CN106940490A - 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

一种彩膜基板及其制备方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN106940490A
CN106940490A CN201710351019.4A CN201710351019A CN106940490A CN 106940490 A CN106940490 A CN 106940490A CN 201710351019 A CN201710351019 A CN 201710351019A CN 106940490 A CN106940490 A CN 106940490A
Authority
CN
China
Prior art keywords
pattern
color blocking
region
insulating pattern
color
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710351019.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106940490B (zh
Inventor
林海云
赵清辉
李东朝
杜楠楠
董廷泽
李京鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201710351019.4A priority Critical patent/CN106940490B/zh
Publication of CN106940490A publication Critical patent/CN106940490A/zh
Priority to US16/099,347 priority patent/US10908332B2/en
Priority to PCT/CN2018/086133 priority patent/WO2018210168A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106940490B publication Critical patent/CN106940490B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/003—Light absorbing elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133519—Overcoatings

Abstract

本发明提供了一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，在原本BM的区域形成色阻的材料和/或透明绝缘材料，通过对其进行黑化处理，以使其变为不透光材料，从而实现防止相邻色阻发出的光串扰的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解决产品由于彩膜基板中BM剥离而引起的不良问题，提高了产品良品率。该制备方法包括，提供一基板，基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；在色阻区域内形成色阻图案，在间隔区域内形成绝缘图案；绝缘图案由色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于间隔区域内的绝缘材料进行黑化处理，以使间隔区域不透光。

Description

一种彩膜基板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
彩膜基板(Color Filter，简称为CF)是显示面板中的重要组成之一，从液晶层透过的背光或从有机电致发光器件发出的白光透过彩膜基板上阵列排布的红、绿、蓝等颜色的色阻，从而发出红、绿、蓝等各种颜色的光，以实现显示面板的彩色显示。为了防止从相邻颜色的色阻透射出的光发生串扰，彩膜基板上通常设置有黑矩阵(Black Matrix，简称为BM)，黑矩阵上形成有阵列排布的间隔开来的多个镂空区域，相邻颜色的色阻涂覆在黑矩阵的镂空区域内，以实现防串扰的目的。
然而，由于BM材料与彩膜基板的衬底之间黏附性较弱，容易发生剥离(Peel off)问题，影响显示面板的正常显示。例如，在液晶显示面板中BM材料剥离后会出现液晶盒内的气泡不良(Bubble)。
发明内容
鉴于此，为解决现有技术的问题，本发明的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，在原本BM的区域形成色阻的材料和/或透明绝缘材料，通过对色阻的材料和/或透明绝缘材料进行黑化处理，以使其变为不透光材料，从而实现防止相邻色阻发出的光串扰的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解决产品由于彩膜基板中BM剥离而引起的不良问题，提高了产品良品率。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面、本发明实施例提供了一种彩膜基板的制备方法，所述制备方法包括，提供一基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；所述制备方法包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光。
可选的，所述对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，通过掩膜板，采用激光灼烧、紫外曝光、碳化处理和离子掺杂中的任一种方法对所述间隔区域内的所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料进行处理，以使所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料转变为不透光材料；其中，所述掩膜板的透过区域露出所述绝缘图案，所述掩膜板的不透过区域遮挡住所述色阻图案。
作为一种可选的方式，所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的绝缘图案；所述绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；对所述绝缘图案进行黑化处理，以使所述色阻图案的材料或所述透明绝缘材料转变为不透光材料。
