TWI713759B - 光學設備用遮光部件 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種對於以高角度入射膜法線的光具有優異反射防止性能，且滑動性優異，能夠適用於小型化、薄型化光學設備之光學設備用遮光部件；進行調製使得在基材膜的至少一面上形成有遮光層的遮光部件之表面的JIS 0601：2001的最大高度Rz與算術平均粗糙度Ra之差(Rz-Ra)在6以上，動摩擦因數在0.42以下。較佳為上述遮光部件之表面硬度為H以上，以含浸了甲基乙基酮的脫脂棉作為相對材料之往復滑動試驗前後的光學濃度差為1.5以下。

Description

光學設備用遮光部件

本發明涉及一種光學設備用遮光部件，特別涉及應用於照相機或者投影儀、攝像機的快門或者虹膜(光圈)、墊片等的遮光部件。

以往在照相機、投影儀或者攝像機等光學設備中，使用具有反射防止功能之遮光性膜作為羽根材料(構成快門的材料)或者墊圈(專利文獻1)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利申請案特開平4-9802號公報

近年來，隨著光學設備之小型化、薄型化進展，鏡片折射光之入射角度發生變化，從而針對入射角更大，即以高角度入射膜法線的光也具有優異的反射防止性能的遮光性膜受到需求。

對於來自各個角度的入射光，作為具有優異反射防止性能之遮光部件，有特開平10-268105號公報所公開之於基材膜一側的面上具有反射防止層(遮光層)的遮光部件。該文獻中記載了這種遮光部件具有與植毛紙相同水準之反射防止性能，適用於各種光學器械之內面壁以及撓性印刷基板等。但關於滑動性以及防止受傷性，由於不是很足夠，所以不能適於作為小型化、薄型化光學設備的快門，或者虹膜(光圈)、墊片等遮光部件使用。

因此本發明之目的在於提供一種對於以高角度入射薄膜法線的光具有優異之反射防止性能，且滑動性優異，能夠適用於小型化、薄型化光學設備的光學設備用遮光部件。

本發明之發明人經過銳意研究，結果發現藉由控制遮光部件表面的最大高度Rz與算術平均粗糙度Ra之差(Rz-Ra)以及動摩擦因數能夠解決上述課題，並完成了本發明。

即本發明之特徵在於，遮光部件表面的JIS B0601：2001的最大高度Rz與算術平均粗糙度Ra之差(Rz-Ra)為6以上，動摩擦因數為0.42以下。

本發明之遮光部件之表面硬度較佳在H以上。

另外，本發明之遮光部件較佳具有基材膜以及形成於所述基材膜的至少一側的面上的遮光層。

進一步，較佳以含浸了甲基乙基酮的脫脂棉作為相對材料之往復滑動試驗前後的光學濃度差為1.5以下。

另外，上述遮光層的平均膜厚較佳2微米至35微米。

本發明之遮光部件，即使對於以高角度入射膜法線的光也具有優異的反射防止性能，且滑動性優異。因此，能夠應用於小型化、薄型化的光學設備中，即使是用於與其他部件滑動的部件，也能夠長期的維持優異的反射防止性能。

1:遮光部件

2:基材膜

3:遮光層

31:消光劑

32:基質部

4:遮光層(薄膜)

第1圖係顯示本發明一個實施態樣之遮光部件之構成的斷面模式圖。

第2圖係顯示本發明另一個實施態樣之遮光部件之構成的斷面模式圖。

第3圖係顯示遮光部件表面之Rz-Ra值與對於入射角度為85℃的入射光的光澤度的關係的一個實例的圖表。

以下詳細說明本發明之實施方式。

本發明的遮光部件，其特徵在於，表面的JIS B0601：2001的最大高度Rz與算術平均粗糙度Ra之差(Rz-Ra)為6以上，動摩擦因數為0.42以下。

藉由使遮光部件表面的Rz-Ra值為6以上，即使對於入射角度較大的入射光也能夠發揮優異的反射防止性能。具體地，藉由將遮光部件表面的Rz-Ra值控制在上述範圍，在入射角85°亦可確認到低光澤度且能夠得到良好的反射防止性能。

