CN107544104A - 光学设备用遮光部件 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种对于以高角度入射膜法线的光具有优异反射防止性能，且滑动性优异，能够适用于小型化、薄型化光学设备的光学设备用遮光部件；进行调制使得在基材膜的至少一面上形成有遮光层的遮光部件表面的JIS 0601：2001的最大高度Rz与算术平均粗糙度Ra的差(Rz‑Ra)在6以上，动摩擦因数在0.42以下。优选上述遮光部件的表面硬度为H以上，以含浸了甲基乙基酮的脱脂棉作为相对材料的往复滑动试验前后的光学浓度差为1.5以下。

Description

光学设备用遮光部件

技术领域

本发明涉及一种光学设备用遮光部件，特别涉及应用于照相机或者投影仪、摄像机的快门或者虹膜(光圈)、垫片等的遮光部件。

背景技术

以往在照相机、投影仪或者摄像机等光学设备中，使用具有反射防止功能的遮光性膜作为羽材或者垫圈(专利文件1)。

专利文献

专利文献1特开平4-9802

发明内容

近年来，随着光学设备的小型化、薄型化进展，镜片的折射光的入射角度发生变化，从而针对入射角更大，即以高角度入射膜法线的光也具有优异的反射防止性能的遮光性膜受到需求。

针对来自各个角度的入射光，作为具有优异的反射防止性能的遮光部件，有特开平10-268105号公报所公开的在基材膜的一方的面上具有反射防止层(遮光层)的遮光部件。该文献中记载了这种遮光部件具有与植毛纸相同水平的反射防止性能，适用于各种光学器械的内面壁以及挠性印刷基板等。但关于滑动性以及防止受伤性，由于不是很足够，所以不能适于作为小型化、薄型化光学设备的快门，或者虹膜(光圈)、垫片等遮光部件使用。

因此本发明的目的在于提供一种对于以高角度入射薄膜法线的光具有优异的反射防止性能，且滑动性优异，能够适用于小型化、薄型化光学设备的光学设备用遮光部件。

本发明的发明人经过锐意研究，结果发现通过控制遮光部件表面的最大高度Rz与算术平均粗糙度Ra的差(Rz-Ra)以及动摩擦因数能够解决上述课题，并完成了本发明。即本发明的特征在于，遮光部件表面的JIS B0601：2001的最大高度Rz与算术平均粗糙度Ra的差(Rz-Ra)为6以上，动摩擦因数为0.42以下。

本发明的遮光部件的表面硬度优选在H以上。

另外，本发明的遮光部件优选具有基材膜以及形成于所述基材膜的至少一方的面上的遮光层。

进一步，优选以含浸了甲基乙基酮的脱脂棉作为相对材料的往复滑动试验前后的光学浓度差为1.5以下。

另外，上述遮光层的平均膜厚优选2μm～35μm。

本发明的遮光部件，即使对于以高角度入射膜法线的光也具有优异的反射防止性能，且滑动性优异。因此，能够应用于小型化、薄型化的光学设备中，即使是用于与其他部件滑动的部件，也能够长期的维持优异的反射防止性能。

附图说明

图1是显示本发明的一个实施例的遮光部件的构成的断面模式图。

图2是显示本发明的另一个实施例的遮光部件的构成的断面模式图。

图3是显示遮光部件表面的Rz-Ra值与对于入射角度为85℃的入射光的光泽度的关系的一个实例的图表。

具体实施方式

以下详细说明本发明的实施方式。

本发明的遮光部件，其特征在于，表面的JIS B0601:2001的最大高度Rz与算术平均粗糙度Ra的差(Rz-Ra)为6以上，动摩擦因数为0.42以下。

通过使遮光部件表面的Rz-Ra值为6以上，即使对于入射角度较大的入射光也能够发挥优异的反射防止性能。具体地，通过将遮光部件表面的Rz-Ra值控制在上述范围，在入射角85°也可确认到低光泽度且能够得到良好的反射防止性能。

遮光部件表面的Rz-Ra值，优选9以上，更优选12以上。另一方面，Rz-Ra的上限值没有特殊限定，但是在25以下，则能够防止由于过剩的凹凸形状引起的滑动性低下。

控制本发明的遮光部件表面的Rz-Ra值的方法，没有特殊限定，可以列举(A)通过添加到表面遮光层的充填剂(消光剂)的粒径、粒度分布、含有量以及遮光层的膜厚等，来控制遮光层表面的凹凸的方法；(B)在遮光部件的基材表面形成凹凸，沿着该基材表面覆盖不含有消光剂的薄膜的方法以及(C)在遮光部件的基材表面形成凹凸，且控制添加到表面遮光层的充填剂(消光剂)的粒径等的方法。