作为一种可选的方式，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案和第二绝缘图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；所述第一绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；形成覆盖所述色阻图案和所述第一绝缘图案的保护层；其中，所述保护层覆盖所述第一绝缘图案的部分为第二绝缘图案；所述保护层由透明绝缘材料构成；对所述第二绝缘图案进行黑化处理，以使所述保护层的材料转变为不透光材料。
作为一种可选的方式，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案、第二绝缘图案和隔垫物的图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；所述第一绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；形成覆盖所述色阻图案和所述第一绝缘图案的保护层；其中，所述保护层覆盖所述第一绝缘图案的部分为第二绝缘图案；在所述第二绝缘图案上形成隔垫物；所述隔垫物由透明绝缘材料构成；对所述隔垫物进行黑化处理，以使所述隔垫物的材料转变为不透光材料。
作为一种可选的方式，所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，将所述间隔区域空缺出来，在所述色阻区域内形成间隔设置的色阻图案；形成覆盖所述色阻图案和所述间隔区域的保护层；其中，所述保护层在覆盖所述间隔区域内的部分为绝缘图案，所述绝缘图案具有预设厚度；所述保护层由透明绝缘材料构成；对所述绝缘图案进行黑化处理，以使所述保护层的材料转变为不透光材料。
作为一种可选的方式，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案和隔垫物的图案；所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，将所述间隔区域空缺出来，在所述色阻区域内形成间隔设置的色阻图案；形成覆盖所述色阻图案和所述间隔区域的保护层；所述保护层在覆盖所述间隔区域内的部分为第一绝缘图案；在所述第一绝缘图案上形成具有预设厚度的隔垫物；其中，所述隔垫物由透明绝缘材料构成；对所述隔垫物进行黑化处理，以使所述隔垫物的材料转变为不透光材料。
第二方面、本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；所述彩膜基板还包括，设置在所述色阻区域内的间隔开来的色阻图案；所述彩膜基板还包括，设置在所述间隔区域内的绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成。
优选的，所述彩膜基板还包括覆盖所述基板的保护层和设置在所述保护层上的隔垫物；在所述绝缘图案包括有由透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成的情况下，所述透明绝缘材料为所述保护层位于所述间隔区域内的部分和/或位于所述间隔区域上方的所述隔垫物。
第三方面、本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述的彩膜基板。
基于此，通过本发明实施例提供的上述制备方法，通过对形成在间隔区域内的色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行黑化处理，以使其变为不透光材料，从而实现防止相邻色阻发出的光串扰的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解决产品由于彩膜基板中BM剥离而引起的不良问题，提高了产品良品率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制备方法流程示意图；
图2为本发明实施例提供的一种彩膜基板中基板的结构示意图；
图3为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图一；
图4为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图二；
图5为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图三；
图6为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图四；
图7为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图五；
图8为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图六；
图9为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图七；
图10为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图八；
图11为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图九；
图12为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图十；
图13为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图十一；
图14为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图十二；
图15为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图十三；
图16为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图十四；
图17为本发明具体实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图十五。
附图标记：
1-基板；1A-色阻区域；1B-间隔区域；2-绝缘图案；21-第一绝缘图案；22-第二绝缘图案；3-保护层；4-隔垫物。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要指出的是，除非另有定义，本发明实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解，诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。