遮光部件表面的Rz-Ra值，較佳9以上，更佳12以上。另一方面，Rz-Ra上限值沒有特殊限定，但於25以下時能夠防止由於過剩的凹凸形狀引起的滑動性低下。

控制本發明的遮光部件表面的Rz-Ra值的方法，沒有特殊限定，可以列舉(A)藉由於表面遮光層中添加之充填劑(消光劑)的粒徑、粒度分佈、含有量以及遮光層的膜厚等，來控制遮光層表面的凹凸之方法；(B)在遮光部件之基材表面形成凹凸，沿著該基材表面覆蓋不含有消光劑的薄膜之方法以及(C)在遮光部件之基材表面形成凹凸，且控制添加至表面遮光層的充填劑(消光劑)的粒徑等的方法。

基於附圖，詳細說明各種方法。

首先，對以(A)方法所得到之遮光部件1之構成加以說明。如第1圖所示，在平坦的基材膜2之表面上覆蓋含有消光劑31和基質部32的遮光層3。在遮光層3的表面，由於消光劑31而形成凹凸。此處，遮光部件1表面之Rz-Ra值，可以藉由調整消光劑31的粒徑、粒度分佈、含量以及遮光層3的膜厚等進行控制。

接著，說明由(B)方法得到之遮光部件1之構成。

如第2圖所示，藉由於基材膜2之表面形成凹凸，於其上覆蓋薄膜4，從而於遮光部件1之表面形成模仿基材膜2表面的凹凸形狀之凹凸形狀。此處，於遮光部件表面的薄膜4中，不添加消光劑，遮光部件表面之Rz-Ra值藉由基材膜2之凹凸形狀以及薄膜4之膜厚等進行調製。另外，藉由將遮光部件表面所覆蓋的薄膜4作為滑動特性優異的被膜，能夠減低遮光部件之動摩擦因數。

(C)方法，如(B)那樣，於基材膜表面形成凹凸，且如(A)那樣，在遮光部件表面覆蓋含有消光劑的遮光層。於該構成中，遮光部件表面之Rz-Ra值可以藉由基材膜2表面之凹凸形狀、遮光層膜厚、遮光層中之消光劑的粒徑、粒度分佈、含有量等進行控制。

另外，本發明之遮光部件，特徵在於動摩擦因數為0.42以下。因此，本發明之遮光部件，滑動特性優異，即使用在與其他部件滑動的部件的情形下，也能維持遮光部件表面之凹凸形狀，即上述之Rz-Ra值。由此能夠長期地維持優異的反射防止性能(遮光特性)。

本發明之遮光部件的動摩擦因數較佳0.35以下，更佳0.3以下。另外，動摩擦因數可以藉由摩擦磨損試驗機HEIDON等進行測定。

另外本發明之遮光部件的表面硬度較佳為H以上。遮光部件的表面硬度為H以上，則即使作為滑動部件使用時，遮光部 件的表面的損耗亦得以減低，進而可以長期地維持優異的遮光特性。本發明之遮光部件的表面硬度，更佳為2H以上。上述表面硬度，按照JISK5600，藉由鉛筆劃痕測試儀進行測定。

進一步，本發明之遮光部件較佳係以含浸甲基乙基酮的脫脂棉為相對材料之往復滑動試驗前後之光學濃度差為1.5以下。這樣，將其作為耐溶劑性優異的遮光部件，從而能夠作為交聯密度高的遮光膜，成為強韌的被膜，所以能夠長期維持凹凸形狀，能夠更加發揮優異的遮光特性和滑動性。上述滑動試驗以及光學濃度的測定，可以藉由以下方法進行。