基于附图，详细说明各种方法。

首先，对以(A)方法所得到的遮光部件1的构成加以说明。如图1所示，在平坦的基材膜2的表面上覆盖含有消光剂31和基质部32的遮光层3。在遮光层3的表面，由于消光剂31而形成凹凸。这里，遮光部件1表面的Rz-Ra值，可以通过调整消光剂31的粒径、粒度分布、含量以及遮光层3的膜厚等进行控制。

接着，说明由(B)方法得到的遮光部件1的构成。

如图2所示，通过在基材膜2的表面形成凹凸，在其上覆盖薄膜4，从而在遮光部件1的表面形成模仿基材膜2表面的凹凸形状的凹凸形状。这里，在遮光部件表面的薄膜4中，不添加消光剂，遮光部件表面的Rz-Ra值通过基材膜2的凹凸形状以及薄膜4的膜厚等进行调制。另外，通过将遮光部件表面所覆盖的薄膜4作为滑动特性优异的被膜，能够减低遮光部件的动摩擦因数。

(C)方法，如(B)那样，在基材膜表面形成凹凸，且如(A)那样，在遮光部件表面覆盖含有消光剂的遮光层。在该构成中，遮光部件表面的Rz-Ra值可以通过基材膜2表面的凹凸形状、遮光层的膜厚、遮光层中的消光剂的粒径、粒度分布、含有量等进行控制。

另外，本发明的遮光部件，特征在于动摩擦因数为0.42以下。因此，本发明的遮光部件，滑动特性优异，即使用在与其他部件滑动的部件的情形下，也能维持遮光部件表面的凹凸形状，即上述的Rz-Ra值。由此能够长期地维持优异的反射防止性能(遮光特性)。

本发明的遮光部件的动摩擦因数优选0.35以下，更优选0.3以下。另外，动摩擦因数可以通过摩擦磨损试验机HEIDON等进行测定。

另外本发明的遮光部件的表面硬度优选为H以上。遮光部件的表面硬度为H以上，则在作为滑动部件使用时，遮光部件的表面的损耗得以减低，进而可以长期地维持优异的遮光特性。本发明的遮光部件的表面硬度，更优选2H以上。上述表面硬度，按照JISK5600，通过铅笔划痕测试仪进行测定。

进一步本发明的遮光部件，优选以含浸甲基乙基酮的脱脂棉为相对材料的往复滑动试验前后的光学浓度差为1.5以下。这样的耐溶剂性优异的遮光部件，能够作为交联密度高的遮光膜，成为强韧的被膜，所以能够长期维持凹凸形状，能够更加发挥优异的遮光特性和滑动性。上述滑动试验以及光学浓度的测定，可以通过以下方法进行。

相对于涂膜面，将含浸甲基乙基酮的脱脂棉以每3cm²250g的负荷，按照200mm/秒使其往复滑动20次，用光学浓度计，测定试验前后的光学浓度，算出差。

本发明的遮光部件，优选在基材膜的至少一方的面上形成有遮光层的构成。另外，这里设定(B)的方法的在基材膜表面覆盖的不含消光剂的薄膜也包含在遮光层中。

以下就本发明遮光部件的具体的材料构成进行说明。

(1)基材膜

本发明所使用的基材膜，没有特殊限定，可以是透明膜也可以是不透明膜。作为基材膜的素材，例如可以使用聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯与碳原子数为4以上的α烯烃的共聚物等的聚烯烃、聚对苯二甲酸乙酯等的聚酯、尼龙等的聚酰胺、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯等的其他通用塑料、聚碳酸酯、聚酰亚胺等的工程塑料。这些素材中从强度比较高，经济性和通用性较高的观点出发，优选使用双向拉伸的聚对苯二甲酸乙酯。通过使用在这些素材中事先揉进炭黑或者苯胺黑之类的黑色着色料的光学浓度为2以上，优选4以上的高遮光性物质，能够得到更优异的遮光效果。