例如，本发明专利申请说明书以及权利要求书中所使用的术语“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，仅是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“一侧”、“另一侧”等指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于说明本发明的技术方案的简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
本发明实施例提供了一种彩膜基板的制备方法，该制备方法包括，提供一基板，基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；如图1所示，该制备方法具体包括，
步骤S01、在色阻区域内形成色阻图案，在间隔区域内形成绝缘图案；其中，绝缘图案由色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；
步骤S02、对位于间隔区域内的绝缘材料进行黑化处理，以使间隔区域不透光。
需要说明的是，第一、本发明实施例对上述色阻图案的颜色、排布方式均不作限定，具体可沿用现有技术中彩膜基板的相应设计。示例的，色阻图案(Red Resin、红色色阻；Green Resin、绿色色阻；Blue Resin、蓝色色阻)的排列方式可以为条形、马赛克形、品字形(Delta形)等，本发明实施例对此不再赘述。
其中，基板1上的间隔区域1B即现有技术中原本要形成BM的空缺区域。
第二、在现有技术中，BM材料通常是由不透明的金属Cr、氧化铬(CrOx)、黑色的石墨等添加有颜料和/或染料的树脂材料构成；而在本发明实施例中，色阻图案的材料通常是红色、绿色、蓝色等光可透过的材料，显然是不同于现有技术中的BM材料的。通过对色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行黑化处理，可以使得这些光可透过的材料转变为不透光的遮光材料，从而起到与BM材料相同的隔离色阻的作用。
这里，上述的“黑化处理”，是指通过相应的化学手段改变色阻图案的材料和/或透明绝缘材料，以使其转变为不透光的遮光材料。
第三、本发明实施例对上述的对位于间隔区域内的绝缘材料进行黑化处理的步骤与在色阻区域内形成色阻图案的步骤的先后顺序不作限定，对位于间隔区域内的绝缘材料进行黑化处理的步骤可以在形成色阻图案的步骤之前或之后进行。
例如，当绝缘图案包括有色阻图案的材料时，即对色阻图案的材料采用一次构图工艺处理，形成位于色阻区域内的色阻图案的同时，还形成了位于间隔区域内的色阻图案的材料，这部分材料构成了间隔区域内的绝缘图案(或其中一部分)的情况时，对位于间隔区域内的绝缘材料进行黑化处理的步骤则是在形成色阻图案与绝缘图案的步骤之后。
并且，在上述绝缘图案包括有透明绝缘材料时，该透明绝缘材料可以为形成保护层和/或形成隔垫物的材料。即，上述制备方法在形成色阻图案的具体步骤之后，还可包括有形成保护层的步骤，或者依次形成保护层和隔垫物的步骤。因此，上述的透明绝缘材料具体可以为保护层位于该间隔区域内的部分，或者为保护层位于该间隔区域内的部分和设置在该区域内的隔垫物。从而可以节约生产成本，进一步简化CF的制作工序。
基于此，通过本发明实施例提供的上述制备方法，通过对形成在间隔区域内的色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行黑化处理，以使其变为不透光材料，从而实现防止相邻色阻发出的光串扰的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解决产品由于彩膜基板中BM剥离而引起的不良问题，提高了产品良品率。
进一步的，上述黑化处理的步骤具体包括，通过掩膜板进行适当尺寸的遮挡，采用激光灼烧、紫外曝光、碳化处理和离子掺杂中的任一种方法对间隔区域内的色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行处理，以使色阻图案的材料和/或透明绝缘材料转变为不透光材料；其中，掩膜板的透过区域露出绝缘图案，掩膜板的不透过区域遮挡住色阻图案。
其中，激光灼烧是指利用激光的高能量对色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行加热，以使其发生烧灼，颜色变为不透明的遮光材料。
紫外曝光是指通过紫外光照射的方式使色阻图案的材料和/或透明绝缘材料中的光引发剂与色阻图案的材料或透明绝缘材料的主体材料发生一些列的化学反应，从而使色阻图案的材料或透明绝缘材料整体呈现不透光的效果。在此情况下，色阻图案的材料和/或透明绝缘材料中当然还包括有光引发剂。
碳化处理是指对含碳链的有机材料进行高温处理，以使其颜色变为不透光的材料。由于色阻图案的材料通常为有机材料，该处理方法可适用于对色阻图案的材料的处理，和/或对上述透明绝缘材料具体为有机透明绝缘材料时的处理。
离子掺杂处理是指对色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行掺杂，通过改变材料的组分使其颜色变为不透光的遮光材料。示例的，可以通过采用等离子体化学气相沉积或等离子体源对色阻图案的材料和/或透明绝缘材料进行氢等离子体处理，以使其颜色变为不透光的材料。
下面提供5个具体的实施例，用于详细描述上述的制备方法。
实施例1
本发明实施例1提供如图2所示的一基板1，该基板1划分有多个间隔开来的色阻区域1A和位于相邻两个色阻区域1A之间的间隔区域1B；并具体提供一种彩膜基板的具体制备方法，该制备方法包括但不限于以下步骤，
步骤S11、如图3或图4所示，在色阻区1A内形成色阻图案(图中以R、G、B标记示意出)，在间隔区域1B内形成具有预设厚度的绝缘图案2；该绝缘图案由色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；
步骤S12、如图5或图6所示，对绝缘图案2进行黑化处理，以使色阻图案的材料或透明绝缘材料转变为不透光材料。
需要说明的是，第一、绝缘图案2具有预设厚度，该预设厚度具体为现有技术中具有同等尺寸的彩膜基板中的BM的厚度，以使得本实施例1形成的彩膜基板的厚度与现有技术包括有BM的彩膜基板的厚度相同，满足产品的具体应用要求。
第二、参考图3所示，当上述绝缘图案2由色阻图案的材料构成时，色阻区1A内形成色阻图案的步骤与在间隔区域1B内形成具有预设厚度的绝缘图案2的步骤可在同一次构图工艺下形成，其中，用于形成绝缘图案2的色阻材料可以为红/绿/蓝等颜色的色阻材料(R/G/B Resin)中的任一种。