相對於塗膜面，將含浸甲基乙基酮的脫脂棉以每3公分2250公克的負荷，按照200毫米/秒使其往復滑動20次，用光學濃度計，測定試驗前後的光學濃度，算出差。

本發明之遮光部件，較佳於基材膜之至少一側的面上形成有遮光層的構成。另外，這裡設定(B)方法之於基材膜表面覆蓋不含消光劑的薄膜也包含在遮光層中。

以下就本發明遮光部件之具體的材料構成進行說明。

(1)基材膜

本發明所使用的基材膜，沒有特殊限定，可以係透明膜也可以係不透明膜。作為基材膜素材，例如可以使用聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯與碳原子數為4以上的α烯烴的共聚物等的聚烯烴、聚對苯二甲酸乙酯等的聚酯、尼龍等的聚醯胺、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯等的其他通用塑膠、 聚碳酸酯、聚醯亞胺等工程塑膠。這些素材中從強度比較高，經濟性和通用性較高之觀點，較佳使用雙向拉伸的聚對苯二甲酸乙酯。藉由使用於這些素材中事先揉進碳黑或者苯胺黑之類的黑色著色料之光學濃度為2以上，較佳4以上的高遮光性物質，能夠得到更優異的遮光效果。

基材膜之厚度，沒有特殊限定，較佳12至188微米，更佳12至75微米。藉由將基材膜厚度設在上述範圍內，還能適用於小型或者薄型之光學部件。

在使用上述(B)以及(C)之方法時，事先於遮光部件表面加以消光加工，形成凹凸。消光加工方法，沒有特別限定，可以使用已知之方法。例如，化學蝕刻法、噴射法、壓光法、壓延法、電暈放電法、等離子體放電法、由樹脂與粗面化形成劑形成的化學消光法等。這其中，從控制形狀的容易性和經濟性、操作性等觀點，較佳使用噴射法，特別是噴砂法。

(2)錨固層

在上述基材膜之至少一側的面上設置遮光層之前，為了提高基材膜與遮光層的黏接性，可以設置錨固層。作為錨固層，可使用尿素類樹脂層、三聚氰胺類樹脂層、聚酯類樹脂等。例如聚酯類樹脂層可以藉由於基材膜表面塗敷含有聚異氰酸酯和二胺、二醇等的含活性氫的化合物溶液，使其固化而製得。另外，尿素類樹脂、三聚氰胺類樹脂的情形時，可以藉由於基材表面塗敷含有水溶性尿素類樹脂或者水溶性三聚氰胺類樹脂的溶液，使其固化 而製得。

(3)遮光層

於基材膜之至少一側的面上形成遮光層。作為遮光層，有上述(A)以及(C)方法中使用之含有消光劑的遮光層和(B)方法中使用的不具有消光劑的遮光層(滑動層、薄膜)。

以下說明各遮光層之構成。

i)含有消光劑的遮光層

作為遮光層之構成成分，包括樹脂成分、消光劑以及著色導電劑。

樹脂成分係消光劑以及著色．導電劑的黏合劑。樹脂成分之材料沒有特別限定，可以使用熱可塑性樹脂以及熱固化性樹脂之任意一種。作為具體的熱固化性樹脂，可以例舉丙烯類樹脂、聚氨酯類樹脂、苯酚類樹脂、三聚氰胺類樹脂、尿素類樹脂、鄰苯二甲酸二丙烯酯樹脂、不飽和聚酯類樹脂、環氧類樹脂、醇酸類樹脂等。另外，作為熱可塑性樹脂，可以例舉聚丙烯酯樹脂、聚氯乙烯樹脂、丁縮醛樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物樹脂等。從耐熱性、耐濕性、耐溶劑性以及表面硬度之觀點，較佳使用熱固化性樹脂。作為熱固化性樹脂，從柔軟性和被膜的強韌考慮，特別佳為丙烯酸樹脂。

藉由添加固化劑作為遮光層的構成成分，能夠促進樹脂成分的交聯。作為固化劑，可以使用帶有官能團的尿素化合物、三聚氰胺化合物、異氰酸鹽化合物、環氧化合物、吖

(aziridine) 化合物、

唑啉(oxazoline)化合物等。這其中特別佳為異氰酸鹽化合物。固化劑的配合比例，較佳相對於樹脂成分100重量%為10至50重量%。藉由在上述範圍內添加固化劑，能夠得到更合適硬度之遮光層，即使與其他部件滑動的情形下，也能長期維持遮光層的Rz-Ra值，保持優異之遮光特性。

在使用固化劑的情況下，為了促進反應，還可以併用反應觸媒。作為反應觸媒，可以例舉氨或者氯化銨等。反應觸媒的配合比例，較佳相對於固化劑100重量%為0.1至10重量%的範圍。

作為消光劑，可以使用樹脂類粒子，還可以使用無機類粒子。作為樹脂類粒子，可例舉三聚氰胺樹脂、苯代三聚氰胺樹脂、苯代三聚氰胺/三聚氰胺/福馬林縮聚物、丙烯樹脂、聚氨酯樹脂、苯乙烯樹脂、氟樹脂、矽酮樹脂等。另一方面，作為無機粒子可以例舉如矽石、釩土、碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦等。這些樹脂類粒子或者無機類粒子可以單獨使用，也可以二種以上組合使用。

消光劑之平均粒徑、粒度分佈以及含有量，隨著所設定之遮光層的膜厚或者基材膜表面的凹凸形狀的程度不同而不同，使遮光部件表面得到所需要的Rz-Ra值而進行調整。(A)方法時，例如在表面平滑的基材膜上形成2至35微米膜厚的遮光層的情形時，通常消光劑的平均粒徑較佳為1至40微米，另外遮光層的膜厚為4至25微米時，消光劑的平均粒徑較佳為5至20微米。

另外(C)方法之情形下，例如在具有凹凸形狀之基材膜上形成1至10微米的遮光層時，消光劑的平均粒徑較佳為2至15微米，而遮光層的膜厚為2至7微米時，消光劑的平均粒徑較佳為2至10微米。

另外，消光劑的粒度分佈，根據遮光層的膜厚與所選擇之消光劑的大小的組合而不同，不能一概而論，但較佳為盡可能為尖銳。另外還可以使用平均粒徑以及粒度分佈不同的複數種消光劑，調整Rz-Ra值。

消光劑的添加量取決於消光劑的平均粒徑、粒度分佈以及遮光層的膜厚，在(A)方法時，較佳相對於遮光劑全體100重量%為20重量%至80重量%。另外(C)方法時，較佳1至40重量%。

藉由控制基材膜的表面形狀以及消光劑的平均粒徑、粒度分佈和含有量，還有遮光層的膜厚等，將遮光層表面的Rz-Ra值調整到6以上，則即使對於入射角度大的入射光，也能發揮優異的遮光特性。具體地，已得知如上所述藉由控制遮光層表面之Rz-Ra值，對於85°的入射角度的入射光，光澤度在5%以下。

另外，關於消光劑之形狀沒有特殊限定，但考慮塗敷液的流動特性和塗敷性、得到的遮光層的滑動特性等，較佳為球狀消光劑。進而，為了抑制光的反射，還可以根據需要，利用有機類或者無機類著色劑將消光劑著色為黑色。具體的著色劑，可以例舉如碳黑、苯胺黑、碳奈米管等。使用被碳黑著色了的消光劑， 且將碳黑等添加到遮光層中作為著色．導電劑，能夠得到更優異的遮光特性。

作為著色．導電劑，通常使用碳黑等。由於添加著色．導電劑，使遮光層被著色，所以遮光性提高，且能夠得到良好的帶電防止效果。

著色．導電劑的平均粒徑較佳1奈米至1000奈米，更佳5奈米至500奈米。藉由使著色．導電劑之粒徑於上述範圍內，能夠得到更優異的遮光特性。

另外，著色．導電劑之含有量，較佳相對於遮光層全體100重量%為9重量%至38重量%。藉由使著色．導電劑之含量在上述範圍內，能夠得到更優異的遮光特性。

在本發明中，作為遮光層的構成成分，還可以根據需要，進一步添加均化劑、增黏劑、pH調整劑、潤滑劑、分散劑，消泡劑等。

作為潤滑劑，可以使用固體潤滑劑的聚四氟乙烯(PTFE)粒子，此外，還可以使用聚乙烯類蠟等。

於有機溶劑或者水中，添加上述構成成分，經混合攪拌，能夠調製均勻之塗敷液。作為有機溶劑可以例舉如，甲基乙基酮、甲苯、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等。

將得到之塗敷液直接塗敷到基材膜表面或者塗敷到事先形成之錨固層上，經乾燥，形成遮光層。塗敷方法沒有特別限 定，可以使用輥塗法或者刮刀法等。

本發明之遮光層的厚度，較佳2微米至35微米。特別係於含有消光劑時，在(A)方法時，遮光層厚度較佳2微米至30微米，更佳4微米至25微米。另外(C)方法時，遮光層厚度較佳1至10微米，更佳2至7微米。

遮光層厚度設在上述範圍內，能夠得到所需要之遮光性和滑動性的性能。另外，含有消光劑之遮光層的厚度為從薄基材表面起到不從遮光層的消光劑中突出的基質部的高度。

ii)不含消光劑之遮光層

接著說明上述(B)方法中使用之不含有消光劑的遮光層。該構成中，如上所述，遮光部件的遮光特性，受基材膜的凹凸形狀控制，所以覆蓋於基材膜表面之遮光層需要係能夠維持基材膜表面之凹凸形狀的薄的層。這樣的構成中，遮光層作為導電層和滑動層起作用。

作為上述遮光層之構成成分包括樹脂成分以及著色．導電劑。

樹脂成分可以使用與含有消光劑之遮光層同樣的材料。

著色．導電劑，可以使用與含有消光劑的遮光層中所使用的材料相同的材料。

該構成之遮光層中，也可以根據需要進一步添加均化劑、增黏劑、pH調整劑、潤滑劑、分散劑，消泡劑等。

於水、乙醇或者有機溶劑中，添加上述構成成分，藉由 混合攪拌，調製均勻之塗敷液。

將得到之塗敷液直接或者藉由事先形成的錨固層塗敷到事先消光加工，形成凹凸形狀的基材膜表面，經乾燥，形成遮光層。塗敷方法沒有特別限定，可以使用輥塗法或者刮刀法等。

如該構成那樣，在不含有消光劑時，遮光層厚度較佳1微米至15微米，更佳2微米至10微米。遮光層厚度在上述範圍內，不會阻礙基材膜的凹凸形狀，能夠施以導電性、滑動性等。另外，不含有消光劑的遮光層的厚度係消去膜基材表面之起伏的遮光層自身的厚度。

實施例

以下藉由實施例詳細說明本發明，但本發明不受這些實施例的限制。另外，在實施例中，沒有特別記載的情形下，「%」以及「部」表示重量%或者重量份。

(遮光層構成成分)

(a)樹脂

(a1)丙烯酸樹脂：ACRYDIC A814、DIC股份有限公司製造

(a2)丙烯酸樹脂：Mowinyl 767、日本合成化學工業股份有限公司製造

(a3)聚氨酯樹脂：Hydran AP-40、DIC股份有限公司製造

(b)固化劑

TDI類型聚異氰酸酯：CORONATE L、東曹股份有限公司製造

(c)著色．導電劑

(c1)碳黑：NX-592黑，大日精化工業股份有限公司製造

(c2)碳黑：GPIblack#4613，御國色素股份有限公司製造

(d)消光劑

(d1)丙烯酸填料：MX-500(平均粒徑：5微米)綜研化學股份有限公司製造

(d2)丙烯酸填料：MX-1000(平均粒徑：10微米)綜研化學股份有限公司製造

(d3)丙烯酸填料：MX-1500H(平均粒徑：15微米)綜研化學股份有限公司製造

(d4)丙烯酸填料：MX-2000(平均粒徑：20微米)綜研化學股份有限公司製造

(d5)丙烯酸填料：MX-3000(平均粒徑：30微米)綜研化學股份有限公司製造

(d6)丙烯酸填料：MX-300(平均粒徑：3微米)綜研化學股份有限公司製造

(e)潤滑劑

高結晶聚乙烯蠟：HI-TECH E-3500東邦化學

(實施例1至4，比較例1至3)

