CN107450286B - 涂布口金刮拭擦及光阻刮拭装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种涂布口金刮拭擦，包括刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体包括相对的前侧面和后侧面，引导部包括朝向刮拭擦本体底部的前引导面和背向刮拭擦本体底部的后引导面；自引导部开设有同时贯穿前侧面后侧面、前引导面和后引导面的V形的刮拭槽，刮拭槽包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面。本发明还公开了一种光阻刮拭装置。由于刮拭擦具有刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体顶部的引导部的前引导面可以将自涂布口金侧面刮拭下的废弃光阻引导至流向下方，可以避免在刮拭过程中口金顶部累积废弃光阻，提高光阻刮拭效果，避免对口金的不必要维护，也提高了生产产能。
Description
技术领域
本发明涉及光阻涂布技术领域，尤其涉及一种涂布口金刮拭擦及光阻刮拭装置。
背景技术
目前，在TFT-LCD(thin film transistor-liquid crystal display，薄膜晶体管液晶显示器)行业的光阻涂布制程中，多采用狭缝型口金对基板进行光阻涂布制程。
狭缝型口金一般呈三棱柱形，因光阻本身存在较大粘性(一般大于3cp)，每次涂布后均会有些许光阻残留在口金两侧，为避免影响下一次涂胶制程，目前设计多采用刮拭擦由一端向另一端刮拭的方式对口金表面残留的光阻进行刮拭。
然而，此种刮拭擦在刮拭口金表面的光阻的过程中，存在如下几种不足：
1、当前刮拭擦设计为一个具有与口金外形匹配的楔形开口，该楔形开口的两个面贴紧在口金的两个表面进行刮拭，刮拭擦在快速刮拭光阻时，会在口金上还未刮拭的前段累积刮拭下的废弃光阻，废弃光阻积累过多进而从刮拭擦顶部溢出，导致光阻溢出至口金已刮拭的后段，沾到口金喷嘴的顶侧，无法刮拭干净。
2、鉴于以上原因，目前，对口金喷嘴顶侧的残留光阻，需要进行周期(每日)停机维护，人工使用酒精无尘布擦拭，防止长期积累造成微尘粒子(Particle)影响基板制程的问题。每次维护时需停机、擦拭、复机，至少需要2小时以上时间来完成，严重影响了生产产能。
发明内容
鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种涂布口金刮拭擦及光阻刮拭装置，可以避免在刮拭过程中口金顶部累积废弃光阻，提高光阻刮拭效果，避免对口金的不必要维护，提高生产产能。
为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：
一种涂布口金刮拭擦，用于沿涂布口金的长度方向刮拭残留光阻，包括刮拭擦本体和自所述刮拭擦本体弯折的引导部，所述刮拭擦本体包括相对的前侧面和后侧面，所述引导部包括朝向所述刮拭擦本体底部的前引导面和背向所述刮拭擦本体底部的后引导面；自所述引导部开设有同时贯穿所述前侧面、所述后侧面、所述前引导面和所述后引导面的V形的刮拭槽，所述刮拭槽包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面。
作为其中一种实施方式，所述前引导面与所述刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角。
作为其中一种实施方式，所述前侧面与所述前引导面所形成的角度小于180°。
作为其中一种实施方式，所述前侧面与所述刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角。
作为其中一种实施方式，所述前侧面与所述前引导面所形成的角度为45°～90°。
作为其中一种实施方式，所述刮拭擦本体在所述刮拭擦的刮拭方向的投影完全覆盖所述引导部在所述刮拭擦的刮拭方向的投影。
或者，所述前侧面与所述前引导面所形成的角度为130°～160°。
作为其中一种实施方式，所述前侧面垂直于所述刮拭擦的刮拭方向。
作为其中一种实施方式，所述前侧面开设有引流槽，所述引流槽沿所述刮拭擦本体的高度方向延伸，用于引导沿所述引导部流下的残留光阻流下。
本发明的另一目的在于提供一种光阻刮拭装置，包括所述的涂布口金刮拭擦。
本发明的刮拭擦具有刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体顶部的引导部的前引导面可以将自涂布口金侧面刮拭下的废弃光阻引导至流向下方，避免了在刮拭过程中口金顶部累积废弃光阻，提高了光阻刮拭效果，避免了对口金的不必要维护，也提高了生产产能。
附图说明
图1为本发明实施例1的一种涂布口金刮拭擦的结构示意图；
