CN107470779B - 纹理制作方法及基板组件 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种纹理制作方法及基板组件，其中，纹理制作方法包括：在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物，以形成相互叠加的基板和有机物层，有机物层由涂覆在基板上的有机物构成；控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。本发明所提供的纹理制作方法不直接在基板上加工，一方面可确保基板的整体性，保证基板的强度，另一方面，当纹理需要修改时，基板可以返工，而不必直接废弃，避免材料的浪费，从而降低生产成本。此外，针对涂覆在基板上的有机物层进行镭雕，所需的有机物层厚度很小，从而降低了成品整体厚度，避免了采用传统的UV转印技术时成品厚度偏厚的问题。

Description

纹理制作方法及基板组件

技术领域

本发明涉及终端产品领域，具体而言，涉及一种纹理制作方法和用该方法制作而成的具有纹理区域的基板组件。

背景技术

现阶段在玻璃表面制作纹理主要采用UV转印技术，该工艺主要包括开模(根据所需纹路制作金属转印模具)、转印(将UV胶水印入转印模具内)、压合(将PC片材/玻璃紧压到转印模具上)、光固(利用光固机对片材、UV胶水和转印模具进行光固)及脱模(将转印好的产品从模具中取出)等过程，从而依靠转印模具中凹槽的高低来实现纹理。

通过上述分析可知，现有纹理制作工艺中工序繁琐，金属转印模具制作难度较高，且图案样式单一，生产成本较高。

发明内容

本发明旨在解决现有技术中存在的技术问题之一。

为此，本发明的一个方面在于，提出一种纹理制作方法。

本发明的另一个方面在于，提供一种用该方法制作而成的具有纹理区域的基板组件。

有鉴于此，根据本发明的第一方面，提供了一种纹理制作方法，包括：在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物，以形成相互叠加的基板和有机物层，有机物层由涂覆在基板上的有机物构成；控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。

本发明提供的纹理制作方法，首先在基板的待加工纹理区域涂覆有机物，从而形成相互叠加的基板和有机物层，然后控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物，从而在有机物层上形成纹理区域。激光照射在有机物层表面，形成凹槽，从而有机物层与基板之间具有光程差，形成不同的明暗，进而制作出纹理。本发明提供的纹理制作方法不直接在基板上加工，一方面可确保基板的整体性，保证基板的强度，另一方面，当纹理需要修改时，基板可以返工，而不必直接废弃，避免材料的浪费，从而降低生产成本。此外，本发明提供的纹理制作方法针对涂覆在基板上的有机物层进行镭雕，即激光消除，所需的有机物层厚度很小，从而降低了成品整体厚度，避免了采用传统的UV转印技术时成品厚度偏厚的问题。

另外，根据本发明提供的上述技术方案中的纹理制作方法，还可以具有如下附加技术特征：

在上述技术方案中，优选地，基板是透明的，有机物层是透明的，有机物是透明的。

在该技术方案中，通过设置基板为透明的，有机物层是透明的，且有机物也是透明的，一方面保证光线可以从基板背离有机物层的一侧顺利射入，并继续射入有机物层中，有助于借助有机物层上加工出的凹槽形成光程差，进而在基板背离有机物层的一侧产生纹理效果；另一方面，基板及有机物层可视为一体，当激光对有机物层进行去除后，基板及剩余有机物层所形成的纹理仍为透明，则可确保后续的着色处理后的玻璃纹理各处颜色均匀一致。

在上述任一技术方案中，优选地，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物具体执行为：在基板的待加工纹理区域上涂布或喷涂或印刷有机物。

在该技术方案中，采用涂布或喷涂或印刷的方式将有机物涂覆在基板上，丰富了有机物层的形成方式，且保证了有机物层在基板上均匀、平整分布，进而使成品成色均匀，提高了工艺质量。

