CN107450221B - 彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法。本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法包括：在衬底基板上形成黑矩阵，通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成色阻层的同时形成多个隔垫物，由于多个隔垫物是在形成色阻层时同时形成的，因此省去了现有方法中单独使用构图工艺形成隔垫物的工艺步骤，简化了彩膜基板的制作工艺。

Description

彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法。

背景技术

随着显示技术的发展，薄膜晶体管液晶显示器(简称：TFT-LCD)因其具备的高品质、低消耗功率等优越性能，已被广泛使用。TFT-LCD结构包括阵列基板、液晶层和彩膜基板，液晶层位于阵列基板和彩膜基板之间，通过控制输入的电压信号的大小，实现对液晶层中液晶的偏转角度的控制，从而实现显示器的显示。

现有的彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵、色阻层和多个柱状隔垫物，彩膜基板的结构如图1和图2所示，色阻层11包括阵列排布的多个色阻层单元111，多个色阻层单元111形成在由黑矩阵13划分的阵列区域内，多个柱状隔垫物12形成在黑矩阵13上，多个柱状隔垫物12具有较高的高度，可以起到支撑的作用，能够防止彩膜基板的组件与液晶层直接接触而造成不良。

现有技术在制作彩膜基板时，通常先在衬底基板上形成黑矩阵和色阻层，再通过构图工艺形成多个柱状隔垫物，制作方法较为繁琐，工艺步骤较多。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种彩膜基板的制作方法，限定在通过多次构图工艺形成色阻层时同时形成多个隔垫物，以省去单独使用构图工艺形成隔垫物的工艺步骤，简化隔垫物的制作过程，简化彩膜基板的制作工艺。

一方面，提供了一种彩膜基板的制作方法，所述方法包括：

在衬底基板上形成黑矩阵；

通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物。

进一步地，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

通过多次构图工艺形成色阻层，并在所述多次构图工艺中通过半曝光工艺形成所述多个隔垫物。

进一步地，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

在由所述黑矩阵划分的阵列区域内形成色阻层；

在形成所述色阻层的同时在所述黑矩阵上形成所述多个隔垫物。

进一步地，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

在由所述黑矩阵划分的阵列区域内以及所述黑矩阵表面形成色阻层，所述色阻层覆盖所述黑矩阵；

在所述色阻层上形成所述多个隔垫物，所述多个隔垫物在所述色阻层上的正投影位于所述黑矩阵上。

进一步地，所述色阻层包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，所述隔垫物至少包括第一部分；

所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

通过三次构图工艺形成对应的所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元；

在形成所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元中的一个时，同层形成所述隔垫物的所述第一部分。

另一方面，还提供了一种根据上述的制作方法制作的彩膜基板，包括衬底基板，以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵、色阻层和多个隔垫物，所述多个隔垫物是在通过多次构图工艺形成所述色阻层时同时形成的。

进一步地，所述色阻层覆盖所述黑矩阵，所述隔垫物形成在所述色阻层上，所述隔垫物在所述色阻层上的正投影位于所述黑矩阵上。

进一步地，所述色阻层包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元；

所述隔垫物至少包括第一部分，所述第一部分与所述第一色阻单元、第二色阻单元、第三色阻单元中的一个同层形成且材质相同。

另一方面，还提供了一种显示面板，包括上述的彩膜基板。

另一方面，还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。

与现有技术相比，本发明包括以下优点：

本发明提供了一种彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法。本发明提供的彩膜基板的制作方法中，在通过多次构图工艺形成色阻层的同时形成多个隔垫物，由于多个隔垫物是在形成色阻层时同时形成的，因此省去了现有方法中单独使用构图工艺形成隔垫物的工艺步骤，简化了隔垫物的制作过程，简化了彩膜基板的制作工艺。

本发明实施例在形成色阻层的多次构图工艺中，通过半曝光工艺形成多个隔垫物，可以通过半曝光工艺的次数选择和半曝光工艺的工艺参数选择，准确控制隔垫物的高度，形成具有多种精确高度的多个隔垫物，从而保证了彩膜基板和由该彩膜基板形成的显示面板、显示装置的质量。

附图说明

图1是现有的彩膜基板的主视结构示意图；

图2是现有的彩膜基板的俯视结构示意图；

图3是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第一主视结构示意图；

图4是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第二主视结构示意图；

图5是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第三主视结构示意图；

图6是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第四主视结构示意图；

图7是图6所示的彩膜基板的俯视结构示意图；

图8是本发明实施例提供的一种彩膜基板的制作方法的流程图；

图9-图12是本发明实施例在制作图3所示的彩膜基板的过程中的结构示意图。

附图标记

色阻层 11 色阻层单元 111 隔垫物 12

多个隔垫物 22 隔垫物 221 隔垫物 222 隔垫物 223

隔垫物 224 黑矩阵 23 多个隔垫物 32 隔垫物 321

隔垫物 322 隔垫物 323 隔垫物 324 黑矩阵 33

色阻层 41 多个隔垫物 42 隔垫物 421 隔垫物 422

隔垫物 423 隔垫物 424 黑矩阵 43 色阻层 51

红色阻层单元 511 绿色阻层单元 512 蓝色阻层单元 513

多个隔垫物 52 隔垫物 521 隔垫物 522 隔垫物 523

隔垫物 524 黑矩阵 53 红色柱形底座 a

黑矩阵 b1 多个隔垫物 b2 副隔垫物 b21 主隔垫物 b22

红色第一部分 c 绿色第二部分 d 蓝色第二部分 e

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的机或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面结合附图和实施例对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括衬底基板，以及形成在衬底基板上的黑矩阵、色阻层和多个隔垫物，多个隔垫物是在通过多次构图工艺形成色阻层时同时形成的。

多个隔垫物与衬底基板的相对高度大于色阻层与衬底基板的相对高度，隔垫物可以起到支撑作用，当彩膜基板与液晶层对盒设置时，隔垫物的存在可以防止彩膜基板的其他组件与液晶层接触而导致的损坏等不良的发生，隔垫物的具体高度可以实际进行设置。

基于液晶层表面为非平面结构，所以彩膜基板上起到支撑作用的多个隔垫物通常具有多种高度。多个隔垫物可以包括主隔垫物和副隔垫物，主隔垫物的高度大于副隔垫物的高度，当彩膜基板与液晶层对盒设置时，主隔垫物与液晶层的凹处相对。通常多个隔垫物中，主隔垫物的数目较少，而副隔垫物的数目较多。隔垫物可以为多种结构，如柱状结构、长方体结构等，可以根据实际进行设置。

由于本发明实施例中多个隔垫物并非是通过单独工艺曝光刻蚀得到，而是在通过构图工艺形成色阻层时同时形成的，因此依据本发明实施例所述方法制作彩膜基板时，省去了单独使用构图工艺制作隔垫物的工艺步骤，简化了隔垫物的制作过程，简化了彩膜基板的制作工艺。

在通过多次工艺形成色阻层的过程中，可以通过半曝光工艺形成多个隔垫物，半曝光工艺可以包括多种，如半色调掩膜工艺、灰色调掩膜工艺。可以通过修改形成色阻层时所使用的掩膜板的结构实现隔垫物的半曝光工艺。具体地，修改制作色阻层所使用的掩膜板时，可以修改隔垫物相对位置处的掩膜板的结构，可以根据所使用的半曝光工艺的种类，选择相应的方法修改色阻层的掩膜板的结构，例如，当半曝光工艺为半色调掩膜工艺时，在掩膜板的相对位置处设置半透膜，可以通过调整半透膜上形成的钝化层的厚度来控制半透膜的透光率，最终控制所得隔垫物的高度。

彩膜基板的色阻层通常可以包括阵列排布的多种色阻层单元，如第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，具体如红(R)色阻层单元、绿(G)色阻层单元和蓝(B)色阻层单元，多种颜色的色阻层单元是按一定顺序通过多次构图工艺先后形成的，不同种类的色阻层单元使用不同的掩膜板制作。对于某一隔垫物，在多个掩膜板上，该隔垫物相对位置处的掩膜板结构可以相同，也可以不同，例如，在红色阻层单元的掩膜板上该隔垫物相对位置处的掩膜板结构为常规掩膜板结构，在绿色阻层单元的掩膜板的相应位置处的掩膜板结构为不透光结构，在蓝色阻层单元的掩膜板的相应位置处的掩膜板结构为半透膜，多个掩膜板的具体结构可以根据实际进行设置。

由于色阻层是通过多次构图工艺形成的，每一构图工艺使用相应的掩膜板，因此隔垫物可以是通过一次半曝光工艺、多次半曝光工艺、或者结合半曝光工艺和常规曝光工艺形成的，由于这种形成方法可以准确控制隔垫物的高度等尺寸，因此形成的多个隔垫物可以具有多种精确的高度，从而保证了彩膜基板和由该彩膜基板形成的显示面板、显示装置的质量。

由于隔垫物与色阻层是通过构图工艺同时形成的，因此隔垫物的材质组成与色阻层的材质组成相同。当色阻层包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，且隔垫物至少包括第一部分时，第一部分与第一色阻单元、第二色阻单元、第三色阻单元中的一个同层形成且材质相同。进一步，隔垫物还可以包括第二部分，第二部分层叠设置在第一部分之上，第二部分与第一色阻单元、第二色阻单元、第三色阻单元中的一个同层形成且材质相同，第二部分与第一部分是分层形成，且材质不同。以此类推，隔垫物所包含的部分数目可以根据实际进行设置。

例如，隔垫物可以包括层叠设置的第一部分、第二部分和第三部分，第一部分是与第一色阻层单元如红色阻层单元同层形成且材质相同，第二部分是与第二色阻层单元如绿色阻层单元同层形成且材质相同，第三部分是与第三色阻层单元如蓝色阻层单元同层形成且材质相同。隔垫物所包括的部分数目及部分材质可以根据实际进行设置。色阻层和隔垫物可以由树脂材料构成，每种颜色的色阻层单元添加有特定的添加剂如特定颜料。

具体结构中，隔垫物、色阻层和黑矩阵可以具有多种位置关系，如，色阻层可以形成在由黑矩阵划分的阵列区域内，多个隔垫物形成黑矩阵上；又如，色阻层可以形成在由黑矩阵划分的阵列区域内同时形成在黑矩阵上，色阻层覆盖黑矩阵，隔垫物形成在色阻层上，多个隔垫物在色阻层上的正投影位于黑矩阵上。虽然上述隔垫物、黑矩阵和色阻层的相对位置不同，但是隔垫物均可在通过多次构图工艺形成色阻层时同时形成。

图3-图5是本发明实施例提供的多种彩膜基板的主视结构示意图，图3-图5所示的彩膜基板的俯视结构与图2所示的俯视结构类似，图3-图5中，彩膜基板的色阻层包括阵列排布的红色阻层单元、蓝色阻层单元和绿色阻层单元，三种色阻层单元形成在由黑矩阵划分的阵列区域内，多个隔垫物形成在黑矩阵上。隔垫物可以是与红色阻层单元、绿色阻层单元和蓝色阻层单元中的一个色阻层单元的材料或多个色阻层单元的材料构成。

图3所示的彩膜基板中，多种隔垫物22形成在黑矩阵23上，多个隔垫物22为柱状隔垫物，包括两种高度，较高的隔垫物221为主隔垫物，包括位于下部的第一部分和层叠设置在第一部分上的第二部分，第一部分是与红色阻层单元同层形成且材质相同，第二部分是与蓝色阻层单元同层形成且材质相同；较低的隔垫物222、隔垫物223和隔垫物224均为副隔垫物，均包括位于下部的第一部分、以及层叠设置在第一部分上的第二部分，第一部分是与红色阻层单元同层形成且材料相同，第二部分是与绿色阻层单元同层形成且材料相同。实际制作过程中，可以按照红-绿-蓝的顺序，先后形成红色阻层单元、绿色阻层单元和蓝色阻层单元，在形成红色阻层单元时，形成多个隔垫物22中各隔垫物的下部；在形成绿色阻层单元时，形成副隔垫物的上部；在形成蓝色阻层单元时，形成主隔垫物的上部。多个色阻层单元的制作先后顺序可以根据实际进行设置。图3中，各隔垫物的位于下部的第一部分的高度可以是红色阻层单元的厚度，这时图3所示的各隔垫物的高度可以是色阻层的厚度的一倍至两倍。

图4所示的彩膜基板中，多种隔垫物32形成在黑矩阵33上，多个隔垫物32为柱状结构，包括三种高度，最高的隔垫物321为主隔垫物，包括位于下部的第一部分和层叠设置在第一部分上的第二部分，第一部分是与红色阻层单元同层形成且材质相同，第二部分是与蓝色阻层单元同层形成且材质相同；中间高的隔垫物322和隔垫物323均为第一副隔垫物，最低的隔垫物324为第二副隔垫物，第一副隔垫物的高度大于第二副隔垫物的高度，两种副隔垫物均包括两个部分，位于下部的第一部分是与红色阻层单元同层形成且材质相同，层叠设置在第一部分上的第二部分是与绿色阻层单元同层形成且材质相同。

实际制作过程中，可以按照红-绿-蓝的顺序，先后形成红色阻层单元、绿色阻层单元和蓝色阻层单元，在形成红色阻层单元时，形成多个隔垫物32中各隔垫物的位于下部的第一部分；在形成绿色阻层单元时，形成多个副隔垫物的第二部分，第二部分层叠设置在第一部分上，由于多个副隔垫物具有不同高度，因此形成绿色阻层单元时所使用的掩膜板上，掩膜板上针对不同副隔垫物处的掩膜板结构不同，如掩膜板上不同副隔垫物处的半透膜的厚度不同；在形成蓝色阻层单元时，形成主隔垫物的第二部分，主隔垫物的第二部分层叠设置在其第一部分上。图4中，各隔垫物的位于下部的第一部分的高度可以是红色阻层单元的厚度，这时图4所示的各隔垫物的高度可以是色阻层的厚度的一倍至两倍。

图5所示的彩膜基板中，色阻层41包括阵列排布的红色阻层单元、绿色阻层单元和蓝色阻层单元，多个隔垫物42形成在黑矩阵43上。多种隔垫物42为柱状结构，包括两种高度，较高的隔垫物421为主隔垫物，较低的隔垫物422、隔垫物423和隔垫物424均为副隔垫物，所有隔垫物均包括三个部分，位于下部的第一部分，层叠设置在第一部分上的第二部分、以及层叠设置在第二部分上的第三部分，其中，第一部分是与红色阻层单元同层形成且材质相同，第二部分是与蓝色阻层单元同层形成且材质相同，第三部分是与绿色阻层单元同层形成且材质相同。

实际制作过程中，可以按照红-蓝-绿的顺序，先后形成红色阻层单元、蓝色阻层单元和绿色阻层单元，在形成红色阻层单元时，形成多个隔垫物42中各隔垫物的位于下部的第一部分；在形成蓝色阻层单元时，形成各隔垫物的位于中间的第二部分；在形成绿色阻层单元时，形成各隔垫物的位于上部的第三部分。

图5中，各隔垫物的位于下部的第一部分的高度可以是红色阻层单元的厚度，这时色阻层的厚度较薄，而多个隔垫物42的高度较高，各隔垫物的高度可以是色阻层的厚度的两倍至三倍。

图6和图7是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的结构示意图，图6和图7所示的彩膜基板中，色阻层51包括阵列排布的红色阻层单元511、绿色阻层单元512和蓝色阻层单元513，色阻层51形成在由黑矩阵53划分的阵列区域内以及在黑矩阵表面，色阻层51覆盖在黑矩阵53上，多个隔垫物52在色阻层51上的正投影位于黑矩阵53上，多个隔垫物52的设置不会影响透光区域的透光性能。

图6所示的彩膜基板中，多种隔垫物52包括两种高度，隔垫物521为主隔垫物，包括位于下部的第一部分、以及层叠设置在第一部分上的第二部分，第一部分是与绿色阻层单元512同层形成且材质相同，第二部分是与蓝色阻层单元513同层形成且材质相同；隔垫物522、隔垫物523和隔垫物524均为副隔垫物，均包括下部的第一部分、以及层叠设置在第一部分上的第二部分，第一部分是与绿色阻层单元512同层形成且材质相同，第二部分是与蓝色阻层单元513同层形成且材质相同，但是如图6所示，多个副隔垫物的具体结构不同，隔垫物的具体结构可以为多种，图6所示结构仅进行举例，还可以是其他适用结构。

实际制作过程中，可以按照红-绿-蓝的顺序，先后形成红色阻层单元511、绿色阻层单元512和蓝色阻层单元513，在形成红色阻层单元311时，在其他颜色的色阻层单元所在的区域内形成色阻层高度的红色柱形底座a，具体地，可以在蓝色阻层单元513所在区域内形成红色柱形底座a，在绿色阻层单元512所在区域内形成红色柱形底座a；在形成绿色阻层单元512时，形成各隔垫物的位于下部的第一部分，具体地，可以在红色阻层单元511上形成隔垫物52的第一部分，在蓝色阻层单元513所在区域内的红色柱形底座a上形成局部第一部分，

在绿色阻层单元512所在区域内形成绿色阻层单元512，绿色阻层单元512包裹所述红色柱形底座a，同时在所述红色柱形底座a上形成隔垫物523的第一部分；在形成蓝色阻层单元513时，分别在隔垫物521、隔垫物523和隔垫物524的第一部分上层叠形成第二部分，同时在蓝色阻层单元51所在区域内形成蓝色阻层单元51，并在该区域内的红色柱形底座a上的局部第一部分外侧形成蓝色阻层单元513的材质，最终形成隔垫物522。

图3-图7仅对适用于本发明实施例的彩膜基板及隔垫物结构进行举例，并不做限制，凡是适用于本发明实施例的隔垫物结构和彩膜基板均适用。

本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的彩膜基板。基于本发明实施例提供的彩膜基板的上述优点，使得该显示面板具有所述彩膜基板的优点，对于显示面板的优点本发明在此不再赘述。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的显示面板。基于本发明实施例提供的显示面板的上述优点，使得所述显示装置具有所述显示面板的优点，对于显示装置的优点本发明在此不再赘述。

本发明实施例还提供了一种制作上述彩膜基板的方法。图8是本发明实施例提供的制作彩膜基板的方法流程图，参照图8，所述彩膜基板的制作方法包括：

101、在衬底基板上形成黑矩阵。

102、通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成色阻层的同时形成多个隔垫物。

由于多个隔垫物是在形成色阻层时同时形成的，因此省去了现有方法中单独使用构图工艺形成隔垫物的工艺步骤，简化了彩膜基板的制作工艺。

所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物的步骤可以包括：

通过多次构图工艺形成色阻层，并在色阻层的多次构图工艺中通过半曝光工艺形成多个隔垫物。

本发明提供的彩膜基板的制作方法中，在通过多次构图工艺形成色阻层的同时形成多个隔垫物，由于多个隔垫物是在形成色阻层时同时形成的，因此省去了现有方法中单独使用构图工艺形成隔垫物的工艺步骤，简化了彩膜基板的制作工艺。

彩膜基板的色阻层通常包括多种颜色的色阻层单元，多种颜色的色阻层单元是按照预设顺序先后形成的，通常形成每种色阻层单元均需要对应一次构图工艺，一次构图工艺主要包括涂胶、曝光和刻蚀等工艺步骤。本发明实施例可以对制作色阻层的掩膜板进行修改，修改隔垫物相对位置处的掩膜板的结构，如在掩膜板的相对位置处设置半透膜，并控制半透膜上的钝化层的厚度，在使用修改后的掩膜板形成色阻层的过程中，同时通过半曝光工艺形成所需高度和尺寸隔垫物。

本发明实施例在形成色阻层的多次构图工艺中，通过半曝光工艺形成多个隔垫物，可以通过半曝光工艺的次数选择和半曝光工艺的工艺参数选择，准确控制隔垫物的高度，形成具有多种精确高度的多个隔垫物，从而保证了彩膜基板和由该彩膜基板形成的显示面板、显示装置的质量。

所述色阻层可以包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，具体可以包括红色阻层单元、绿色阻层单元和蓝色阻层单元，隔垫物可以至少包括第一部分，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物可以包括：通过三次构图工艺形成对应的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元；在形成第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元中的一个时，同层形成隔垫物的第一部分。隔垫物的第一部分由红色阻层单元、绿色阻层单元和蓝色阻层单元中的一个色阻单元层的材料构成。

进一步，所述隔垫物还可以包括第二部分，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物还可以包括：在形成第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元中的一个时，同层形成隔垫物的第二部分，其中第二部分与第一部分是层叠设置的、非同层设置的。

为使本领域技术人员更加清楚地理解本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法，现结合图9-图12所示结构对该制作方法进行详细说明。本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法可以包括以下步骤：

选择衬底基板，并在衬底基板上形成黑矩阵b1，黑矩阵b1的结构如图9所示。

在形成有黑矩阵b1的衬底基板上形成红色阻层单元，具体地是在由黑矩阵b1划分的阵列区域内形成红色阻层单元，同时在黑矩阵b1上形成多个隔垫物b2中各隔垫物的位于下部的红色第一部分c，隔垫物b2的第一部分c的结构如图10所示。

形成绿色阻层单元，并在多个副隔垫物b21的红色第一部分c上层叠形成绿色第二部分d，得到多个副隔垫物b21，副隔垫物b21的结构如图11所示。

形成蓝色阻层单元，并在主隔垫物b22的红色第一部分c上层叠形成蓝色第二部分e，得到主隔垫物b22，主隔垫物b22的结构如图12所示。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

以上对本发明所提供的彩膜基板、显示面板、显示装置及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上形成黑矩阵；

通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物；

其中，所述隔垫物形成在所述黑矩阵上；多个所述隔垫物包括两种高度；所述隔垫物包括第一部分和设置在所述第一部分上的第二部分；所述第一部分与绿色阻单元同层形成且材质相同；所述第二部分与蓝色阻层单元同层且材质相同。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

通过多次构图工艺形成色阻层，并在所述多次构图工艺中通过半曝光工艺形成所述多个隔垫物。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

在由所述黑矩阵划分的阵列区域内形成色阻层；

在形成所述色阻层的同时在所述黑矩阵上形成所述多个隔垫物。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

在由所述黑矩阵划分的阵列区域内以及所述黑矩阵表面形成色阻层，所述色阻层覆盖所述黑矩阵；

在所述色阻层上形成所述多个隔垫物，所述多个隔垫物在所述色阻层上的正投影位于所述黑矩阵上。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述色阻层包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，所述隔垫物至少包括第一部分；

所述通过多次构图工艺形成色阻层，并在形成所述色阻层的同时形成多个隔垫物包括：

通过三次构图工艺形成对应的所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元；

在形成所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元中的一个时，同层形成所述隔垫物的所述第一部分。

6.一种根据权利要求1-5任一项所述的制作方法制作的彩膜基板，其特征在于，包括衬底基板，以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵、色阻层和多个隔垫物，所述多个隔垫物是在通过多次构图工艺形成所述色阻层时同时形成的。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层覆盖所述黑矩阵，所述隔垫物形成在所述色阻层上，所述隔垫物在所述色阻层上的正投影位于所述黑矩阵上。

8.根据权利要求6或7所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层包括阵列排布的第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元；

所述隔垫物至少包括第一部分，所述第一部分与所述第一色阻单元、第二色阻单元、第三色阻单元中的一个同层形成且材质相同。

9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求6-8任一项所述的彩膜基板。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。

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