图2为本发明实施例1的一种光阻刮拭装置的结构示意图；
图3为本发明实施例1的另一种涂布口金刮拭擦的结构示意图；
图4为本发明实施例1的另一种光阻刮拭装置的结构示意图；
图5为本发明实施例2的涂布口金刮拭擦的结构示意图。
具体实施方式
在本发明中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本发明及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。
并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本发明中的具体含义。
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明的涂布口金刮拭擦，用于沿涂布口金的长度方向刮拭残留光阻，具有自顶部开设的刮拭槽，刮拭槽呈V形，刮拭槽具有分别正对涂布口金的面的两个刮拭面，用于与涂布口金的两个相邻面组成的V形的涂布面匹配并贴合，当涂布口金刮拭擦使用时，V形的刮拭槽紧贴在涂布口金的涂布面上，涂布口金刮拭擦通过刮拭面沿着涂布口金的长度方向上进行擦拭，而擦拭掉涂布面残留的废弃光阻等杂质。
涂布口金刮拭擦包括刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体包括相对的前侧面和后侧面，引导部包括朝向刮拭擦本体底部的前引导面和背向刮拭擦本体底部的后引导面；自引导部开设有同时贯穿前侧面、后侧面、前引导面和后引导面的V形的刮拭槽。当使用涂布口金刮拭擦时，引导部朝向刮拭方向斜上方倾斜，引导部的前引导面、刮拭擦本体的前侧面位于涂布口金刮拭擦前方所在面，引导部的后引导面、刮拭擦本体的后侧面位于涂布口金刮拭擦后方所在面，前引导面、前侧面可以对刮拭下的废弃光阻进行引导，口金顶部不会再累积废弃光阻，刮拭效果好。
实施例1
参阅图1和图2，本实施例的涂布口金刮拭擦G用于沿涂布口金K的长度方向刮拭残留光阻R，包括刮拭擦本体1和自刮拭擦本体1弯折的引导部2，刮拭擦本体1包括相对的前侧面11和后侧面12，引导部2包括朝向刮拭擦本体1底部的前引导面21和背向刮拭擦本体1底部的后引导面22；自引导部2开设有同时贯穿前侧面11、后侧面12、前引导面21和后引导面22的V形的刮拭槽10，刮拭槽10包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面13。
其中，两个刮拭面13形成贯穿前侧面11和后侧面12的V形的刮拭槽10，引导面21与前侧面11位于涂布口金刮拭擦G的同一侧(刮拭方向的前方所在侧)，且二者同时与刮拭面13相邻，两个引导部2在垂直于刮拭方向上分别设于刮拭槽10的两侧，引导部2端部朝向刮拭方向斜上方倾斜，即前引导面21与涂布口金刮拭擦G的刮拭方向所呈角度(即前引导面21到刮拭方向的角)可以为直角或锐角，这里优选为锐角。
刮拭面13同时形成在引导部2和刮拭擦本体1上，在刮拭时，两个刮拭面13分别贴合在涂布口金的两个相邻的涂布面上。由于刮拭槽10同时贯穿刮拭擦本体1和自刮拭擦本体1和其顶部的引导部2，前引导面21与涂布口金刮拭擦G的刮拭方向所呈角度为锐角，当涂布口金刮拭擦G沿着涂布口金K的长度方向刮拭时，其顶端倾斜的前引导面21将刮拭下的残留光阻进行搜集，当光阻累积到一定量时，会依次顺着引导面21、前侧面11流下。如图2所示，本实施例的光阻刮拭装置除了具有涂布口金刮拭擦G以外，还具有和清洁喷头P，废光阻槽C位于涂布口金刮拭擦G上方，为顶部开口的容器，用于对涂布口金刮拭擦G上流下的残留光阻进行搜集，清洁喷头P连接有高压水管，清洁喷头P固定在废光阻槽C端部，且朝向废光阻槽C的斜上方，当涂布口金刮拭擦G沿涂布口金K的长度方向移动至靠近涂布口金K末端完成清洗后，可以通过启动清洁喷头P对临近的涂布口金刮拭擦G进行清洗，非常方便。可以理解的是，清洁喷头P所喷出的液体可以是各种光阻清洗剂。
本实施例中，前侧面11与前引导面21所形成的角度小于180°，且前侧面11与刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角，前侧面11与前引导面21所形成的角度为45°～90°，此时，对残留光阻具有较好的引导效果，引导部2呈薄板状，其厚度优选为1mm～2mm。
更进一步地，刮拭擦本体1在刮拭擦的刮拭方向的投影完全覆盖引导部2在刮拭擦的刮拭方向的投影，即刮拭擦本体1朝向前方的伸出长度大于引导部2，可以使得更多的残留光阻经前侧面11搜集后再流入废光阻槽C，而不是很快地就流入废光阻槽C，减缓残留光阻的掉落速度，避免掉落的光阻很快掉入废光阻槽C而溅起清洗剂对涂布口金K造成二次污染。
