CN107369600A - 一种真空机台 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种真空机台,其包括第一真空腔室、第二真空腔室以及设置于二者之间的真空阀门组件,第一真空腔室和第二真空腔室相对设置有第一开口和第二开口,真空阀门组件包括阀门腔室以及其两侧的第一阀门和第二阀门,其中,第一阀门与第一开口形成开关配合,第二阀门与第二开口形成开关配合,第一真空腔室和阀门腔室之间设置有第一压力平衡装置,第二真空腔室和阀门腔室之间设置有第二压力平衡装置。通过该真空机台,能够使得对第一真空腔室或第二真空腔室的阀门进行单独拆卸保养时,其它腔室的压力不会受到影响,进而确保其它腔室的正常运行。
Description
技术领域
本申请涉及液晶显示领域,并且更具体地,涉及一种真空机台。
背景技术
在液晶面板的制造过程中,在很多的制程中会用到真空机台,这些真空机台通常包括多个真空腔室,并且相邻的两个腔室之间通过真空阀门组件连接,真空阀门组件作为两个腔室之间的连接装置,可以使这两个腔体保持真空和相对独立的状态,具体地,通过真空阀门组件的开关操作可以实现这两个真空腔室之间的连通和隔离。例如在干法刻蚀制程中,干法刻蚀机台为真空机台,该真空机台包括一个公共传送腔室和至少一个反应腔室,玻璃基板经过公共传送腔室被送入反应腔室中进行刻蚀反应,相邻的两个公共传送腔室和反应腔室的侧壁上相对设置有两个开口,在这两个腔室之间设置有连接装置——真空阀门组件,该真空阀门组件包括阀门腔体和其两侧的阀门,这两个阀门分别与各自对应的其中一个开口形成开关配合。可以通过该真空阀门组件的移动实现公共传送腔室和反应腔室的连通和隔离。在工作状态下,通常需要保持公共传送腔室、反应腔室以及阀门腔室同为真空状态。同时,在真空阀门组件的保养过程中,要求阀门两侧压力的保持一致或存在微小差别。为方便保养,则要求能够单独对每个阀门进行拆卸保养而又不影响其它腔室的正常运行。但是在实际操作中,为保证生产的延续性,提高生产效能,如何实现单独拆卸阀门进行保养而不影响其他腔室的正常运行成为一个值得关注的问题。
发明内容
针对上述现有技术中的问题,本申请提出了一种真空机台,通过在第一真空腔室和阀门腔室之间设置第一压力平衡装置以及在第二真空腔室和阀门腔室之间设置第二压力平衡装置,能够使得在对第一真空腔室或第二真空腔室的阀门进行单独拆卸保养时,其它腔室的压力不会受到影响,进而确保其它腔室的正常运行。
一方面,本申请提供了一种真空机台,其包括第一真空腔室、第二真空腔室以及设置于二者之间的真空阀门组件,所述第一真空腔室和所述第二真空腔室相对设置有第一开口和第二开口,所述真空阀门组件包括阀门腔室以及其两侧的第一阀门和第二阀门,其中,第一阀门与第一开口形成开关配合,第二阀门与第二开口形成开关配合,所述第一真空腔室和所述阀门腔室之间设置有第一压力平衡装置,以及所述第二真空腔室和所述阀门腔室之间均设置有第二压力平衡装置。通过该方面,能够使得对第一真空腔室或第二真空腔室的阀门进行单独拆卸保养时,其它腔室的压力不会受到影响,进而确保其它腔室的正常运行。
根据该方面的一种可能的实现方式,第一压力平衡装置和第二压力平衡装置为带有开关阀的连接管路。
根据该方面的一种可能的实现方式,第一真空腔室和所述第二真空腔室均设置有排气装置,所述排气装置包括带有开关阀的排气管路和真空泵。
根据该方面的一种可能的实现方式,第一真空腔室和所述第二真空腔室均设置有带有开关阀的送气管路。
根据该方面的一种可能的实现方式,第一压力平衡装置和第二压力平衡装置包括带有开关阀的连接管路、排气装置和带有开关阀的送气管路。通过该实现方式,能够将该真空机台的结构进一步简化,降低错误操作的可能性。
根据该方面的一种可能的实现方式,阀门腔室上还设置有带有开关阀的安全管路。通过该实现方式,能够使在不需要对真空阀门组件的阀门进行保养时,在真空阀门组件本身出现突发状况时,对其进行通入气体进行维护。
根据该方面的一种可能的实现方式,所述第二真空腔室为反应腔室,其用于在干法蚀刻制程中进行蚀刻反应。
根据该方面的一种可能的实现方式,所述第一真空腔室为公共传送腔室。
根据该方面的一种可能的实现方式,真空机台还包括传动模块,其用于传动所述真空阀门组件以实现所述第一真空腔室和所述第二真空腔室的连通与隔离。
上述技术特征可以各种适合的方式组合或由等效的技术特征来替代,只要能够达到本发明的目的。
