CN107400859A - 一种蒸发源 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种蒸发源,包括由导电材料制成的蒸发源本体;所述蒸发源本体包括:主体,所述主体内部开设有材料腔室;其中,所述主体外侧的任意位置设置有第一电极连接端,以及与所述第一电极连接端极性相反的第二电极连接端,所述第一电极连接端与所述第二电极连接端通电后,所述主体自身导电产生热量以加热所述材料腔室内的材料;相较于现有的蒸发源,本发明所提供的蒸发源,自身采用导电材料制成,通过在蒸发源的相应位置设置正、负电极即可实现蒸发源的自发热,进而得到均匀的加热效果,蒸镀制得高品质的膜层。
Description
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发源。
背景技术
在真空镀膜过程中,需要通过蒸发源将蒸镀材料蒸发(或升华)为蒸汽,蒸汽在待蒸镀物体表面凝结后形成膜层。因此,蒸发源产生的蒸汽是否均匀,对所形成的膜层的质量是十分重要的。蒸发源通常为“线源”形式,其包括长条形的腔室,腔室顶部均匀开设有多个出气孔,底部则连接坩埚,坩埚用于盛放蒸镀材料并将其蒸发,产生的蒸汽进入腔室后并从喷嘴排出。
成膜质量与蒸镀的温度、速率有直接联系。要得到均匀的膜层,就需要蒸镀材料受热均匀。而目前产线在用的蒸发源导致坩埚温度分布不均主要原因有:加热丝变形,坩埚放置偏位、坩埚周围热反射受热变形等导致的热传导环境发生改变。
综上所述,现有技术的蒸发源,坩埚受热不均匀,使得蒸镀腔室内的蒸镀材料受热不均匀,成膜质量欠佳,进而难以生产出高品质的OLED显示面板。
发明内容
本发明提供一种蒸发源,能够使材料腔室的各区域受热均匀,进而蒸镀形成高品质的膜层,以解决现有技术的蒸发源,坩埚受热不均匀,使得蒸镀腔室内的蒸镀材料受热不均匀,成膜质量欠佳,进而难以生产出高品质的OLED显示面板的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明提供一种蒸发源,包括由导电材料制成的蒸发源本体;所述蒸发源本体包括:
主体,所述主体内部开设有材料腔室,所述材料腔室的开口位于所述主体表面;其中,
所述主体外侧设置有第一电极连接端,以及与所述第一电极连接端极性相反的第二电极连接端,所述第一电极连接端与所述第二电极连接端通电后,所述主体自身导电产生热量以加热所述材料腔室内的材料。
根据本发明一优选实施例,所述蒸发源本体还包括:盖体,盖合于所述主体表面以密闭所述材料腔室;所述盖体表面一体成形有至少一喷嘴;所述盖体外侧的任意位置设置有第三电极连接端,以及与所述第三电极连接端极性相反的第四电极连接端,所述第三电极连接端与所述第四电极连接端通电后,所述盖体自身导电产生热量以加热所述喷嘴。
根据本发明一优选实施例,所述第一电极连接端位于所述主体的第一端部,所述第二电极连接端位于所述主体相对所述主体的第一端部的第二端部;
所述第三电极连接端位于所述盖体的第一端部,所述第四电极连接端位于所述盖体相对所述盖体的第一端部的第二端部。
根据本发明一优选实施例,所述第一电极连接端与所述第三电极连接端同为正电极,所述第二电极连接端与所述第四电极连接端同为负电极;其中,所述第一电极连接端与所述第三电极连接端位于所述蒸发源本体的同一侧;所述第二电极连接端与所述第四电极连接端位于所述蒸发源本体的同一侧。
根据本发明一优选实施例,所述主体形状接近长方体,所述第一端部位于所述主体一端面的中心位置,所述第二端部位于所述主体另一端面的中心位置;所述盖体形状接近长方体,所述第三端部位于所述盖体一端面的中心位置,所述第四端部位于所述盖体另一端面的中心位置。
根据本发明一优选实施例,所述主体与所述盖体采用高熔点材料制作,所述高熔点材料为W,Ni,Cr,Cu,Fe,Al,Nb,Mo,Ti的一者或两者以上的组合。
根据本发明一优选实施例,所述材料腔室内壁与所述盖体底部涂覆有用以避免蒸镀材料与所述主体和所述盖体的制作材料发生化学反应的涂层。
根据本发明一优选实施例,所述涂层为Cu,Ti,Al2O3,MgO,BN,Si3N4,PBN,石墨,石英,陶瓷的一者或两者以上的组合。
根据本发明一优选实施例,所述主体底部突出形成一子材料腔室,所述子材料腔室一侧设置有第五电极连接端,所述子材料腔室相对另一侧设置有第六电极连接端,所述第五电极连接端与所述第六电极连接端极性相反。
根据本发明一优选实施例,所述子材料腔室位于所述主体底部中心位置。
本发明的有益效果为:相较于现有的蒸发源,本发明所提供的蒸发源,自身采用导电材料制成,通过在蒸发源的相应位置设置正、负电极即可实现蒸发源的自发热,进而得到均匀的加热效果,蒸镀制得高品质的膜层;解决了现有技术的蒸发源,坩埚受热不均匀,使得蒸镀腔室内的蒸镀材料受热不均匀,成膜质量欠佳,进而难以生产出高品质的OLED显示面板。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的蒸发源一结构示意图;
图2为本发明提供的蒸发源另一结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有的现有技术的蒸发源,坩埚受热不均匀,使得蒸镀腔室内的蒸镀材料受热不均匀,成膜质量欠佳,进而难以生产出高品质的OLED显示面板的技术问题,本实施例能够解决该缺陷。
如图1所示,本发明提供的蒸发源,包括蒸发源本体;所述蒸发源本体自身采用导电材料制成,由于所述蒸发源加热的各种材料的熔点不同,所述蒸发源体的导电材料选用高熔点金属材料,例如,W(钨),Ni(镍),Cr(铬),Cu(铜),Fe(铁),Al(铝),Nb(铌),Mo(钼),Ti(钛)的一者或两者以上的组合。