即，在形成红/绿/蓝等任一种颜色的色阻图案时，在间隔区域1B内也保留该颜色的色阻材料，以形成绝缘图案2。示例的，可以在形成R色阻的工序涂布时在间隔区域1B内也涂布上R色阻的材料，之后在进行G/B色阻的涂布。
在此之后，参考图5所示，可通过掩膜板的遮挡，对绝缘图案2进行黑化处理，以使其转变为不透光材料，起到现有技术中BM的作用。
第三、参考图4所示，当上述绝缘图案2其他透明绝缘材料构成时，可以先形成绝缘图案2。之后，再通过掩膜板的遮挡，对绝缘图案2进行黑化处理，以使其转变为不透光材料，起到现有技术中BM的作用。
在此之后，参考图6所示，可再形成R/G/B的色阻图案。并且，为了防止漏光，R/G/B的色阻图案可以搭接在绝缘图案2之上。
实施例2
本发明实施例2提供如图2所示的一基板1，该基板1划分有多个间隔开来的色阻区域1A和位于相邻两个色阻区域1A之间的间隔区域1B；并具体提供一种彩膜基板的具体制备方法，该制备方法包括但不限于以下步骤，
步骤S21、如图7或图8所示，在色阻区域1A内形成色阻图案(图中以R、G、B标记示意出)，在间隔区域1B内形成具有预设厚度的第一绝缘图案21；该第一绝缘图案21由色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；
步骤S22、如图9或图10所示，形成覆盖色阻图案和第一绝缘图案21的保护层(OverCoat，简称为OC)3；其中，该保护层3覆盖第一绝缘图案21的部分为第二绝缘图案22；该保护层3由透明绝缘材料构成；
步骤S23、如图11或图12所示，对第二绝缘图案进行黑化处理，以使保护层的材料转变为不透光材料。
需要说明的是，第一、即上述的绝缘图案2包括层叠设置的第一绝缘图案21和第二绝缘图案22。
第二、在上述步骤S21中，第一绝缘图案21由色阻图案的材料或透明绝缘材料构成的结构可参见前述实施例1，本实施例2对此不做赘述。
第三、本实施例2还可以包括对在先形成的第一绝缘图案21进行黑化处理的步骤，以形成如图13所示的结构，从而进一步加强遮光效果，具体步骤可参考前述描述，本实施例2对此不做赘述。
实施例3
本发明实施例3提供如图2所示的一基板1，该基板1划分有多个间隔开来的色阻区域1A和位于相邻两个色阻区域1A之间的间隔区域1B；并具体提供一种彩膜基板的具体制备方法，该制备方法包括但不限于以下步骤，
步骤S31、参考图7或图8所示，在色阻区域内形成色阻图案(图中以R、G、B标记示意出)，在间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；第一绝缘图案由色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；
步骤S32、参考图9或图10所示，形成覆盖色阻图案和第一绝缘图案21的保护层3；其中，保护层3覆盖第一绝缘图案21的部分为第二绝缘图案22；
步骤S33、如图14或图15所示，在第二绝缘图案22上形成隔垫物4；该隔垫物4由透明绝缘材料构成；
步骤S34、如图16或图17所示，对上述的隔垫物4进行黑化处理，以使隔垫物4的材料转变为不透光材料。
需要说明的是，需要说明的是，第一、即上述的绝缘图案2包括层叠设置的第一绝缘图案21、第二绝缘图案22和隔垫物4的图案
第二、隔垫物4(Post Spacer，简称为PS)的形状即为覆盖在原本R/G/B色阻图案之间的长条柱状，可在起到现有技术中的BM的遮挡效果的同时，增加隔垫物4对于彩膜基板与阵列基板之间的支撑强度。其具体制备过程可沿用现有技术，本实施例3对此不再赘述。
此外，本实施例3还可包括有对隔垫物4下方的第二绝缘图案22和/或第一绝缘图案21进行黑化处理的步骤，以进一步加强遮光效果。
实施例4
本发明实施例4提供如图2所示的一基板1，该基板1划分有多个间隔开来的色阻区域1A和位于相邻两个色阻区域1A之间的间隔区域1B；并具体提供一种彩膜基板的具体制备方法，该制备方法包括但不限于以下步骤，
步骤S41、将间隔区域1B空缺出来，在色阻区域内形成间隔设置的R/G/B色阻图案；
步骤S42、形成覆盖R/G/B色阻图案和间隔区域1B的保护层；保护层在覆盖间隔区域1B内的部分为第一绝缘图案；
步骤S43、在第一绝缘图案上形成具有预设厚度的隔垫物；其中，隔垫物由透明绝缘材料构成；
步骤S44、对隔垫物进行黑化处理，以使隔垫物的材料转变为不透光材料。
即上述的绝缘图案2包括层叠设置的第一绝缘图案和隔垫物的图案，具体结构可参见前述实施例，本实施例5对此不再赘述。
这里，相比于上述实施例1-3，本实施例4采用保护层的一部分和设置在原本BM区域上的隔垫物作为绝缘图案，结构较为简单，易于实现。
实施例5
本发明实施例5提供如图2所示的一基板1，该基板1划分有多个间隔开来的色阻区域1A和位于相邻两个色阻区域1A之间的间隔区域1B；并具体提供一种彩膜基板的具体制备方法，该制备方法包括但不限于以下步骤，
步骤S51、将间隔区域1B空缺出来，在色阻区域1A内形成间隔设置的R/G/B色阻图案；
步骤S52、形成覆盖R/G/B色阻图案和间隔区域1B的保护层；其中，保护层在覆盖间隔区域1B内的部分为绝缘图案，该绝缘图案具有预设厚度；保护层由透明绝缘材料构成；
步骤S53、对绝缘图案进行黑化处理，以使保护层的材料转变为不透光材料。
即绝缘图案为保护层覆盖间隔区域1B内的部分，具体结构可参见前述实施例，本实施例5对此不再赘述。
这里，相比于上述实施例4，本实施例5直接采用保护层的一部分作为绝缘图案，结构更为简单，更易于实现。
在上述基础上，本发明实施例还提供了一种彩膜基板，包括基板，该基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；上述彩膜基板还包括，设置在色阻区域内的间隔开来的色阻图案；该彩膜基板还包括，设置在间隔区域内的绝缘图案；其中，绝缘图案由色阻图案的材料和/或透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成。
具体的，上述彩膜基板还包括覆盖基板的保护层和设置在保护层上的隔垫物；在上述绝缘图案包括有由透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成的情况下，上述的透明绝缘材料具体为保护层位于间隔区域内的部分和/或位于间隔区域上方的隔垫物。
其中，保护层OC的材料具体可以包括，主体基材，如环氧树脂、PI-type聚合物(脂环聚酰亚胺)等；添加在主体基材中的如(羧基类)固化剂、表面活性剂等添加剂。