按照表1所示配比(重量)將上述樹脂、固化劑、著色導電劑以及消光劑加入到溶劑中，混合攪拌得到塗敷液。這裡，作為溶媒使用MEK和甲苯。

將厚度為50微米之聚乙烯膜(Lumirror X30、東麗 (TORAY)股份有限公司製造)作為基材膜，在一個面上塗敷塗敷液後，於100℃乾燥2分鐘，形成遮光層。另外，於實施例1至4以及比較例1至2中，樹脂、固化劑、著色．導電劑之種類以及含有率都完全相同，而改變消光劑種類，調製塗敷液。另外，比較例2、實施例1以及實施例2中，使用同樣之塗敷液，藉由改變塗敷時的乾燥前之膜厚(即WET厚度)，得到膜厚不同的遮光層。

測定以及評價得到的遮光部件以及遮光層的膜厚、Rz-Ra值、動摩擦因數、對於85°入射角的入射光的光澤度、表面硬度、耐溶劑性實驗前後的光學濃度差、滑動試驗後的光澤度的增加率，結果示於表1。

表1

以下，對於入射角度為85°的入射光的光澤度以及滑動試驗後的光澤度的增加率的測定以及評價方法，進行說明。

(對於入射角度為85°的入射光的光澤度的測定)

按照JIS Z8741，測定了對於入射角為85°的鏡面光澤度。

(滑動試驗後的光澤度的增加率的測定)

對於塗敷面，使含浸了甲基乙基酮的脫脂棉，在每3平方公分、250公克的負荷下，以200毫米/秒，進行往復滑動，藉由上述方法，測定試驗前後的光澤度，算出差。光澤度的增加率，藉由下式算出。

{(滑動試驗後的光澤度-初期光澤度)/初期光澤度}×100

(實施例5、6)

對厚度為50微米之黑色聚對苯二甲酸乙酯(Lumirror X30)的兩面進行噴砂消光加工，形成表面凹凸。以表2所示之配合比(重量)，在溶劑中加入樹脂、固化劑、著色．導電劑、消光劑、潤滑劑，攪拌混合得到塗敷液。這裡，作為溶劑，使用水和異丙醇的混合溶液。將得到的塗覆液，塗敷到兩面經噴砂消光加工的上述黑色聚對苯二甲酸乙酯基材膜的各個面上後，在110℃乾燥2分鐘，形成遮光層。另外，實施例5中係於上述(B)方法得到的遮光層中不含消光劑的構成，實施例6係於上述(C)方法得到的，在表面具有凹凸的基材上設置含有消光劑的遮光層的構成。

得到的遮光部件以及遮光層的Rz-Ra值、動摩擦因數、對於入射角度為85°的入射光的光澤度、表面硬度、耐溶劑性試驗前後的光學濃度差、滑動試驗後的光澤度進行測定和評價，結果示於表2。

表2

由表1所示可知，藉由使用不同種類之消光劑，能夠控制表面的Rz-Ra值。另外，由比較例2、實施例1以及實施例2可以得知即使消光劑的種類相同，也可以藉由改變遮光層的膜厚，控制表面的Rz-Ra值。

第1圖顯示了遮光部件表面的Rz-Ra值與對於入射角度為85°的入射光的光澤度的關係的結果。由該結果可知當遮光部件表面的Rz-Ra值不滿6時，對於入射角度為85°的入射光的光澤度急劇上升，遮光性下降。相反，當遮光部件表面的Rz-Ra值為6以上時，則對於入射角為85°的入射光的光澤度為5以下，具有優異的遮光性。

另外，得知在使用與實施例1至4不同的樹脂材料、著色．導電劑以及消光劑的比較例3中，Rz-Ra值為22，很大，對於入射角度為85°的入射光的初期的光澤度為0.6，極其低，具有優異的遮光特性。然而滑動試驗後之光澤度的增加率極其高，達到50%，經滑動，遮光特性大幅地降低。與此相對，在實施例1至實 施例4中，滑動試驗後之光澤度的增加率為10至16%，很低，由於滑動引起的表面的凹凸形狀的磨耗被控制，能夠維持對於入射角度大的入射光的優異的遮光特性。這裡，比較例3中，動摩擦因數為0.47，與實施例1至4相比較高，從而可以得知降低動摩擦因數對於維持滑動部件的遮光特性係重要的。具體地，動摩擦因數需要在0.42以下。