所述蒸发源本体至少包括一主体101,所述主体101即坩埚,所述主体101由液态金属材料浇铸制成,在所述主体101内部形成一材料腔室102,所述材料腔室102的开口位于所述主体101表面;所述材料腔室102内盛置蒸镀材料,所述主体101加热后使得蒸镀材料蒸发,凝结在目标基板表面形成金属膜层。
在所述主体101的外侧设置有第一电极连接端103和第二电极连接端104,将所述第一电极连接端103连接电源的正电极接口,所述第二电极连接端104连接所述电源的负电极接口,此时,所述主体101作为导体,将电能转化为热能,所述主体101电流经过区域均为加热区域,电流的分布取决于导电材料的导电能力,因此,选择导电性能较佳的材料制得的所述主体101具备更佳的加热均匀性。
相比现有技术使用加热丝对所述主体101进行加热,加热丝的分布对所述主体101加热的均匀性起到决定性作用,通常情况下,加热丝分布于所述主体101的外部,通过加热丝先将所述主体101的外表面加热,再通过所述主体101本身的热传递将热量传递至位于所述主体101内部的所述材料腔室102,从加热丝加热所述主体101表面至所述主体101内部的所述材料腔室102,热量在传导过程会有部分消耗,导致所述材料腔室102内的温度难以控制。
所述蒸发源本体还包括一盖体105,所述盖体105盖合于所述主体101表面,所述盖体105与所述主体101上的所述材料腔室102密封结合;所述盖体105远离所述密封腔室的一侧设置有喷嘴106,所述喷嘴106用以将所述材料腔室102内蒸发的蒸镀材料均匀喷洒至目标基板的表面;其中,所述盖体105同样采用高熔点的导电材料制成;设置于所述盖体105表面的所述喷嘴106与所述盖体105采用相同材料且一体成型。
具体的,所述盖体105的外侧设置有第三电极连接端107和第四电极连接端108,将所述第三电极连接电源的正电极接口,所述第二电极连接端104连接所述电源的负电极接口,同理,所述盖体105导入电流产生热量,对粘附于所述盖体105底部的蒸镀材料进行加热二次升华,通过所述喷嘴106排出,避免材料的浪费,同时,所述喷嘴106也产生热量,通过对所述喷嘴106进行加热,可避免蒸镀材料在喷嘴106内凝结而导致喷嘴106堵塞。
所述第一电极连接端103位于所述主体101的第一端部,所述第二电极连接端104位于所述主体101相对所述主体的第一端部的第二端部;在设置所述第一电极连接端103与所述第二电极连接端104时,将所述第一电极连接端103与所述第二电极连接端104设置在所述主体101的两端位置,从而延长所述第一电极连接端103与所述第二电极连接端104之间的距离,电流在所述主体101上的分布范围则更广,从而使得所述主体101的热量分布均匀。
同理,将所述第三电极连接端107位于所述盖体105的第一端部,将所述第四电极连接端108位于所述盖体105相对所述盖体的第一端部的第二端部。
所述第一电极连接端103与所述第三电极连接端107同为正电极,所述第二电极连接端104与所述第四电极连接端108同为负电极;其中,所述第一电极连接端103与所述第三电极连接端107位于所述蒸发源本体的同一侧;所述第二电极连接端104与所述第四电极连接端108位于所述蒸发源本体的同一侧;相对于在所述蒸发源本体同一侧,不同部件的电极连接端具有不同极性,由于异性电极相吸,会改变电流的流向,电流由理想的横向移动改变为纵向移动,导致热量集中在所述蒸发源本体边缘,无法起到均匀加热的效果;通过将同极性的电极连接端设置在同一侧,能够较好的解决上述技术问题。
所述主体101形状接近长方体,所述主体101的第一端部位于所述主体101一端面的中心位置,所述主体101的第二端部位于所述主体101另一端面的中心位置;所述盖体105形状接近长方体,所述盖体105第一端部位于所述盖体105一端面的中心位置,所述盖体105的第二端部位于所述盖体105另一端面的中心位置;同理,将电极连接端设置位于主体101端面的中心,利于电流的均匀分布,进而使得所述主体101各区域热量分布均匀。
为了避免蒸镀材料与所述主体101和所述盖体105的制作材料发生化学反应,在所述材料腔室102内壁与所述盖体105底部涂覆抗反应的涂层109;所述涂层109为Cu(铜),Ti(钛),Al2O3(氧化铝),MgO(氧化镁),BN(氮化硼),Si3N4(氮化硅),PBN(聚晶氮化硼),石墨,石英,陶瓷的一者或两者以上的组合。
如图2所示,本发明还提供一种蒸发源,包括蒸发源本体,所述蒸发源本体包括主体201,所述主体201表面开设有材料腔室202,所述主体201表面设置一盖体203,所述盖体203盖合于所述主体201表面,所述盖体203与所述主体201上的所述材料腔室202密封结合;所述盖体一侧设置有喷嘴204。
所述主体201的第一端部设置第一电极连接端205,所述主体的相对另一端的第二端部设置有第二电极连接端206;所述盖体的第一端部设置第三电极连接端207,所述盖体的相对另一端的第二端部设置有第四电极连接端208。
所述主体201底部中心突出形成一子材料腔室212,所述子材料腔室212一侧设置有第五电极连接端209,所述子材料腔室212相对另一侧设置有第六电极连接端210,所述第五电极连接端209与所述第六电极连接端210极性相反。
所述材料腔室202、子材料腔室212及所述盖体203底部涂覆有抗化学反应的涂层211。