如图3所示，本实施例的涂布口金刮拭擦G也可以为另一种构造，涂布口金刮拭擦G的前侧面11与前引导面21所形成的角度为130°～160°，刮拭擦本体1的后侧面12与引导部2的后引导面22共面，涂布口金刮拭擦G与涂布口金K的V形面具有更大的接触面积，能够保证更好的刮拭效果。结合图4所示，该刮拭擦本体1的前侧面11垂直于刮拭擦G的刮拭方向，经上方的前引导面21刮下的残留光阻绝大部分经下方的前侧面11流入废光阻槽C。
实施例2
如图5所示，在实施例1或2的基础上，本实施例的涂布口金刮拭擦G的前侧面11还开设有引流槽110，引流槽110与刮拭面13连通，且沿刮拭擦本体1的高度方向延伸，用于引导沿引导部2流下的残留光阻流下。自刮拭面13与前侧面11相邻部位搜集的残留光阻直接进入引流槽110，然后顺着引流槽110流入下方的废光阻槽C内。在引流槽110内还可以凸设有若干锯齿状的凸条，凸条的延伸方向垂直于刮拭面13，用于减缓残留光阻在竖直方向上的流速，防止其快速低落，防止清洗剂溅起到涂布口金表面造成二次污染。引流槽110可以为一个也可以为多个，每个引流槽110顶端连接前引导面21。
本发明的刮拭擦具有刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体顶部的引导部的前引导面可以将自涂布口金侧面刮拭下的废弃光阻引导至流向下方，避免了在刮拭过程中口金顶部累积废弃光阻，提高了光阻刮拭效果，避免了对口金的不必要维护，也提高了生产产能。另外，引导部朝向刮拭方向斜上方倾斜，引导部的前引导面、刮拭擦本体的前侧面位于涂布口金刮拭擦前方所在面，前引导面、前侧面可以对刮拭下的废弃光阻进行引导，口金顶部不会再累积废弃光阻，刮拭效果好，本申请的光阻刮拭装置还可以防止二次污染。
以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
Claims (7)
1.一种涂布口金刮拭擦，用于沿涂布口金的长度方向刮拭残留光阻，其特征在于，包括刮拭擦本体(1)和自所述刮拭擦本体(1)弯折的引导部(2)，所述刮拭擦本体(1)包括相对的前侧面(11)和后侧面(12)，所述引导部(2)包括朝向所述刮拭擦本体(1)底部的前引导面(21)和背向所述刮拭擦本体(1)底部的后引导面(22)；自所述引导部(2)开设有同时贯穿所述前侧面(11)、所述后侧面(12)、所述前引导面(21)和所述后引导面(22)的V形的刮拭槽(10)，所述刮拭槽(10)包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面(13)；所述前侧面(11)与刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角，所述前侧面(11)开设有引流槽(110)，在所述引流槽(110)内还凸设有若干锯齿状的凸条，所述凸条的延伸方向垂直于所述刮拭面(13)，所述引流槽(110)与所述刮拭面(13)连通，且沿所述刮拭擦本体(1)的高度方向延伸，用于引导沿所述引导部(2)流下的残留光阻和自所述刮拭面(13)与所述前侧面(11)相邻部位搜集的残留光阻流下。
2.根据权利要求1所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述前引导面(21)与所述刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角。
3.根据权利要求2所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述前侧面(11)与所述前引导面(21)所形成的角度小于180°。
4.根据权利要求3所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述前侧面(11)与所述前引导面(21)所形成的角度为45°～90°。
5.根据权利要求3所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述刮拭擦本体(1)在所述刮拭擦的刮拭方向的投影完全覆盖所述引导部(2)在所述刮拭擦的刮拭方向的投影。
6.根据权利要求3所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述前侧面(11)与所述前引导面(21)所形成的角度为130°～160°。
7.一种光阻刮拭装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一所述的涂布口金刮拭擦。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
|
| CB02 | Change of applicant information | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |