JP2009237484A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】色度域を簡単に変えることができる液晶表示装置の提供。
【解決手段】互いに略直交する方向に延在する配線によって区画された領域に副画素が形成される第１の基板と、連続する３つの副画素を一単位として３色の色層が所定のパターンで繰り返し配置される第２の基板と、の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置において、前記第２の基板には、前記３つの副画素の内の少なくとも１つの副画素の開口部に対向する領域に、前記副画素の主たる色の色層と、前記副画素に隣り合う副画素から延在する他の色の色層とが配置されている。
【選択図】図１（ａ）

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に、カラーフィルタ基板における色層の配置に関する。

液晶表示装置は、薄型、軽量で高品位の画像を表示可能なことから、液晶テレビや、携帯端末装置などに多く用いられている。液晶表示装置は、装置に光源であるバックライトを組み込んだ透過型、外光を利用した反射型、その両方の機能を有した半透過型に大きく分類することができる。この中で液晶テレビなどに代表されるように、ビデオ信号を表示させるものには、透過型が用いられることが多い。その理由は、液晶表示装置が表示可能な色の範囲である色度域を、設計により目的に併せて変更できるからである。

図１１は透過型液晶表示装置１の構成例を示した断面図である。透過型液晶表示装置１は、光源であるバックライト３と液晶パネル２とで構成される。液晶パネル２は、一対の基板の間に液晶３０を挟みこみ、一対の基板の両側に偏光板４ａ、４ｂ等の光学フィルムを配置したものである。通常、一対の基板の一方に、画素電極を駆動するＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子が配置され、もう一方の基板にＲＧＢ等の複数色の色層２２が配置されている。このバックライト３の発光スペクトルと色層２２の分光透過率特性を変化させることで、液晶表示装置の色度域を、原理的には任意に変更することが可能となる。

しかしながら、実際に使用できる光源の種類、色層２２を構成する色レジストの材料などの制限から、まったく任意に色度域を可変できるわけではない。例えば図１２の（１）のような色度域が要求される場合、光源のスペクトルが図１３のＢＬ２で、色レジストのスペクトルが図１３のＣＦ＿Ｒ、ＣＦ＿Ｇ、ＣＦ＿Ｂのときの色度域は図１２の（２）のようになり、要求された色度域と合致しない。そこで、光源のスペクトルで図１２の（１）のような色度域に合わせるためには、図１３のＢＬ１のような光源スペクトルが新たに必要になってくる。このように目的に合わせて、その都度光源のスペクトル、色レジストの特性を変更させることは、実際には極めて困難であった。

そのため、特に広い色度域が要求される液晶テレビなどの場合、液晶表示装置で発色可能な色度域を要求される色度域よりも広く設定し、液晶表示装置に供給する映像信号に演算処理を加え、表示画像が要求される色度域に合致するように動作させるのが一般的であった。例えば、特開２００２−４４６７７号公報には、色度の補正を回路で行う技術が開示されており、図１４のように入力信号ＳＧ、ＳＢ、ＳＲの線形和にて色度の補正を行っている。上記処理を施さない場合、実際に表示される映像の色調がずれ、違和感を与える。その為、上述の様な信号処理を行うことで、補正を行う必要が生ずるのである。しかしながら、上記映像信号に演算処理を加えるには、高速に映像信号を処理する演算回路が必要となり、液晶表示装置のコストを上昇させるという課題があった。

また、特開２００５−１４１１８０号公報には、各副画素に配置された色度調整領域の大きさと色層の膜厚を変えることにより、透過領域の色度の調整を行う技術が開示されている。この例では、図１５のように色度調整領域が孤立配置し、別の透過率特性を有する色層を加えることで、色度域を調整している。

しかしながら、この方法では画素サイズが小さくなると、製造が困難になるという問題が生ずる。一般的に色層のパターンは、図２のようにフォトリソグラフィを用いて作製される。フォトリソグラフィでは光の回折やエッチング特性などの影響を受け、端面が傾斜を持つ形状になりやすい。この現象は、図２に示したような孤立した穴を形成する際に顕著に現れる。それは、穴の大きさが小さいとエッチング液が十分に流動しない事に起因する。その為、微小な穴パターンを形成するのが困難になる。

さらに画素が小さくなると相対的に色度調整領域端から、遮光領域までの距離が短くなってしまう。この場合には嵌合がずれると（すなわち、一対の基板の重ね合わせ誤差が生じると）色度調整領域端にＴＦＴ側の遮光領域が重なり、副画素における色度調整領域の割合が変わることがある。よって色度調整領域の面積と、それ以外の透過領域の面積の比率が変化してしまい、色度域が変化してしまう。

特開２００２−４４６７７号公報 特開２００５−１４１１８０号公報

このように、発光スペクトルや分光透過率特性を調整する方法では、実際に使用できる光源の種類、色レジストの材料などの制限から、色度域を変更するときに大きな制約を受けるという問題があった。

また、映像信号に演算を施す方法では、高速に映像信号を処理する演算回路が必要となり、液晶表示装置のコストを上昇させるという問題があった。

さらに、各副画素内に色度調整領域を配置する方法では、色度調整領域が孤立配置されているので、高精細化に伴う微小パターン形成が困難であり、一対の基板の嵌合がずれた場合、透過領域に対する色度調整領域の割合がずれ、狙いの色度からずれてしまうという問題があった。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、その主たる目的は、色度域を簡単に変えることができる液晶表示装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明は、互いに略直交する方向に延在する配線によって区画された領域に副画素が形成される第１の基板と、連続する３つの副画素を一単位として３色の色層が所定のパターンで繰り返し配置される第２の基板と、の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置において、前記第２の基板には、前記３つの副画素の内の少なくとも１つの副画素の開口部に対向する領域に、前記副画素の主たる色の色層と、前記副画素に隣り合う副画素から延在する他の色の色層とが配置されているものである。

また、本発明は、互いに略直交する方向に延在する配線によって区画された領域に副画素が形成される第１の基板と、連続する３つの副画素を一単位として３色の色層が所定のパターンで繰り返し配置される第２の基板と、の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置において、前記第２の基板には、前記３つの副画素の内の第１の副画素の開口部に対向する領域に、第１の色層が配置され、前記第１の副画素の一方の側に隣り合う第２の副画素の開口部に対向する領域に、前記第１の色層とは異なる第２の色層と前記第１の副画素から延在する前記第１の色層とが配置され、前記第１の副画素の他方の側に隣り合う第３の副画素の開口部に対向する領域に、前記第１の色層及び前記第２の色層とは異なる第３の色層と前記第１の副画素から延在する前記第１の色層とが配置されているものであり、前記第３の副画素の開口部に対向する領域に、更に、次の前記３つの副画素の前記第２の副画素から延在する前記第２の色層が配置されている構成とすることができる。

本発明においては、前記開口部の前記配列方向の辺と隣り合う副画素から延在する色層の端部との距離は、前記配列方向に隣り合う副画素の開口部間の距離、又は、前記配列方向に直交する方向に隣り合う副画素の開口部間の距離の小さい方の半分以上とすることが好ましい。

本発明の液晶表示装置によれば、バックライト光源の発光スペクトルおよび色層を構成する材料の分光透過率特性を変えることなく、液晶表示装置の色度域を変える事ができる。その理由は、第１の色と第２の色の副画素に第３の色の色層を配置することによって、色度域を簡単に調整することができるからである。

また、本発明の液晶表示装置によれば、ＣＦ基板の作製プロセスを追加することなく、液晶表示装置の色度域を変える事ができる。その理由は、色度域の調整のために、通常の色層以外の色層を用いる必要が無いからである。

また、本発明の液晶表示装置によれば、高精細画素にも対応可能である。その理由は、各色層のパターンに孤立した抜きパターンが存在しないため、画素ピッチが小さくなっても色層のパターン形成が可能となるからである。

また、本発明の液晶表示装置によれば、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の重ね合わせ誤差である嵌合ずれが生じても、色度域が変化しにくい。その理由は、嵌合がずれた場合でも、主たる色層を横切るように配置された第２色領域の幅や面積が変わらないからである。

また、本発明の液晶表示装置によれば、新たに別のプロセスを追加することなく、柱状スペーサを作製することができる。その理由は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各副画素で構成される１画素ごとに、必ず３種類の色層が隣接する箇所が有り、その部分において全ての色層を積層させることで柱状スペーサを形成することが可能となるからである。