基材膜的厚度，没有特殊限定，优选12～188μm，更优选12～75μm。通过将基材膜的厚度设在上述范围内，还能适用于小型或者薄型的光学部件。

在使用上述(B)以及(C)的方法时，事先在遮光部件表面加以消光加工，形成凹凸。消光加工方法，没有特别限定，可以使用已知的方法。例如，化学蚀刻法、喷射法、压光法、压延法、电晕放电法、等离子体放电法、由树脂与粗面化形成剂形成的化学消光法等。这其中，从控制形状的容易性和经济性、操作性等观点出发，优选使用喷射法，特别是喷砂法。

(2)锚固层

在上述基材膜的至少一方的面上设置遮光层之前，为了提高基材膜与遮光层的粘接性，可以设置锚固层。作为锚固层，可使用尿素类树脂层、三聚氰胺类树脂层、聚酯类树脂等。例如聚酯类树脂层可以通过在基材膜表面涂敷含有聚异氰酸酯和二胺、二醇等的含活性氢的化合物溶液，使其固化而制得。另外，尿素类树脂、三聚氰胺类树脂的情形时，可以通过在基材表面涂敷含有水溶性尿素类树脂或者水溶性三聚氰胺类树脂的溶液，使其固化而制得。

(3)遮光层

在基材膜的至少一方的面上形成遮光层。作为遮光层，有以上述(A)以及(C)方法中使用的含有消光剂的遮光层和(B)方法中使用的不具有消光剂的遮光层(滑动层、薄膜)。

以下说明各自的遮光层的构成。

1)含有消光剂的遮光层

作为遮光层的构成成分，包括树脂成分、消光剂以及着色·导电剂。

树脂成分是消光剂以及着色·导电剂的粘合剂。树脂成分的材料没有特别限定，可以使用热可塑性树脂以及热固化性树脂的任意一种。作为具体的热固化性树脂，可以例举丙烯类树脂、聚氨酯类树脂、苯酚类树脂、三聚氰胺类树脂、尿素类树脂、邻苯二甲酸二丙烯酯树脂、不饱和聚酯类树脂、环氧类树脂、醇酸类树脂等。另外，作为热可塑性树脂，可以例举聚丙烯酯树脂、聚氯乙烯树脂、丁缩醛树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物树脂等。从耐热性、耐湿性、耐溶剂性以及表面硬度的观点，优选使用热固化性树脂。作为热固化性树脂，从柔软性和被膜的强韧考虑，特别优选丙烯酸树脂。

通过添加固化剂作为遮光层的构成成分，能够促进树脂成分的交联。作为固化剂，可以使用带有官能团的尿素化合物、三聚氰胺化合物、异氰酸盐化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物、噁唑啉化合物等。这其中特别优选异氰酸盐化合物。固化剂的配合比例，优选相对于树脂成分100重量％为10～50重量％。通过在上述范围内添加固化剂，能够得到更合适的硬度的遮光层，即使与其他部件滑动的情形下，也能长期维持遮光层的Rz-Ra值，保持优异的遮光特性。

在使用固化剂的情况下，为了促进反应，还可以并用反应触媒。作为反应触媒，可以例举氨或者氯化铵等。反应触媒的配合比例，优选相对于固化剂100重量％为0.1～10重量％的范围。

作为消光剂，可以使用树脂类粒子，还可以使用无机类粒子。作为树脂类粒子，可例举三聚氰胺树脂、苯代三聚氰胺树脂、苯代三聚氰胺/三聚氰胺/福尔马林缩聚物、丙烯树脂、聚氨酯树脂、苯乙烯树脂、氟树脂、硅酮树脂等。另一方面，作为无机粒子可以例举如硅石、钒土、碳酸钙、硫酸钡、氧化钛等。这些树脂类粒子或者无机类粒子可以单独使用，也可以2种以上组合使用。

消光剂的平均粒径、粒度分布以及含有量，随着设定的遮光层的膜厚或者基材膜的表面的凹凸形状的程度不同而不同，使遮光部件的表面得到所需要的Rz-Ra值而进行调整。(A)方法时，例如在表面平滑的基材膜上形成2～35μm膜厚的遮光层的情形时，通常消光剂的平均粒径优选1～40μm，另外遮光层的膜厚为4～25μm时，消光剂的平均粒径优选5～20μm。

另外(C)方法的情形时。例如在具有凹凸形状的基材膜上形成1～10μm的遮光层时，消光剂的平均粒径优选2～15μm，而遮光层的膜厚为2～7μm时，消光剂的平均粒径优选2～10μm。