通过本发明的真空机台,能够使得在对第一真空腔室或第二真空腔室的阀门进行单独拆卸保养时,其它腔室的压力不会受到影响,进而确保其它腔室的正常运行。同时,该真空机台减少了大量的管路及开关阀,降低了异常当机的频率及部件更换的数量,从而有效降低了机台维护成本,提高该真空机台的使用寿命。最后,设置安全阀门可以用于单独维护真空阀门组件的紧急作业。
附图说明
在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。其中:
图1为根据本发明实施例的真空机台的结构示意图;
图2为根据本发明另一实施例的真空机台的结构示意图;
图3为现有技术实施例的真空机台的结构示意图;
图4为现有技术另一实施例的真空机台的结构示意图。
在附图中,相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步说明。
图1为本发明的真空机台100的结构示意图。如图1所示,该真空机台100包括第一真空腔室110、第二真空腔室120以及设置于二者之间的真空阀门组件130,第一真空腔室110的侧壁上和第二真空腔室120的侧壁上分别相对设置有第一开口111和第二开口121,真空阀门组件130包括阀门腔室131以及其两侧的第一阀门132和第二阀门133,其中,第一阀门132与第一开口111形成开关配合,第二阀门133与第二开口121形成开关配合,第一真空腔室110和阀门腔室130之间设置有第一压力平衡装置141,第二真空腔室120和阀门腔室130之间设置有第二压力平衡装置142。
在上述真空机台100中,第一真空腔室110和第二真空腔室120相对设置,在二者相对的侧壁上分别设置有等高的第一开口111和第二开口121,真空阀门组件130的将第一真空腔室110和第二真空腔室120连接起来,第一阀门132通过移动实现对第一开口111的开启和关闭,第二阀门133通过移动实现对第二开口121的开启和关闭,即通过真空阀门组件130的移动实现对第一真空腔室110和第二真空腔室120的连通与隔离。在第一真空腔室110和阀门腔室131之间设置有第一压力平衡装置141,在第二真空腔室120和阀门腔室131之间设置有第二压力平衡装置142,压力平衡装置用于使得第一真空腔室110或第二真空腔室120与阀门腔室131之间保持压力平衡,且平衡装置141和142上均包括开关阀以实现对该装置的开启和关断。
如图2所示,该真空机台100还包括设置于阀门腔室131上的安全管路170,该安全管路170上设置有开关阀,以控制其开启与关断。在工作状态下,当阀门腔室131中混入了不纯物时,可以开启该安全管路170以对阀门腔室131进行紧急保养。应理解,该安全管路170还可以与第一压力平衡装置141或第二平衡装置142结合使用,这样可以加快通气速度。
在正常工作状态下,第一压力平衡装置141和第二压力平衡装置142分别用于确保第一真空腔室110、第二真空腔室120以及阀门腔室131内部同为真空状态。在需要对其中一个腔室的阀门(以第一真空腔室110为例)进行单独拆卸保养时,调节第一真空腔室110对应的第一压力平衡装置141,使该腔室和阀门腔室131均为大气压,第二真空腔室120由于内部仍为真空状态,其阀门不会打开,进而保证了第二真空腔室120的正常运行。在第一阀门132保养完成后,重新调节第一压力平衡装置141使得第一真空腔室110和阀门腔室131恢复为真空状态。
如图1所示,优选地,该第一压力平衡装置141和第二压力平衡装置142为带有开关阀的连接管路。第一真空腔室110和第二真空腔室120还均设置有带有与开关阀的送气管路和排气管路,即第一真空腔室110上设置有带有开关阀的第一送气管路161和带有开关阀的第一排气管路151,第二真空腔室120上设置有带有开关阀的第二送气管路162和带有开关阀的第二排气管路152,第一排气管路151和第二排气管路152和同一或不同的真空泵相连。在这种构造情况下,对腔室的送气是通过送气管路进行的,对腔室的排气使通过排气管路和真空泵进行的。以第一真空腔室110为例,在工作状态下,真空机台100的所有开关阀为关闭状态,需要对第一阀门132进行单独拆卸保养时,需要先打开第一送气管路161的开关阀,使第一真空腔室110达到大气压,同时打开第一压力平衡装置141(连接管路)的开关阀,使阀门腔室131也达到大气压状态,第二真空腔室120由于内部仍为真空状态,其阀门不会打开,进而保证了第二真空腔室120的正常运行。在第一阀门132保养完成后,关闭第一送气管路161的开关阀,打开第一排气管路151的开关阀,启动真空泵使得第一真空腔室110和阀门腔室131恢复为真空状态,然后关闭所有的开关阀。