本発明の液晶表示装置は、その好ましい一実施の形態において、互いに略直交する方向に延在するゲート線（走査線）及びデータ線（信号線）によって区画された領域に副画素が形成されるＴＦＴ基板と、連続する３つの副画素を１画素としてＲＧＢの３色の色層が所定のパターンで繰り返し配置されるＣＦ基板と、の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置において、ＣＦ基板には、３つの副画素の内の少なくとも１つの副画素の開口部に対向する領域に、前記副画素の主たる色の色層と、前記副画素に隣り合う副画素から延在する他の色の色層とが配置されている。

上記した本発明の実施の形態についてさらに詳細に説明すべく、本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置について、図１乃至図５を参照して説明する。

図１（ａ）は、本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置のＣＦ基板の画素部レイアウトを示したものであり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に対応するＴＦＴ基板のレイアウトを示したものである。また、図１（ｃ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ’の断面を示したものであり、図１（ｄ）は、１画素の各色層のパターンの構成を示す平面図である。

図１に示すように、本実施例の液晶表示装置は、ＣＦ基板２０とＴＦＴ基板１０を貼り合わせ、その間隙に液晶３０を挟み込んだ構造を有している。本実施例の液晶表示装置では、主に赤の色を表示させる副画素Ｒと、主に緑の色を表示させる副画素Ｇと、主に青の色を表示させる副画素Ｂとで１画素を構成している。また、図１（ａ）の点線で示された開口部は、図１（ｂ）で示されたＴＦＴ基板１０と重ね合わせた際に、ＴＦＴ基板１０におけるデータ線１４、ゲート線１２、蓄積容量線１３、ＴＦＴ１４などの光をほとんど透過しない構造部材でその範囲が規定される、光が透過する領域を示している。

ここで、従来のＣＦ基板では、各副画素に１色の色層のみが配置されていたが、本実施例では、１画素を構成する３つの副画素の内の少なくとも１つの副画素に、複数色の色層が配置されるようにしている。例えば、副画素Ｇでは、少なくとも開口部において色層Ｇのみが配置されているが、副画素Ｒでは、色層Ｒと色層Ｇが配置され、副画素Ｂでは、色層Ｂと色層Ｇが配置されている。すなわち、副画素Ｒ及び副画素Ｂは、その副画素に本来配置される色層が配置された領域（第１色領域２２ａ）と色層Ｇが配置された領域（第２色領域２２ｂ）とを備えている。さらに、副画素Ｒ、副画素Ｂにおいて、色層Ｇは、それぞれの画素の開口部を同じ幅で横切り、色層Ｒ、色層Ｂを分断するように配置されている。ここでは、その形状を長方形としており、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色層のレイアウトは図１（ｄ）のようになる。

上記構成において、第２色領域２２ｂが、副画素の開口部端部に配置されると、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０を重ね合わる際に位置ずれ（すなわち、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０をフレームに嵌め込んで位置合わせする構造における嵌合ずれ）が生じた場合に、色層２２の面積比率が変わり、所望の色度域にならない場合が生じる。そこで、本実施例では、隣接する副画素を横切る色層（図１では色層Ｇ）が開口部の端部に配置されないようにしている。具体的には、図１（ａ）の開口部の短辺から副画素を横切る色層端までの最短距離ｃは、上下に隣接する副画素における開口部間の距離２ａ、左右に隣接する副画素における開口部間の距離２ｂのどちらか小さい方の幅を基準にして、その半分の幅以上になるように（すなわち、ｃ≧ａ又はｃ≧ｂの関係を満たすように）設定する。

このように、第１の実施例の構成によれば、光源の発光スペクトルおよび色層２２を構成する色レジストの分光透過率特性を変えることなく液晶表示装置の色度域を変える事ができる。その理由を以下に説明する。例えば、ある光源と色レジストを組み合わせた液晶表示装置において、何も補正をしなければＲ，ＢがＮＴＳＣ規格から外れた図５の混色なし色度域であるとする。この液晶表示装置の色度域をＮＴＳＣ規格内におさめたい場合に、Ｒ，Ｂ色にＧ色を適当な量だけ混色すれば図５の混色あり色度域のようにＮＴＳＣ規格内におさめることができるからである。

また、第１の実施例の構成によれば、高精細画素にも対応可能である。その理由を以下に説明する。第１の実施例では、１つの透過領域に配置される複数の異なる色層は、隣接する画素に配置された主たる色層と同じである。一般的に色層のパターンは、例えば、レジスト材料などに顔料を分散させて着色し、塗布した後、図２のようにフォトリソグラフィを用いて作製される。フォトリソグラフィでは光の回折などの影響を受け、端面が傾斜を持つ形状になりやすい。そのため図２に示したような孤立したパターンではレジストが除去される面積が相対的に小さくなり、微小なパターンを形成するのが困難になる。このような孤立したパターンを作成するためには、プロセスでのばらつきまで考慮すると、直径で１５μｍ以上必要であり、さらに嵌合ずれを考慮し、孤立パターンから光透過領域端までの距離を１０μｍ以上、隣接する光透過領域間隔を１０μｍとすると、副画素の短辺方向サイズは４５μｍ以上必要になってしまう。この画素サイズは４型ＶＧＡの画素サイズよりも大きく、孤立したパターンを用いる方法では、携帯電話などに使用される高精細液晶表示装置に対応できないことを意味している。一方、本発明の構成では、孤立したパターンが存在しないため、副画素の短辺方向サイズが４５μｍ以下の高精細画素にも対応可能である。

さらに、第１の実施例の構成によれば、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０の重ね合わせ誤差である嵌合ずれが生じても、色度域が変化しにくい。その理由を以下に説明する。図３はＣＦ基板２０とＴＦＴ基板１０が横方向（ゲート線１２の延在方向）に嵌合がずれた例を示したものである。この場合でも、各副画素の主たる色層（例えば、副画素Ｒの色層Ｒや副画素Ｂの色層Ｂ）を横切るように配置された第２色領域２２ｂの色層（例えば、色層Ｇ）の幅が変わらない。そのため、第１色領域２２ａと第２色領域２２ｂの面積比は変わらないからである。また、図４のように縦方向（データ線１５延在方向）に嵌合がずれた場合でも、第２色領域２２ｂの色層（例えば、色層Ｇ）と開口部との距離を嵌合ずれ量よりも大きく設定してあるため、第１色領域２２ａと第２色領域２２ｂの面積比は変わらないからである。

なお、隣接する副画素から連続する色層２２の幅は所望の色度域となる幅であれば良く、図の構成に限定されない。また、上記実施例では、色層Ｇを隣接する副画素（副画素Ｒ、副画素Ｂ）に延在させたが、隣接する副画素に延在させる色層は任意に選択可能であり、色層Ｒ又は色層Ｂを隣接する副画素に延在させる構成としてもよい。また、上記実施例では、色層Ｇを両側に隣接する副画素（副画素Ｒ、副画素Ｂ）に延在させたが、一方の側に隣接する副画素（副画素Ｒ又は副画素Ｂ）のみに延在させる構成としてもよい。

次に、本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置について、図６を参照して説明する。

図６は、本発明の第２の実施例であるＣＦ基板の色層の配置を示したものである。この例では、先に示した第１の実施例と同様に、第２色領域２２ｂは、隣に配置されている副画素の色層２２（ここでは色層Ｂ）がその副画素から連続し、第１色領域２２ａを横切るように配置されている。第１の実施例と異なるのは、開口部を横切って配置されている第２色領域２２ｂの形状が平行四辺形であることである。

上記構成においても、第２色領域２２ｂが、副画素の開口部端部に配置されると、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０の重ね合わせ誤差である嵌合ずれが生じた場合に、色層２２の面積比率が変わり、所望の色度域にならない場合が生じる。そこで、本実施例では、開口部の短辺から副画素を横切る色層端までの最短距離ｃは、上下に隣接する副画素における開口部間の距離２ａ、左右に隣接する副画素における開口部間の距離２ｂのどちらか小さい方の幅を基準にして、その半分の幅以上になるように（すなわち、ｃ≧ａ又はｃ≧ｂの関係を満たすように）設定する。

これにより、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０の重ね合わせ誤差である嵌合ずれが生じても、第２色領域２２ｂの色層の幅が変わらない。そのため、開口部における第１色領域２２ａと第２色領域２２ｂの面積比は変わらない。従って、第１の実施例と同様の効果を得ることができる。