另外，消光剂的粒度分布，根据遮光层的膜厚与所选择的消光剂的大小的组合而不同，不能一概而论，但优选为尽可能为尖锐。另外还可以使用平均粒径以及粒度分布不同的复数种消光剂，调整Rz-Ra值。

消光剂的添加量取决于消光剂的平均粒径、粒度分布以及遮光层的膜厚，在(A)方法时，优选相对于遮光剂全体100重量％为20重量％～80重量％。另外(C)方法时，优选1～40重量％。

通过控制基材膜的表面形状以及消光剂的平均粒径、粒度分布和含有量，还有遮光层的膜厚等，将遮光层表面的Rz-Ra值调整到6以上，则即使对于入射角度大的入射光，也能发挥优异的遮光特性。具体地，已经确认出如上所述通过控制遮光层表面的Rz-Ra值，对于85°的入射角度的入射光，光泽度在5％以下。

另外，关于消光剂的形状没有特殊限定，但考虑涂敷液的流动特性和涂敷性、得到的遮光层的滑动特性等，优选球状的消光剂。进而，为了抑制光的反射，还可以根据需要，利用有机类或者无机类着色剂将消光剂着色为黑色。具体的着色剂，可以例举如炭黑、苯胺黑、碳纳米管等。使用被炭黑着色了的消光剂，且将炭黑等添加到遮光层中作为着色·导电剂，能够得到更优异的遮光特性。

作为着色·导电剂，通常使用炭黑等。由于添加着色·导电剂，使遮光层被着色，所以遮光性提高，且能够得到良好的带电防止效果。

着色·导电剂的平均粒径优选1nm～1000nm，更优选5nm～500nm。通过使着色·导电剂的粒径在上述范围内，能够得到更优异的遮光特性。

另外，着色·导电剂的含有量，优选相对于遮光层全体100重量％为9重量％～38重量％。通过使着色·导电剂的含量在上述范围内，能够得到更优异的遮光特性。

在本发明中，作为遮光层的构成成分，还可以根据需要，进一步添加均化剂、增粘剂、pH调整剂、润滑剂、分散剂，消泡剂等。

作为润滑剂，可以使用固体润滑剂的聚四氟乙烯(PTFE)粒子，此外，还可以使用聚乙烯类蜡等。

在有机溶剂或者水中，添加上述构成成分，通过混合搅拌，能够调制均匀的涂敷液。作为有机溶剂可以例举如，甲基乙基酮、甲苯、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇等。

将得到的涂敷液直接涂敷到基材膜表面或者涂敷到事先形成的锚固层上，通过干燥，形成遮光层。涂敷方法没有特别限定，可以使用辊涂法或者刮刀法等。

本发明的遮光层的厚度，优选2μm～35μm。特别是在含有消光剂时，在(A)方法时，遮光层的厚度优选2μm～30μm，更优选4μm～25μm。另外(C)方法时，遮光层的厚度优选1～10μm，更优选2～7μm。

遮光层的厚度设在上述范围内，能够得到所需要的遮光性和滑动性的性能。另外，含有消光剂的遮光层的厚度为从薄基材表面起到不从遮光层的消光剂中突出的基质部的高度。

ii)不含消光剂的遮光层

接着说明上述(B)方法中使用的不含有消光剂的遮光层。该构成中，如上所述，遮光部件的遮光特性，受基材膜的凹凸形状控制，所以覆盖在基材膜表面的遮光层需要是能够维持基材膜表面的凹凸形状的薄的层。这样的构成中，遮光层作为导电层和滑动层起作用。

作为上述遮光层的构成成分，含有树脂成分以及着色·导电剂。

树脂成分可以使用与含有消光剂的遮光层同样的材料。

着色·导电剂，可以使用与含有消光剂的遮光层中所使用的材料相同的材料。

该构成的遮光层中，也可以根据需要进一步添加均化剂、增粘剂、pH调整剂、润滑剂、分散剂，消泡剂等。

在水、乙醇或者有机溶剂中，添加上述构成成分，通过混合搅拌，调制均匀的涂敷液。

将得到的涂敷液直接或者通过事先形成的锚固层涂敷到事先消光加工，形成凹凸形状的基材膜表面，通过干燥，形成遮光层。涂敷方法没有特别限定，可以使用辊涂法或者刮刀法等。

如该构成那样，在不含有消光剂时，遮光层的厚度优选1μm～15μm，更优选2μm～10μm。遮光层的厚度在上述范围内，不会阻碍基材膜的凹凸形状，能够施以导电性、滑动性等。另外，不含有消光剂的遮光层的厚度是消去膜基材表面的起伏的遮光层自身的厚度。