在上述任一技术方案中，优选地，控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域包括：控制激光以预设速度沿预设路线照射并去除有机物层的相应区域的有机物从而在有机物层上形成纹理区域；或者控制预设波长的激光以预设速度沿预设路线照射并去除有机物层的相应区域的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。

在该技术方案中，当设置激光照射强度为定值时，通过控制激光以预设速度移动，进而可控制激光在任意位置的停留时间，以此控制有机物层的去除深度，避免损坏基板。如需增加有机物层的去除深度，则可减缓激光预设速度，如需减小透明有机物层的去除深度，则可加快激光预设速度。此外，由于激光的波长越短，能量越高，因而还可进一步结合预设波长控制去除深度。

在上述任一技术方案中，优选地，有机物层的厚度小于或等于60μm。

在该技术方案中，限定有机物层的厚度小于或等于60μm，当有机物层的厚度小于60μm时，有机物层与基板的粘结强度较高，可靠性更好，而当有机物层的厚度大于60μm时，有机物层自身厚度较大，影响粘结效果，容易出现有机物层从基板上剥离或变形等问题，且造成成品整体厚度偏厚。

在上述任一技术方案中，优选地，有机物为以下至少之一：UV胶、OC胶、PC、PMMA、PET；基板为玻璃板或PMMA板或蓝宝石板；基板和有机物层采用不同材质。

在该技术方案中，有机物可以为UV胶、OC胶、PC、PMMA、PET，具有粘结强度高、透明度高及耐候性好的特点；基板为玻璃板或PMMA板或蓝宝石板，具有透明度好、化学稳定性高和耐候性好等特点。通过限定基板和有机物层采用不同的材质，可避免在激光去除有机物层的同时损坏透明基板。

在上述任一技术方案中，优选地，激光的光斑直径d的取值范围为10μm≤d≤60μm。

在该技术方案中，在使用激光制作纹理的过程中，可以通过调节光斑直径d来控制纹理图案的清晰度。光斑直径越小，所形成的纹理清晰度越高，纹理图案越清晰细腻，当光斑直径大于60μm时，不但降低了纹理图案的清晰度，还会造成能耗过高，而光斑直径小于10μm的激光实现难度大。因此，通过限定光斑直径d的取值范围为10μm≤d≤60μm，采用不同光斑直径的激光可以形成不同的纹理，且可避免能耗过高，节约生产成本。

在上述任一技术方案中，优选地，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物之前，纹理制作方法还包括：当基板为玻璃板时，将基板置入高温熔盐中进行离子交换。

在该技术方案中，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物层之前还包括：当基板为玻璃板时，将基板置入高温熔盐中进行离子交换，具体地，将处理好的玻璃板放入要掺杂的化合物的熔盐中，通过控制离子交换时的反应温度和反应时间，使得熔融的熔盐化合物中的金属阳离子与玻璃中的阳离子进行离子交换，从而制备出强度较高，性能较好的玻璃板，且该处理工艺的可重复性强，工艺简单，易于操作，适合批量生产。

在上述任一技术方案中，优选地，在控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域之后，纹理制作方法还包括：在有机物层背离基板的一侧涂覆颜色层；或者在有机物层背离基板的一侧形成着色膜，以及在着色膜背离有机物层的一侧涂覆颜色层。

在该技术方案中，在控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而形成纹理区域后，纹理制作方法还包括：在有机物层背离基板的一侧涂覆颜色层，颜色层可使纹理的明暗差异更加明显，强化纹理的显示效果，或者在有机物层背离基板的一侧形成着色膜，以及在着色膜背离有机物层的一侧涂覆颜色层，其中，着色膜纯度较高，且薄膜厚度及成分可靠，同时着色膜具有镜面效果，可加强纹理效果，使成品颜色更鲜艳丰富，且便于颜色层的涂覆。