作为一种优选方案,该压力平衡装置还可以包括带有开关阀的连接管路、通气装置以及带有开关阀的送气管路,其中,通气装置包括真空泵和带有开关阀的排气装置,也就是说,第一压力平衡装置141可以包括带有开关阀的连接管路、第一排气管路151、第一送气管路161和真空泵,第二压力平衡装置142可以包括带有开关阀的连接管路、第二排气管路152、第二送气管路162和真空泵。在这种构造下,其操作方法与上文相同,在此不作赘述。
优选地,在液晶面板的制造领域中,该真空机台100可以用于面板的干法刻蚀制程中,在干法刻蚀制程机台中,第二真空腔室120为反应腔室,用于将玻璃面板进行干法刻蚀,第一真空腔室110为公共传送腔室,用于将玻璃面板传送到反应腔室中。
应理解,该真空机台100还包括用于传动该真空阀门组件130的传动模块(未示出),该传动模块与真空阀门组件130传动连接,以通过移动真空阀门组件实现对第一真空腔室110和第二真空腔室120的连通与隔离。其可以包括垂直传动单元和水平传动单元,垂直传动单元用于将真空阀门组件130沿着垂直方向移动,水平传动单元则用于将真空阀门组件130沿着水平方向移动,从而可以在垂直方向和水平方向移动真空阀门组件130。在本文中,“水平方向”指的是图1中垂直于纸面的方向,而“垂直方向”指的是在纸面内与水平方向垂直的方向。
应理解,该真空机台100还包括用于气缸,以驱动垂直传动单元和水平传动单元移动。
作为对比例,在现有技术中,提供了两种用于实现本发明解决的问题的方案。如图3所示为对比例1,在真空机台200中,包括第一真空腔室210、第二真空腔室220以及设置于二者之间的真空阀门组件230,第一真空腔室210的侧壁上和第二真空腔室220的侧壁上相对设置有第一开口211和第二开口221,真空阀门组件130包括阀门腔室231以及其两侧的第一阀门232和第二阀门233,其中,第一阀门232与第一开口211形成开关配合,第二阀门233与第二开口221形成开关配合,第一真空腔室210上设置有第一送气管路261和第一排气管路251,第二真空腔室220上设置有第二送气管路262和第二排气管路252,在阀门腔室231上设置有第三送气管路263和第三排气管路253,它们的末端分别连接到第一送气管路261上和第一排气管路251上,在阀门腔室231上还设置有第四送气管路264和第四排气管路254,它们的末端分别连接到第二送气管路262上和第二排气管路252上。
在该对比例1中,能够使得在对第一阀门232和第二阀门233进行单独拆卸保养时,其他腔室中的压力不受影响,从而能够确保其它腔室的正常作业,但是该对比例中管路及开关阀多而复杂,在实际使用中对于软体及硬件的要求较高,部件异常、更换及软体阀门控制等问题常常对机台产生不利的影响,降低机台的使用寿命。
在对比例2中,真空机台300包括第一真空腔室310、第二真空腔室320以及设置于二者之间的真空阀门组件330,第一真空腔室310的侧壁上和第二真空腔室320的侧壁上相对设置有第一开口311和第二开口321,真空阀门组件330包括阀门腔室331以及其两侧的两个阀门332和333,其中,第一阀门332与第一开口311形成开关配合,第二阀门333与第二开口321形成开关配合,在第一真空腔室310和阀门腔室331之间设置有第一压力平衡装置341,第一压力平衡装置341上设置有阀门以实现对该装置的开启和关断。同时,该真空机台300还包括设置于阀门腔室331上的安全管路370,该安全管路370上设置有阀门,以控制其开启与关断。
对比例2通过安全阀门370的方式对阀门腔室331进行清洁,使用第一真空腔室310的真空泵对阀门腔室331进行抽真空作业,实现了单独拆卸第一阀门332和第二阀门333的目的,但是其还具有以下缺点:(1)使用安全阀门370将阀门腔室331与外界大气相连,使得阀门腔室331的清洁变得困难,影响了机台内部的洁净程度;(2)在对第二阀门333进行单独拆卸保养时,在复机时,第一真空腔室310会有瞬间的回压异常,造成机台短暂当机,影响了其它腔室的运行。