实施例

以下通过实施例详细说明本发明，但本发明不受这些实施例的限制。另外，在实施例中，没有特别记载的情形下，“％”以及“部”表示重量％或者重量份。

(遮光层的构成成分)

(a)树脂

(a1)丙烯酸树脂：ACRYDIC A814、DIC株式会社制

(a2)丙烯酸树脂：モビニール767、日本合成化学工业株式会社制

(a3)聚氨酯树脂：ハイドランAP－40、DIC株式会社制

(b)固化剂

TDI类型聚异氰酸酯：CORONATE L、东ソー株式会社制

(c)着色·导电剂

(c1)炭黑：NX-592黑，大日精化工业株式会社制

(c2)炭黑：GPIblack#4613，御国色素株式会社制

(d)消光剂

(d1)丙烯酸填料：MX-500(平均粒径：5μm)综研化学株式会社制

(d2)丙烯酸填料：MX-1000(平均粒径：10μm)综研化学株式会社制

(d3)丙烯酸填料：MX-1500H(平均粒径：15μm)综研化学株式会社制

(d4)丙烯酸填料：MX-2000(平均粒径：20μm)综研化学株式会社

(d5)丙烯酸填料：MX-3000(平均粒径：30μm)综研化学株式会社制

(d6)丙烯酸填料：MX-300(平均粒径：3μm)综研化学株式会社制

(e)润滑剂

高结晶聚乙烯蜡：ハイテックE-3500东邦化学

(实施例1～4，比较例1～3)

按照表1所示的配比(重量)将上述树脂、固化剂、着色·导电剂以及消光剂加入到溶剂中，混合搅拌得到涂敷液。这里，作为溶媒使用MEK和甲苯。

将厚度为50μm的聚乙烯膜(ルミラーX30、东レ株式会社制)作为基材膜，在一个面上涂敷涂敷液后，于100℃干燥2分钟，形成遮光层。另外，在实施例1～4以及比较例1～2中，树脂、固化剂、着色·导电剂的种类以及含有率都完全相同，而改变消光剂的种类，调制涂敷液。另外，比较例2、实施例1以及实施例2中，使用同样的涂敷液，通过改变涂敷时的WET厚度，得到膜厚不同的遮光层。

测定以及评价得到的遮光部件以及遮光层的膜厚、Rz-Ra值、动摩擦因数、对于85°入射角的入射光的光泽度、表面硬度、耐溶剂性实验前后的光学浓度差、滑动试验后的光泽度的增加率，结果示于表1。

表1

以下，对于入射角度为85°的入射光的光泽度以及滑动试验后的光泽度的增加率的测定以及评价方法，进行说明。

(对于入射角度为85°的入射光的光泽度的测定)

按照JIS Z8741，测定了对于入射角为85°的镜面光泽度。

(滑动试验后的光泽度的增加率的测定)

对于涂敷面，使含浸了甲基乙基酮的脱脂棉，在每3cm²、250g的负荷下，以200mm/秒，进行往复滑动，通过上述方法，测定试验前后的光泽度，算出差。光泽度的增加率，通过下式算出。

{(滑动试验后的光泽度－初期光泽度)/初期光泽度}×100

(实施例5、6)

对厚度为50μm的黑色聚对苯二甲酸乙酯(ルミラーX30)的两面进行喷砂消光加工，形成表面凹凸。以表2所示的配合比(重量)，在溶剂中加入树脂、固化剂、着色·导电剂、消光剂、润滑剂，搅拌混合得到涂敷液。这里，作为溶剂，使用水和异丙醇的混合溶液。将得到的涂覆液，涂敷到两面经喷砂消光加工的上述黑色聚对苯二甲酸乙酯基材膜的各个面上后，在110℃干燥2分钟，形成遮光层。另外，实施例5中是在上述(B)方法得到的遮光层中不含消光剂的构成，实施例6是在上述(C)方法得到的，在表面具有凹凸的基材上设置含有消光剂的遮光层的构成。

得到的遮光部件以及遮光层的Rz-Ra值、动摩擦因数、对于入射角度为85°的入射光的光泽度、表面硬度、耐溶剂性试验前后的光学浓度差、滑动试验后的光泽度进行测定和评价，结果示于表2。