本发明第二方面的技术方案提供了一种基板组件，基板组件包括基板和有机物层，有机物层上形成的纹理区域由上述技术方案中任一项的纹理制作方法制作而成。

综上所述，本发明提供了一种基板组件，基板组件包括基板和有机物层，有机物层上形成的纹理区域由上述任一技术方案中所述纹理制作方法制作而成，工艺简单，且不需要开设模具，节省模具费用和开模时间，提升产品制作质量和效率，降低产品的生产成本，提高了产品的竞争力。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1示出了根据本发明的第一个实施例所述的纹理制作方法的流程图；

图2示出了根据本发明的第二个实施例所述的纹理制作方法的流程图；

图3示出了根据本发明的第三个实施例所述的纹理制作方法的流程图；

图4示出了根据本发明的第四个实施例所述的纹理制作方法的流程图；

图5示出了根据本发明的第五个实施例所述的纹理制作方法的流程图；

图6a至图6c为用本发明的一个实施例提供的纹理制作方法制作基板组件的各加工阶段的示意图。

其中，图6a至图6c中附图标记与各部件名称之间的对应关系为：

1基板组件，12基板，14有机物层，16凹槽，18颜色层，20激光。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

图1示出了根据本发明的第一个实施例所述的纹理制作方法的流程图，具体步骤如下：

S102，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物，以形成相互叠加的基板和有机物层，有机物层由涂覆在基板上的有机物构成；

S104，控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。

本发明提供的纹理制作方法，首先在基板的待加工纹理区域涂覆有机物，从而形成相互叠加的基板和有机物层，然后控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物，从而在有机物层上形成纹理区域。激光照射在有机物层表面，形成凹槽，从而有机物层与基板之间具有光程差，形成不同的明暗，进而制作出纹理。本发明提供的纹理制作方法不直接在基板上加工，一方面可确保基板的整体性，保证基板的强度，另一方面，当纹理需要修改时，基板可以返工，而不必直接废弃，避免材料的浪费，从而降低生产成本。此外，本发明提供的纹理制作方法针对涂覆在基板上的有机物层进行镭雕，即激光消除，所需的有机物层厚度很小，从而降低了成品整体厚度，避免了采用传统的UV转印技术时成品厚度偏厚的问题。

在本发明一个实施例中，优选地，基板是透明的，有机物层是透明的，有机物是透明的。

在该实施例中，通过设置基板为透明的，有机物层是透明的，且有机物也是透明的，一方面保证光线可以从基板背离有机物层的一侧顺利射入，并继续射入有机物层中，有助于借助有机物层上加工出的凹槽形成光程差，进而在基板背离有机物层的一侧产生纹理效果；另一方面，基板及有机物层可视为一体，当激光对有机物层进行去除后，基板及剩余有机物层所形成的纹理仍为透明，则可确保后续的着色处理后的玻璃纹理各处颜色均匀一致。

图2示出了根据本发明的第二个实施例所述的纹理制作方法的流程图，具体步骤如下：

S202，在基板的待加工纹理区域上涂布或喷涂或印刷有机物，以形成相互叠加的基板和有机物层，有机物层由涂覆在基板上的有机物构成；

S204，控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。

在该实施例中，采用涂布或喷涂或印刷的方式将有机物涂覆在基板上，丰富了有机物层的形成方式，且保证了有机物层在基板上均匀、平整分布，进而使成品成色均匀，提高了工艺质量。

图3示出了根据本发明的第三个实施例中所述的纹理制作方法的流程图，具体步骤如下：

S302，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物，以形成相互叠加的基板和有机物层，有机物层由涂覆在基板上的有机物构成；

S304，控制激光以预设速度沿预设路线照射并去除有机物层的相应区域的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。

在该实施例中，当设置激光照射强度为定值时，通过控制激光以预设速度移动，进而可控制激光在任意位置的停留时间，以此控制有机物层的去除深度，避免损坏基板。如需增加有机物层的去除深度，则可减缓激光预设速度，如需减小透明有机物层的去除深度，则可加快激光预设速度。尽管说明书以控制激光以预设速度沿预设路线照射有机物为例进行了说明，但是还可以采取控制预设波长的激光以预设速度沿预设路线照射有机物的形式，例如，可通过调小预设波长同时减缓预设速度来增加去除深度，这同样是本发明的实施方案，这些实现方式及其他可实现的方式对于本领域技术人员而言是显而易见的。具体地，激光类型包括：可见光，红外光，紫外光及X光线等。