因此,相较于对比例1和对比例2,本申请所提供的真空机台有效避免了回压异常以及阀门腔室内部洁净度不高的问题,且该真空机台减少了大量的管路以及阀,降低了异常当机的频率以及部件更换的数量,有效降低了机台维护成本,提高机台的使用寿命。
虽然在本文中参照了特定的实施方式来描述本发明,但是应该理解的是,这些实施例仅仅是本发明的原理和应用的示例。因此应该理解的是,可以对示例性的实施例进行许多修改,并且可以设计出其他的布置,只要不偏离所附权利要求所限定的本发明的精神和范围。应该理解的是,可以通过不同于原始权利要求所描述的方式来结合不同的从属权利要求和本文中所述的特征。还可以理解的是,结合单独实施例所描述的特征可以使用在其他所述实施例中。
Claims (9)
1.一种真空机台,包括第一真空腔室、第二真空腔室以及设置于二者之间的真空阀门组件,所述第一真空腔室和所述第二真空腔室相对设置有第一开口和第二开口,所述真空阀门组件包括阀门腔室以及其两侧的第一阀门和第二阀门,其中,所述第一阀门与所述第一开口形成开关配合,所述第二阀门与所述第二开口形成开关配合,其特征在于,所述第一真空腔室和所述阀门腔室之间设置有第一压力平衡装置,以及所述第二真空腔室和所述阀门腔室之间设置有第二压力平衡装置。
2.根据权利要求1所述的真空机台,其特征在于,所述第一压力平衡装置和所述第二压力平衡装置为带有开关阀的连接管路。
3.根据权利要求2所述的真空机台,其特征在于,所述第一真空腔室和所述第二真空腔室均设置有排气装置。
4.根据权利要求3所述的真空机台,其特征在于,所述第一真空腔室和所述第二真空腔室均设置有带有开关阀的送气管路。
5.根据权利要求1所述的真空机台,其特征在于,所述第一压力平衡装置和所述第二压力平衡装置均包括带有开关阀的连接管路、排气装置和带有开关阀的送气管路。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的真空机台,其特征在于,所述阀门腔室上还设置有带有开关阀的安全管路。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的真空机台,其特征在于,所述第二真空腔室为反应腔室,其用于在干法蚀刻制程中进行蚀刻反应。
8.根据权利要求7所述的真空机台,其特征在于,所述第一真空腔室为公共传送腔室。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的真空机台,其特征在于,所述真空机台还包括传动模块,其用于传动所述真空阀门组件以实现所述第一真空腔室和所述第二真空腔室的连通与隔离。
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---|---|
CN (1) | CN107369600B (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110450195A (zh) * | 2019-09-06 | 2019-11-15 | 威格气体纯化科技(苏州)股份有限公司 | 气压调节室及具有其的密封箱 |
CN110610881A (zh) * | 2019-10-16 | 2019-12-24 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 腔室压力平衡方法、装置、系统及半导体加工设备 |
WO2023284018A1 (zh) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 长鑫存储技术有限公司 | 一种门阀装置、清洁方法和机械设备 |
US11933416B2 (en) | 2021-07-16 | 2024-03-19 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Gate valve device, cleaning method and mechanical apparatus |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070056717A (ko) * | 2005-11-30 | 2007-06-04 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 제조장비의 역류방지 및 진공유지 장치 |