隔垫物PS的材料具体可以为丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol monomethylether acetate，简称为PGMEA)、二甘醇二甲醚(Bis(2-methoxy ethyl)ether，简称为DG)等。
在上述基础上，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括有上述的彩膜基板。上述显示装置具体可以是液晶显示器、液晶电视、有机电致发光显示器、有机电致发光电视、数码相框、手机、平板电脑、数码相框、导航仪等具有任何显示功能的产品或者部件。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种彩膜基板的制备方法，所述制备方法包括，提供一基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；其特征在于，所述制备方法包括，
在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；
对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，
通过掩膜板，采用激光灼烧、紫外曝光、碳化处理和离子掺杂中的任一种方法对所述间隔区域内的所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料进行处理，以使所述色阻图案的材料和/或所述透明绝缘材料转变为不透光材料；
其中，所述掩膜板的透过区域露出所述绝缘图案，所述掩膜板的不透过区域遮挡住所述色阻图案。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，
在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的绝缘图案；所述绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；
对所述绝缘图案进行黑化处理，以使所述色阻图案的材料或所述透明绝缘材料转变为不透光材料。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案和第二绝缘图案；
所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，
在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；所述第一绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；
形成覆盖所述色阻图案和所述第一绝缘图案的保护层；其中，所述保护层覆盖所述第一绝缘图案的部分为第二绝缘图案；所述保护层由透明绝缘材料构成；
对所述第二绝缘图案进行黑化处理，以使所述保护层的材料转变为不透光材料。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案、第二绝缘图案和隔垫物的图案；
所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，
在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成具有预设厚度的第一绝缘图案；所述第一绝缘图案由所述色阻图案的材料或透明绝缘材料构成；
形成覆盖所述色阻图案和所述第一绝缘图案的保护层；其中，所述保护层覆盖所述第一绝缘图案的部分为第二绝缘图案；
在所述第二绝缘图案上形成隔垫物；所述隔垫物由透明绝缘材料构成；
对所述隔垫物进行黑化处理，以使所述隔垫物的材料转变为不透光材料。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，
将所述间隔区域空缺出来，在所述色阻区域内形成间隔设置的色阻图案；
形成覆盖所述色阻图案和所述间隔区域的保护层；其中，所述保护层在覆盖所述间隔区域内的部分为绝缘图案，所述绝缘图案具有预设厚度；所述保护层由透明绝缘材料构成；
对所述绝缘图案进行黑化处理，以使所述保护层的材料转变为不透光材料。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘图案包括，层叠设置的第一绝缘图案和隔垫物的图案；
所述在所述色阻区域内形成色阻图案，在所述间隔区域内形成绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料构成；对位于所述间隔区域内的所述绝缘材料进行黑化处理，以使所述间隔区域不透光的步骤，包括，
将所述间隔区域空缺出来，在所述色阻区域内形成间隔设置的色阻图案；
形成覆盖所述色阻图案和所述间隔区域的保护层；所述保护层在覆盖所述间隔区域内的部分为第一绝缘图案；
在所述第一绝缘图案上形成具有预设厚度的隔垫物；其中，所述隔垫物由透明绝缘材料构成；
对所述隔垫物进行黑化处理，以使所述隔垫物的材料转变为不透光材料。
8.一种彩膜基板，包括基板，所述基板划分有多个间隔开来的色阻区域和位于相邻两个色阻区域之间的间隔区域；所述彩膜基板还包括，设置在所述色阻区域内的间隔开来的色阻图案；其特征在于，所述彩膜基板还包括，
设置在所述间隔区域内的绝缘图案；其中，所述绝缘图案由所述色阻图案的材料和/或透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括覆盖所述基板的保护层和设置在所述保护层上的隔垫物；
在所述绝缘图案包括有由透明绝缘材料经黑化处理转变为不透光材料构成的情况下，
所述透明绝缘材料为所述保护层位于所述间隔区域内的部分和/或位于所述间隔区域上方的所述隔垫物。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求8或9所述的彩膜基板。
CN201710351019.4A 2017-05-17 2017-05-17 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置 Expired - Fee Related CN106940490B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710351019.4A CN106940490B (zh) 2017-05-17 2017-05-17 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置
US16/099,347 US10908332B2 (en) 2017-05-17 2018-05-09 Color film substrate, method for manufacturing the same, and display device