次に、本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置について、図７を参照して説明する。

図７は、本発明の第３の実施例であるＣＦ基板の色層の配置を示したものである。この例では、先に示した第１の実施例と同様に、第２色領域２２ｂは隣に配置されている副画素の色層（ここでは色層Ｂ）がその副画素から連続し、第１色領域２２ａを横切るように配置されている。第１の実施例と異なるのは、開口部を横切って配置されている第２色領域２２ｂの形状がＳ字状であることである。ただしＳ字形状は、データ線１５に平行な方向の幅を等しくする。

また、開口部の短辺から副画素を横切る色層端までの最短距離ｃは、上下に隣接する副画素における開口部間の距離２ａ、左右に隣接する副画素における開口部間の距離２ｂのどちらか小さい方の幅を基準にして、その半分の幅以上になるように（すなわち、ｃ≧ａ又はｃ≧ｂの関係を満たすように）設定する。

これにより、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０の重ね合わせ誤差である嵌合ずれが生じても、第２色領域２２ｂの色層の幅が変わらない。そのため、開口部における第１色領域２２ａと第２色領域２２ｂの面積比は変わらない。従って、第１の実施例と同様の効果を得ることができる。

次に、本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置について、図８を参照して説明する。

図８（ａ）は、本発明の第４の実施例であるＣＦ基板の色層の配置を示したものである。この例では、先に示した第１の実施例と同様に、第２色領域２２ｂは、隣に配置されている副画素（例えば、副画素Ｇ）の色層２２（例えば、色層Ｇ）がその副画素から連続し、第１色領域２２ａを横切るように配置されている。第１の実施例と異なるのは、第２色領域２２ｂとは異なる第３色領域２２ｃが、第２色領域２２ｂと同様に第１色領域２２ａを横切るように配置されていることである。

また、開口部の短辺から副画素を横切る色層（短辺に近い方の色層）端までの最短距離ｃは、上下に隣接する副画素における開口部間の距離２ａ、左右に隣接する副画素における開口部間の距離２ｂのどちらか小さい方の幅を基準にして、その半分の幅以上になるように（すなわち、ｃ≧ａ又はｃ≧ｂの関係を満たすように）設定する。

図８（ｂ）は第４の実施例による色度調整を行った場合の色度図の一例を示したものである。たとえば、色層Ｇと色層Ｒだけの調整では、図８（ｂ）のＧとＲの頂点を結んだ線上の範囲でしか調整を行うことができないが、さらに色層Ｂを加えることで、図中斜線で示した面積の範囲内で調整可能となる。よって、第１乃至第３の実施例よりも色度域をより大きく変化させることが可能となる。

次に、本発明の第５の実施例に係る液晶表示装置について、図９及び図１０を参照して説明する。

図９は、本発明の第５の実施例であるＣＦ基板の色層の配置を示したものである。この例では、先に示した第１の実施例と同様に、第２色領域２２ｂは隣に配置されている副画素の色層２２がその副画素から連続し、第１色領域２２ａを横切るように配置されている。第１の実施例と異なるのは、３種類の色層２２が隣接する箇所に柱状スペーサ２５が形成されていることである。図１０は柱状スペーサ２５の断面図を示したものである。柱状スペーサ２５は３種類の色層２２を積層させることによって形成される。

このように、本発明の構成では、３種類の色層２２が隣接する箇所が必ず生じるため、その３色の色層を積層して柱状スペーサ２５を形成することにより、柱状スペーサ２５を別途形成する従来方法に比べて、製造工程を簡略化することができる。

なお、本発明は、少なくとも１つの副画素に主たる色層と隣接する副画素から連続する色層とを配置するものであり、各色の色層２２は重ならないように配置してもよいし、重なるように配置してもよい。

また、本発明はＣＦ基板２０における色層の配置に特徴を有するものであり、他の部材の配置や構成、製造方法等は特に限定されない。例えば、ＴＦＴ基板１０や液晶３０、偏光板４ａ、４ｂの構造や材料、製造方法、光学特性、液晶の駆動方式、バックライトの照明方式などは任意である。

また、上記各実施例では、本発明のＣＦ基板２０を透過型液晶表示装置に適用する場合を示したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、半透過型液晶表示装置や反射型液晶表示装置に対しても同様に適用することができる。