本发明所提供的蒸发源的加热方式,对于不同加热需求可在对应部件上设置正极连接端与负极连接端,从而实现蒸发源本体的均匀加热。
本发明的有益效果为:相较于现有的蒸发源,本发明所提供的蒸发源,自身采用导电材料制成,通过在蒸发源的相应位置设置正、负电极即可实现蒸发源的自发热,进而得到均匀的加热效果,蒸镀制得高品质的膜层;解决了现有技术的蒸发源,坩埚受热不均匀,使得蒸镀腔室内的蒸镀材料受热不均匀,成膜质量欠佳,进而难以生产出高品质的OLED显示面板。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种蒸发源,其特征在于,包括由导电材料制成的蒸发源本体;所述蒸发源本体包括:
主体,所述主体内部开设有材料腔室;其中,
所述主体外侧设置有第一电极连接端,以及与所述第一电极连接端极性相反的第二电极连接端,所述第一电极连接端与所述第二电极连接端通电后,所述主体自身导电产生热量以加热所述材料腔室内的材料。
2.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述蒸发源本体还包括:
盖体,盖合于所述主体表面以密闭所述材料腔室;所述盖体表面一体成形有至少一喷嘴;
所述盖体外侧设置有第三电极连接端,以及与所述第三电极连接端极性相反的第四电极连接端,所述第三电极连接端与所述第四电极连接端通电后,所述盖体自身导电产生热量以加热所述喷嘴。
3.根据权利要求2所述的蒸发源,其特征在于,
所述第一电极连接端位于所述主体的第一端部,所述第二电极连接端位于所述主体相对所述主体的第一端部的第二端部;
所述第三电极连接端位于所述盖体的第一端部,所述第四电极连接端位于所述盖体相对所述盖体的第一端部的第二端部。
4.根据权利要求3所述的蒸发源,其特征在于,所述第一电极连接端与所述第三电极连接端同为正电极,所述第二电极连接端与所述第四电极连接端同为负电极;其中,
所述第一电极连接端与所述第三电极连接端位于所述蒸发源本体的同一侧;
所述第二电极连接端与所述第四电极连接端位于所述蒸发源本体的同一侧。
5.根据权利要求3所述的蒸发源,其特征在于,
所述主体的第一端部位于所述主体一端面的中心位置,所述主体的第二端部位于所述主体另一端面的中心位置;
所述盖体的第一端部位于所述盖体一端面的中心位置,所述盖体的第二端部位于所述盖体另一端面的中心位置。
6.根据权利要求2所述的蒸发源,其特征在于,所述主体与所述盖体采用高熔点材料制作,所述高熔点材料为W,Ni,Cr,Cu,Fe,Al,Nb,Mo,Ti的一者或两者以上的组合。
7.根据权利要求2所述的蒸发源,其特征在于,所述材料腔室内壁与所述盖体底部涂覆有用以避免蒸镀材料与所述主体和所述盖体的制作材料发生化学反应的涂层。
8.根据权利要求7所述的蒸发源,其特征在于,所述涂层为Cu,Ti,Al2O3,MgO,BN,Si3N4,PBN,石墨,石英,陶瓷的一者或两者以上的组合。
9.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述主体底部突出形成一子材料腔室,所述子材料腔室一侧设置有第五电极连接端,所述子材料腔室相对另一侧设置有第六电极连接端,所述第五电极连接端与所述第六电极连接端极性相反。
10.根据权利要求9所述的蒸发源,其特征在于,所述子材料腔室位于所述主体底部中心位置。
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---|---|---|---|
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---|---|---|---|
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Publications (2)
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---|---|
CN (1) | CN107400859B (zh) |
WO (1) | WO2019033536A1 (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112981327A (zh) * | 2019-12-12 | 2021-06-18 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种真空热蒸镀用一体化蒸发源 |
CN114086125A (zh) * | 2021-11-19 | 2022-02-25 | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 | 玻璃基板蒸镀装置 |
CN114875364A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-08-09 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸发源装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6237366A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-18 | Hitachi Ltd | 抵抗加熱真空蒸着装置 |
CN1162655A (zh) * | 1996-02-28 | 1997-10-22 | 鲍尔泽斯和利博尔德德国控股公司 | 基质镀膜装置用的蒸发舟 |
