象P内，第二反射镜2在第一副反射镜1＇上的投影至少部分位于第一副反射镜1＇外和待激光处理的对象P，第一反射镜1与第一副反射镜1＇之间具有间隙，供激光通过而直接照射至待激光处理的对象P表面。即第一反射镜1、第一副反射镜1＇在待激光处理的对象P表面的投影所限定的区域即对应该对象的制程尺寸，第一反射镜1、第一副反射镜1＇起到了遮光的效果。
为保证激光光线的均匀性以及可控性，第一反射镜1、第一子反射镜31、第二子反射镜32、第二反射镜2与激光器L的出射光路的夹角均为45°，最终照射至待激光处理的对象P表面的光线都是垂直射入。同时，第一副反射镜1＇、第二副反射镜2＇分别与第一反射镜1、第二反射镜2关于激光器L对称设置，第一反射镜组3与第二反射镜组3＇关于激光器L对称设置，保证各区域光线的均匀性和一致性。
在其他实施方式中，第一子反射镜31上靠近第二子反射镜32的端部还可以与第二子反射镜32上对应的端部相交且抵接，使得经第一子反射镜31反射的光线可以最大限度地被第二子反射镜32接收到，同样，第一子副反射镜31＇上靠近第二子副反射镜32＇的端部还可以与第二子副反射镜32＇上对应的端部相交且抵接，经第一子副反射镜31＇反射的光线可以最大限度地被第二子副反射镜32＇接收到。
进一步地，第一子反射镜31上靠近第一反射镜1的端部也与第一反射镜1上对应的端部相交且抵接，第一子副反射镜31＇上靠近第一副反射镜1＇的端部也与第一副反射镜1＇上对应的端部相交且抵接，可以保证从第一反射镜1、第一副反射镜1＇射出的光线可以最大限度地被相应的第一子反射镜31、第一子副反射镜31＇接收到。第一子反射镜31可以与第二子反射镜32、第一反射镜1中的至少一个一体形成，多个反射镜之间不会发生相对错动，可以保证多个反射部位之间的光路传递的精确性，也避免了两相邻的反射镜之间的相交处漏光。
综上所述，本发明在激光器与待激光处理的对象之间设置有对未射到待激光处理的对象表面的激光进行收集的激光收集装置，将未被利用的光线进行收集并再投射到待激光处理的对象表面进行二次利用，提高了激光的光线利用率，降低了生产成本。
以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，包括设于激光器(L)出射光路上远离激光器(L)的第一反射镜(1)、设于激光器(L)出射光路上靠近激光器(L)的第二反射镜(2)以及设于激光器(L)出射光路外的第一反射镜组(3)，所述第一反射镜(1)设于激光器(L)的出射光的辐射范围边缘，用于接收激光器(L)发出的光线，并将接收的光线射出至所述第一反射镜组(3)，经所述第一反射镜组(3)反射的光线射出至所述第二反射镜(2)，所述第二反射镜(2)朝向背离激光器(L)的方向倾斜，将从所述第一反射镜组(3)射入的光线反射至待激光处理的对象(P)表面。
2.根据权利要求1所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，所述第一反射镜组(3)包括第一子反射镜(31)和第二子反射镜(32)，所述自所述第一反射镜(1)射入的光线依次经所述第一子反射镜(31)、第二子反射镜(32)反射后射出至所述第二反射镜(2)。
3.根据权利要求2所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，所述第一反射镜(1)、所述第一子反射镜(31)、所述第二子反射镜(32)、所述第二反射镜(2)与所述激光器(L)的出射光路的夹角均为45°。
4.根据权利要求3所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，还包括设于激光器(L)出射光路上远离激光器(L)的第一副反射镜(1＇)、设于激光器(L)出射光路上靠近激光器(L)的第二副反射镜(2＇)以及设于激光器(L)出射光路外的第二反射镜组(3＇)，所述第一副反射镜(1＇)设于激光器(L)的出射光的辐射范围边缘；在激光器(L)的出射光路方向上，所述第二副反射镜(2＇)在所述第一反射镜(1)上的投影至少部分位于所述第一反射镜(1)外，所述第二反射镜(2)在所述第一副反射镜(1＇)上的投影至少部分位于所述第一副反射镜(1＇)外；所述第二反射镜组(3＇)用于接收从第一副反射镜(1＇)反射的光线，并反射至所述第二副反射镜(2＇)，所述第二副反射镜(2＇)朝向背离激光器(L)的方向倾斜，用于将从所述第二反射镜组(3＇)射入的光线反射至待激光处理的对象(P)表面。
5.根据权利要求4所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，所述第一副反射镜(1＇)、所述第二副反射镜(2＇)分别与所述第一反射镜(1)、所述第二反射镜(2)关于激光器(L)对称设置。
6.根据权利要求2-5任一所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，所述第一反射镜(1)、所述第二反射镜(2)在激光器(L)上的投影分别位于激光器(L)的两相对侧。
7.根据权利要求6所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，所述第一子反射镜(31)上靠近所述第二子反射镜(32)的端部与所述第二子反射镜(32)上对应的端部相交且抵接。
8.根据权利要求7所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，所述第一子反射镜(31)上靠近所述第一反射镜(1)的端部与所述第一反射镜(1)上对应的端部相交且抵接。
9.根据权利要求8所述的准分子激光处理装置的激光收集装置，其特征在于，所述第一子反射镜(31)与所述第二子反射镜(32)、所述第一反射镜(1)中的至少一个一体形成。
10.一种准分子激光处理装置，其特征在于，包括激光器(L)和权利要求1-9任一所述的准分子激光处理装置的激光收集装置。
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