表2

由表1所示可知，通过使用不同种类的消光剂，能够控制表面的Rz-Ra值。另外，通过比较例2、实施例1以及实施例2可以得知即使消光剂的种类相同，也可以通过改变遮光层的膜厚，控制表面的Rz-Ra值。

图1显示了遮光部件表面的Rz-Ra值与对于入射角度为85°的入射光的光泽度的关系的结果。由该结果可知当遮光部件表面的Rz-Ra值不满6时，对于入射角度为85°的入射光的光泽度急剧上升，遮光性下降。相反，当遮光部件表面的Rz-Ra值为6以上时，则对于入射角为85°的入射光的光泽度为5以下，具有优异的遮光性。

另外，得知在使用与实施例1～4不同的树脂材料、着色·导电剂以及消光剂的比较例3中，Rz-Ra值为22，很大，对于入射角度为85°的入射光的初期的光泽度为0.6，极其低，具有优异的遮光特性。然而滑动试验后的光泽度的增加率极其高，达到50％，通过滑动，遮光特性大幅地降低。与此相对，在实施例1～实施例4中，滑动试验后的光泽度的增加率为10～16％，很低，由于滑动引起的表面的凹凸形状的磨耗被控制，能够维持对于入射角度大的入射光的优异的遮光特性。这里，比较例3中，动摩擦因数为0.47，与实施例1～4相比较高，从而可以得知降低动摩擦因数对于维持滑动部件的遮光特性是重要的。具体地，动摩擦因数需要在0.42以下。

进而，在实施例1～4的遮光部件中，可知表面硬度都高为H，耐溶剂性试验前后的光学浓度差也很低。由于这些特性，从而在实施例1～4的遮光部件，能够长期维持表面的凹凸形状，能够持续优异的遮光特性。

由表2所示可知，在形成凹凸的膜基材表面，覆盖有不含消光剂的遮光层的实施例5中，Rz-Ra值为6，对于入射角为85°的入射光的初期的光泽度为4.8。另一方面，在形成凹凸的膜基材表面，覆盖含有消光剂的遮光层的实施例6中，Rz-Ra值为6.1，对于入射角为85°的入射光的初期的光泽度为4.0。在任一种情形下，通过将Rz-Ra值控制在6以上，从而光泽度在5以下，显示出优异的遮光特性。

另外，实施例5与实施例6中动摩擦因数都低为0.2，滑动试验后的光泽度也被控制到很低。由此可知通过降低遮光部件的动摩擦因数，从而即使在滑动条件下也能够长期维持遮光部件的优异的遮光性。作为比较，对厚度为50μm的黑色聚对苯二甲酸乙酯(ルミラーX30)的两面进行喷砂消光加工，形成表面凹凸，对表面不设有遮光层的构成进行同样的评价(比较例4)。在比较例4中，得到Rz-Ra值为6，对于入射角度为85°的入射光的初期的光泽度为4.6的优异的遮光性。但比较例4中，动摩擦因数高达0.44，滑动试验后的光泽度的增加率为98％，由于滑动，遮光性大幅下降。由此可知仅通过控制遮光部件表面的Rz-Ra值来长期维持优异的遮光特性是很难的，在遮光部件表面设置遮光层，降低动摩擦因数并提高滑动性是重要的。

符号的说明

1 遮光部件

2 基材膜

3 遮光层

31 消光剂

32 基质部

4 遮光层(薄膜)

Claims (5)

1.一种光学设备用遮光部件，其特征在于，表面的JIS B0601:2001的最大高度Rz与算术平均粗糙度Ra的差(Rz-Ra)为6以上，动摩擦因数为0.42以下。

2.根据权利要求1所述的光学设备用遮光部件，其特征在于，所述光学设备用遮光部件的表面硬度在H以上。

3.根据权利要求1或者2所述的光学设备用遮光部件，其特征在于，所述光学设备用遮光部件具有基材膜以及在所述基材膜的至少一方的面上形成的遮光层。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的光学设备用遮光部件，其特征在于，在以含浸了甲基乙基酮的脱脂棉为相对材料的往复滑动试验前后的光学浓度差为1.5以下。

5.根据权利要求3或者4所述的光学设备用遮光部件，其特征在于，所述遮光层的平均膜厚为2μm-35μm。