PCT/CN2018/086133 WO2018210168A1 (zh) 2017-05-17 2018-05-09 彩膜基板及其制备方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710351019.4A CN106940490B (zh) 2017-05-17 2017-05-17 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106940490A true CN106940490A (zh) 2017-07-11
CN106940490B CN106940490B (zh) 2021-01-26

Family

ID=59465122

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710351019.4A Expired - Fee Related CN106940490B (zh) 2017-05-17 2017-05-17 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10908332B2 (zh)
CN (1) CN106940490B (zh)
WO (1) WO2018210168A1 (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107450221A (zh) * 2017-08-11 2017-12-08 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法
CN108227283A (zh) * 2018-01-22 2018-06-29 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板
WO2018210168A1 (zh) * 2017-05-17 2018-11-22 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制备方法、显示装置
CN109799640A (zh) * 2019-03-13 2019-05-24 信利（惠州）智能显示有限公司 彩膜基板制作方法
CN110224076A (zh) * 2019-05-15 2019-09-10 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled面板及其制造方法
CN111897037A (zh) * 2020-08-10 2020-11-06 深圳市宝明科技股份有限公司 一种增光膜及其制作方法、背光模组
CN113140577A (zh) * 2021-04-21 2021-07-20 滁州惠科光电科技有限公司 一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板
CN113437181A (zh) * 2021-06-23 2021-09-24 Oppo广东移动通信有限公司 光学盖板的制作方法、光学盖板和穿戴设备

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106373969B (zh) * 2016-12-01 2019-10-29 京东方科技集团股份有限公司 显示基板和显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050221205A1 (en) * 2003-10-02 2005-10-06 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating color filter substrate
CN102799017A (zh) * 2012-07-26 2012-11-28 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、液晶显示面板及其制造方法
CN105867008A (zh) * 2016-06-02 2016-08-17 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及彩膜基板的制备方法、显示面板
CN105867010A (zh) * 2016-06-22 2016-08-17 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN106646990A (zh) * 2016-10-21 2017-05-10 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、其制备方法及显示装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106707609B (zh) * 2017-03-24 2019-09-03 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板
CN106940490B (zh) * 2017-05-17 2021-01-26 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050221205A1 (en) * 2003-10-02 2005-10-06 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating color filter substrate
CN102799017A (zh) * 2012-07-26 2012-11-28 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、液晶显示面板及其制造方法
CN105867008A (zh) * 2016-06-02 2016-08-17 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及彩膜基板的制备方法、显示面板
CN105867010A (zh) * 2016-06-22 2016-08-17 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN106646990A (zh) * 2016-10-21 2017-05-10 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、其制备方法及显示装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018210168A1 (zh) * 2017-05-17 2018-11-22 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制备方法、显示装置