本発明は、液晶表示装置ならびに液晶表示装置を用いた端末装置に利用可能である。

本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置のＣＦ基板の構成を示す平面図である。 本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板の構成を示す平面図である。 本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の構成を示す図であり、（ａ）のＡ−Ａ’線における構造を示す断面図である。 本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置のＣＦ基板における１画素の各色層のパターンの構成を示す平面図である。 各色層のパターンの形成方法を示す図である。 本発明の効果を説明する図であり、ＣＦ基板とＴＦＴ基板が横方向（ゲート線の延在方向）に嵌合がずれた例を示す図である。 本発明の効果を説明する図であり、ＣＦ基板とＴＦＴ基板が縦方向（データ線延在方向）に嵌合がずれた例を示す図である。 Ｂ、Ｒ色にＧ色を混色した時の色度図の一例である。 本発明の第２の実施例に係るＣＦ基板の構成を示す平面図である。 本発明の第３の実施例に係るＣＦ基板の構成を示す平面図である。 本発明の第４の実施例に係るＣＦ基板の構成を示す平面図及び色度図の一例である。 本発明の第５の実施例に係るＣＦ基板の構成を示す平面図である。 本発明の第５の実施例に係るＣＦ基板の柱スペーサの構成を示す断面図である。 従来の液晶表示装置の構成を示す断面図である。 液晶表示装置の色度域を示す図である。 液晶表示装置の色層及び光源のスペクトルを示す図である。 特開２００２−４４６７７号公報の色度補正回路を示す図である。 特開２００５−１４１１８０号公報のＣＦ基板の構成を示す平面図である。

符号の説明

１ 液晶表示装置
２ 液晶パネル
３ 液晶
４ａ、４ｂ 偏光板
１０ ＴＦＴ基板
１１ 透明絶縁基板
１２ ゲート線
１３ 蓄積容量線
１４ ＴＦＴ
１５ データ線
１６ 透明電極
２０ ＣＦ基板
２１ 透明絶縁基板
２２ 色層
２２ａ 第１色領域
２２ｂ 第２色領域
２２ｃ 第３色領域
２３ ブラックマトリクス
２４ 透明電極
２５ 柱状スペーサ

Claims (8)

1. 互いに略直交する方向に延在する配線によって区画された領域に副画素が形成される第１の基板と、連続する３つの副画素を一単位として３色の色層が所定のパターンで繰り返し配置される第２の基板と、の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置において、
   前記第２の基板には、
   前記３つの副画素の内の少なくとも１つの副画素の開口部に対向する領域に、前記副画素の主たる色の色層と、前記副画素に隣り合う副画素から延在する他の色の色層とが配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
2. 互いに略直交する方向に延在する配線によって区画された領域に副画素が形成される第１の基板と、連続する３つの副画素を一単位として３色の色層が所定のパターンで繰り返し配置される第２の基板と、の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置において、
   前記第２の基板には、
   前記３つの副画素の内の第１の副画素の開口部に対向する領域に、第１の色層が配置され、
   前記第１の副画素の一方の側に隣り合う第２の副画素の開口部に対向する領域に、前記第１の色層とは異なる第２の色層と前記第１の副画素から延在する前記第１の色層とが配置され、
   前記第１の副画素の他方の側に隣り合う第３の副画素の開口部に対向する領域に、前記第１の色層及び前記第２の色層とは異なる第３の色層と前記第１の副画素から延在する前記第１の色層とが配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
3. 前記第３の副画素の開口部に対向する領域に、更に、次の前記３つの副画素の前記第２の副画素から延在する前記第２の色層が配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 隣り合う副画素から延在する色層は、各々の開口部を、前記３つの副画素の配列方向に沿って横切るように配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一に記載の液晶表示装置。
5. 隣り合う副画素から延在する色層は、各々の開口部において、前記３つの副画素の配列方向に直交する方向の幅が略一定であることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
6. 前記開口部の前記配列方向の辺と隣り合う副画素から延在する色層の端部との距離は、前記配列方向に隣り合う副画素の開口部間の距離、又は、前記配列方向に直交する方向に隣り合う副画素の開口部間の距離の小さい方の半分以上であることを特徴とする請求項４又は５に記載の液晶表示装置。
7. 前記３色の色層は、互いに重ならないように配置されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一に記載の液晶表示装置。
8. 前記３色の色層が隣接する領域において、前記３色の色層が積層されて、前記第１の基板との間隔を規定する柱状スペーサが形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一に記載の液晶表示装置。

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