進而，於實施例1至4的遮光部件中，可知表面硬度都高為H，耐溶劑性試驗前後的光學濃度差也很低。由於這些特性，從而於實施例1至4的遮光部件，能夠長期維持表面的凹凸形狀，能夠持續優異的遮光特性。

由表2所示可知，在形成凹凸的膜基材表面，覆蓋有不含消光劑之遮光層的實施例5中，Rz-Ra值為6，對於入射角為85°的入射光的初期的光澤度為4.8。另一方面，於形成凹凸的膜基材表面，覆蓋含有消光劑的遮光層的實施例6中，Rz-Ra值為6.1，對於入射角為85°的入射光的初期的光澤度為4.0。於任一種情形下，藉由將Rz-Ra值控制在6以上，從而光澤度在5以下，顯示出優異的遮光特性。

另外，實施例5與實施例6中動摩擦因數都低，為0.2，滑動試驗後的光澤度也被控制到很低。由此可知藉由降低遮光部件的動摩擦因數，從而即使在滑動條件下也能夠長期維持遮光部件的優異的遮光性。作為比較，對厚度為50微米的黑色聚對苯二甲酸乙酯(Lumirror X30)的兩面進行噴砂消光加工，形成表面凹 凸，對表面不設有遮光層的構成進行同樣的評價(比較例4)。於比較例4中，得到Rz-Ra值為6，對於入射角度為85°的入射光的初期的光澤度為4.6的優異的遮光性。但比較例4中，動摩擦因數高達0.44，滑動試驗後的光澤度的增加率為98%，由於滑動，遮光性大幅下降。由此可知僅藉由控制遮光部件表面的Rz-Ra值來長期維持優異的遮光特性係很難的，於遮光部件表面設置遮光層，降低動摩擦因數並提高滑動性係重要的。

1‧‧‧遮光部件

2‧‧‧基材膜

3‧‧‧遮光層

31‧‧‧消光劑

32‧‧‧基質部

Claims (9)

1. 一種光學設備用遮光部件，其中，該光學設備用遮光部件具有基材膜以及在該基材膜之至少一側的面上形成的遮光層，該遮光層的至少一者含有球狀的消光劑，表面的基於JIS B0601：2001的最大高度Rz與算術平均粗糙度Ra之差(Rz-Ra)為6以上，動摩擦因數為0.42以下，對於85°的入射角度的入射光，光澤度在5%以下，且對於遮光面，使含浸了甲基乙基酮的脫脂棉，在每3平方公分、250公克的負荷下，以200毫米/秒，進行往復滑動後，得到該光澤度的增加率為17%以下。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光學設備用遮光部件，其中，該光學設備用遮光部件的表面硬度在H以上。
3. 如申請專利範圍第1項或者第2項所述之光學設備用遮光部件，其中，在以含浸有甲基乙基酮的脫脂棉為相對材料之往復滑動試驗的前後的光學濃度差為1.5以下。
4. 如申請專利範圍第1項或者第2項所述的光學設備用遮光部件，其中，該遮光層的平均膜厚為2微米至35微米。
5. 如申請專利範圍第3項所述的光學設備用遮光部件，其中，該遮光層的平均膜厚為2微米至35微米。
6. 如申請專利範圍第1項或者第2項所述的光學設 備用遮光部件，其中，該消光劑是樹脂類粒子。
7. 如申請專利範圍第3項所述的光學設備用遮光部件，其中，該消光劑是樹脂類粒子。
8. 如申請專利範圍第4項所述的光學設備用遮光部件，其中，該消光劑是樹脂類粒子。
9. 如申請專利範圍第5項所述的光學設備用遮光部件，其中，該消光劑是樹脂類粒子。

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