US10908332B2 (en) 2017-05-17 2021-02-02 Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Color film substrate, method for manufacturing the same, and display device
CN107450221B (zh) * 2017-08-11 2020-06-05 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法
CN107450221A (zh) * 2017-08-11 2017-12-08 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法
CN108227283A (zh) * 2018-01-22 2018-06-29 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片基板的制作方法及彩色滤光片基板
CN109799640A (zh) * 2019-03-13 2019-05-24 信利（惠州）智能显示有限公司 彩膜基板制作方法
US11217633B2 (en) 2019-05-15 2022-01-04 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. OLED panel with reflective layer and manufacturing method thereof
CN110224076A (zh) * 2019-05-15 2019-09-10 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled面板及其制造方法
CN111897037A (zh) * 2020-08-10 2020-11-06 深圳市宝明科技股份有限公司 一种增光膜及其制作方法、背光模组
CN111897037B (zh) * 2020-08-10 2022-06-10 深圳市宝明科技股份有限公司 一种增光膜及其制作方法、背光模组
CN113140577A (zh) * 2021-04-21 2021-07-20 滁州惠科光电科技有限公司 一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板
CN113140577B (zh) * 2021-04-21 2024-01-26 滁州惠科光电科技有限公司 一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板
CN113437181A (zh) * 2021-06-23 2021-09-24 Oppo广东移动通信有限公司 光学盖板的制作方法、光学盖板和穿戴设备
CN113437181B (zh) * 2021-06-23 2022-05-13 Oppo广东移动通信有限公司 光学盖板的制作方法、光学盖板和穿戴设备

Also Published As

Publication number Publication date
US10908332B2 (en) 2021-02-02
WO2018210168A1 (zh) 2018-11-22
CN106940490B (zh) 2021-01-26
US20190353833A1 (en) 2019-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106940490A (zh) 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置
CN205862051U (zh) 一种彩膜基板及显示装置
CN100495157C (zh) 遮光结构、彩色滤光基板、主动元件阵列基板及液晶面板
CN103969883B (zh) 一种彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104730756B (zh) 彩膜基板及其制备方法、显示面板
CN102891167B (zh) 有机el装置、有机el装置的制造方法及电子设备
CN101263414B (zh) 彩色滤光片衬底及使用它的显示装置
CN106571381A (zh) 有机发光显示装置
US10249653B2 (en) Display panel and manufacturing method thereof
CN108628039A (zh) 液晶显示基板及其制备方法、液晶显示装置
CN105655290B (zh) 液晶显示面板、阵列基板及其制造方法
CN104865735A (zh) 彩膜基板及其制作方法、液晶显示面板
CN103323999A (zh) 显示面板及其制作方法与显示装置
JP2007242591A (ja) 有機電界発光表示装置及びその製造方法
US10268084B2 (en) Display panel having height difference between photo spacers and manufacturing method thereof
CN102654688A (zh) 一种彩膜基板及其制造方法、液晶显示装置
CN104635376B (zh) 一种彩膜基板、触控显示屏及彩膜基板的制作方法
CN106646975A (zh) 一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
CN106773278A (zh) 彩色滤光基板及其制备方法、液晶显示面板
CN105182625A (zh) 一种显示基板及其制作方法和显示装置
CN108363233A (zh) 彩色滤光片基板及其制作方法
CN103424942A (zh) 彩膜基板及其制备方法、显示装置
CN100412657C (zh) 液晶显示面板及彩色滤光基板的制造方法
CN108153040A (zh) 黑色矩阵与间隔物的制作方法
CN108919549A (zh) 显示面板、其制作方法及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20210126