在本发明的一个实施例中，优选地，有机物层的厚度小于或等于60μm。

在该实施例中，限定有机物层的厚度小于或等于60μm，当有机物层的厚度小于60μm时，有机物层与基板的粘结强度较高，可靠性更好，而当有机物层的厚度大于60μm时，有机物层自身厚度较大，影响粘结效果，容易出现有机物层从基板上剥离或变形等问题，且造成成品整体厚度偏厚。

在本发明的一个实施例中，优选地，有机物为以下至少之一：UV胶、OC胶、PC、PMMA、PET；基板为玻璃板或PMMA板或蓝宝石板；基板和有机物层采用不同材质。

在该实施例中，有机物可以为UV胶、OC胶、PC、PMMA、PET，具有粘结强度高、透明度高及耐候性好的特点；基板为玻璃板或PMMA板或蓝宝石板，具有透明度好、化学稳定性高和耐候性好等特点。通过限定基板和有机物层采用不同的材质，可避免在激光去除有机物层的同时损坏透明基板。

在本发明的一个实施例中，优选地，如图6b所示，激光的光斑直径d的取值范围为10μm≤d≤60μm。

在该实施例中，在使用激光制作纹理的过程中，可以通过调节光斑直径d来控制纹理图案的清晰度。光斑直径越小，所形成的纹理清晰度越高，纹理图案越清晰细腻，当光斑直径大于60μm时，不但降低了纹理图案的清晰度，还会造成能耗过高，而光斑直径小于10μm的激光实现难度大。因此，通过限定光斑直径d的取值范围为10μm≤d≤60μm，采用不同光斑直径的激光可以形成不同的纹理，且可避免能耗过高，节约生产成本。

图4示出了根据本发明的第四个实施例中所述的纹理制作方法的流程图，具体步骤如下：

S402，当基板为玻璃板时，将基板置入高温熔盐中进行离子交换；

S404，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物，以形成相互叠加的基板和有机物层，有机物层由涂覆在基板上的有机物构成；

S406，控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域。

在该实施例中，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物层之前，纹理制作方法还包括：当基板为玻璃板时，将基板置入高温熔盐中进行离子交换，具体地，将处理好的玻璃板放入要掺杂的化合物的熔盐中，通过控制离子交换时的反应温度和反应时间，使得熔融的熔盐化合物中的金属阳离子与玻璃中的阳离子进行离子交换，从而制备出强度较高，性能较好的玻璃板，且该处理工艺的可重复性强，工艺简单，易于操作，适合批量生产。

图5示出了根据本发明的第五个实施例中所述的纹理制作方法的流程图，具体步骤如下：

S502，在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物，以形成相互叠加的基板和有机物层，有机物层由涂覆在基板上的有机物构成；

S504，控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域；

S506，在有机物层背离基板的一侧形成着色膜，以及在着色膜背离有机物层的一侧涂覆颜色层。

在该实施例中，在控制激光以预设规则照射有机物层，以去除被激光照射到的有机物从而在有机物层上形成纹理区域后，纹理制作方法还包括：在有机物层背离基板的一侧形成着色膜，以及在着色膜背离有机物层的一侧涂覆颜色层，其中，颜色层可使纹理的明暗差异更加明显，强化纹理的显示效果；着色膜纯度较高，且薄膜厚度及成分可靠，同时着色膜具有镜面效果，可加强纹理效果，使成品颜色更鲜艳丰富，且便于颜色层的涂覆。