CN101265567A (zh) * | 2007-03-08 | 2008-09-17 | 应用材料公司 | 蒸发坩埚和具有合适的蒸发特性的蒸发设备 |
CN201751427U (zh) * | 2010-03-25 | 2011-02-23 | 彩虹显示器件股份有限公司 | 一种线性蒸发源 |
CN106119782A (zh) * | 2016-07-29 | 2016-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源、蒸镀设备及oled显示器生产设备 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4791261A (en) * | 1987-09-23 | 1988-12-13 | International Business Machines Corporation | Crucible for evaporation of metallic film |
CN2632980Y (zh) * | 2003-07-16 | 2004-08-11 | 上海大学 | 制作有机电致发光薄膜用的真空蒸发加热装置 |
JP2005097661A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Kyosan Electric Mfg Co Ltd | 成膜材料の加熱装置及び加熱方法 |
JP2009221496A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Toshiba Corp | 薄膜形成装置及び薄膜の製造方法 |
CN105296932B (zh) * | 2015-10-30 | 2018-04-20 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种蒸镀机 |
CN105603365B (zh) * | 2016-01-29 | 2018-07-10 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 真空蒸镀加热装置 |
CN106906445B (zh) * | 2017-03-29 | 2019-02-12 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种蒸发源 |
-
2017
- 2017-08-17 CN CN201710706267.6A patent/CN107400859B/zh active Active
- 2017-10-19 WO PCT/CN2017/106790 patent/WO2019033536A1/zh active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6237366A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-18 | Hitachi Ltd | 抵抗加熱真空蒸着装置 |
CN1162655A (zh) * | 1996-02-28 | 1997-10-22 | 鲍尔泽斯和利博尔德德国控股公司 | 基质镀膜装置用的蒸发舟 |
CN101265567A (zh) * | 2007-03-08 | 2008-09-17 | 应用材料公司 | 蒸发坩埚和具有合适的蒸发特性的蒸发设备 |
CN201751427U (zh) * | 2010-03-25 | 2011-02-23 | 彩虹显示器件股份有限公司 | 一种线性蒸发源 |
CN106119782A (zh) * | 2016-07-29 | 2016-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源、蒸镀设备及oled显示器生产设备 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
韩至成等: "《太阳能级硅提纯技术与装备》", 31 October 2011, 冶金工业出版社 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112981327A (zh) * | 2019-12-12 | 2021-06-18 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种真空热蒸镀用一体化蒸发源 |
CN114086125A (zh) * | 2021-11-19 | 2022-02-25 | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 | 玻璃基板蒸镀装置 |
CN114086125B (zh) * | 2021-11-19 | 2024-03-01 | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 | 玻璃基板蒸镀装置 |
CN114875364A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-08-09 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸发源装置 |
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