本发明第二方面的实施例提供了一种基板组件，基板组件包括基板和有机物层，有机物层上形成的纹理区域由上述实施例中任一项的纹理制作方法制作而成。

如图6a至图6c所示，下面结合实施例来具体介绍用本发明提供的纹理制作方法制作具有纹理的基板组件1的过程：

(1)当基板12为玻璃板时，将基板12置入高温熔盐中进行离子交换；

(2)如图6a所示，在基板12的待加工纹理区域上涂布或喷涂或印刷有机物14，以形成相互叠加的基板和有机物层；

(3)如图6b所示，控制预设波长的激光20以预设速度沿预设路线照射并去除有机物层14的相应区域的有机物从而形成纹理区域16；

(4)如图6c所示，在有机物层14背离基板的一侧涂覆颜色层18。

综上所述，本发明提供了一种基板组件，基板组件包括基板和有机物层，有机物层上形成的纹理区域由上述任一实施例中所述纹理制作方法制作而成，工艺简单，且不需要开设模具，节省模具费用和开模时间，提升样品制作质量和效率，降低样品的生产成本，提高了产品的竞争力。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“具体实施例”、“一个示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种纹理制作方法，其特征在于，所述纹理制作方法包括：

在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物，以形成相互叠加的所述基板和所述有机物层，所述有机物层由涂覆在所述基板上的所述有机物构成；

控制激光以预设规则照射所述有机物层，以去除被所述激光照射到的有机物从而在所述有机物层上形成纹理区域；

所述激光照射在所述有机物层表面，形成凹槽；

所述基板是透明的，所述有机物层是透明的，所述有机物是透明的，光线从所述基板背离所述有机物层的一侧射入，并继续射入所述有机物层中，借助所述有机物层上加工出的所述凹槽形成光程差，进而在所述基板背离所述有机物层的一侧产生纹理效果。

2.根据权利要求1所述的纹理制作方法，其特征在于，所述在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物具体执行为：

在所述基板的待加工纹理区域上涂布或喷涂或印刷所述有机物。

3.根据权利要求1所述的纹理制作方法，其特征在于，所述控制激光以预设规则照射所述有机物层，以去除被所述激光照射到的有机物从而在所述有机物层上形成纹理区域包括：

控制所述激光以预设速度沿预设路线照射并去除所述有机物层的相应区域的所述有机物从而在所述有机物层形成纹理区域。

4.根据权利要求3所述的纹理制作方法，其特征在于，所述控制所述激光以预设速度沿预设路线照射并去除所述有机物层的相应区域的所述有机物从而在所述有机物层形成纹理区域包括：

控制预设波长的所述激光以预设速度沿预设路线照射并去除所述有机物层的相应区域的所述有机物从而在所述有机物层形成纹理区域。

5.根据权利要求1所述的纹理制作方法，其特征在于，所述有机物层的厚度小于或等于60µm。

6.根据权利要求1所述的纹理制作方法，其特征在于，

所述有机物为至少以下之一：UV胶、OC胶、PC、PMMA、PET；

所述基板为玻璃板或PMMA板或蓝宝石板；

所述基板和所述有机物层采用不同材质。

7.根据权利要求1所述的纹理制作方法，其特征在于，

所述激光的光斑直径d的取值范围为10µm≤d≤60µm。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的纹理制作方法，其特征在于，在所述在基板的待加工纹理区域上涂覆有机物之前，所述纹理制作方法还包括：

当所述基板为玻璃板时，将所述基板置入高温熔盐中进行离子交换。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的纹理制作方法，其特征在于，在所述控制激光以预设规则照射所述有机物层，以去除被所述激光照射到的有机物从而在所述有机物层上形成纹理区域之后，所述纹理制作方法还包括：

在所述有机物层背离所述基板的一侧涂覆颜色层；或者

在所述有机物层背离所述基板的一侧形成着色膜，以及在所述着色膜背离所述有机物层的一侧涂覆颜色层。

10.一种基板组件，其特征在于，所述基板组件包括基板和有机物层，所述有机物层上形成有纹理区域，所述纹理区域由权利要求1至9中任一项所述的纹理制作方法制作而成。