CN101348898A (zh) * | 2007-07-17 | 2009-01-21 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种改进的真空泵系统 |
CN101922437A (zh) * | 2010-08-05 | 2010-12-22 | 友达光电股份有限公司 | 真空设备 |
CN102618827A (zh) * | 2012-04-27 | 2012-08-01 | 徐明生 | 一种连续制备二维纳米薄膜的装置 |
CN102732834A (zh) * | 2012-06-18 | 2012-10-17 | 徐明生 | 一种制备二维纳米薄膜的设备 |
CN203348041U (zh) * | 2013-07-17 | 2013-12-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 成盒腔体抽真空装置以及对盒装置 |
CN103858207A (zh) * | 2011-10-05 | 2014-06-11 | 株式会社善隣 | 腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置 |
CN203683659U (zh) * | 2013-12-31 | 2014-07-02 | 中晟光电设备(上海)有限公司 | 用于多反应腔化学气相沉积设备的多腔双密封圈系统 |
CN104653828A (zh) * | 2013-11-21 | 2015-05-27 | Vat控股公司 | 用于运行阀的方法 |
CN105552001A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-05-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种真空系统 |
CN105842997A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-10 | 中国科学院光电研究院 | 一种动态气体锁的试验装置和试验方法 |
CN107142464A (zh) * | 2017-05-02 | 2017-09-08 | 惠科股份有限公司 | 一种化学气相沉膜装置 |
-
2017
- 2017-07-31 CN CN201710638896.XA patent/CN107369600B/zh active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070056717A (ko) * | 2005-11-30 | 2007-06-04 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 제조장비의 역류방지 및 진공유지 장치 |
CN101348898A (zh) * | 2007-07-17 | 2009-01-21 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种改进的真空泵系统 |
CN101922437A (zh) * | 2010-08-05 | 2010-12-22 | 友达光电股份有限公司 | 真空设备 |
CN103858207A (zh) * | 2011-10-05 | 2014-06-11 | 株式会社善隣 | 腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置 |
CN102618827A (zh) * | 2012-04-27 | 2012-08-01 | 徐明生 | 一种连续制备二维纳米薄膜的装置 |
CN102732834A (zh) * | 2012-06-18 | 2012-10-17 | 徐明生 | 一种制备二维纳米薄膜的设备 |
CN203348041U (zh) * | 2013-07-17 | 2013-12-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 成盒腔体抽真空装置以及对盒装置 |
CN104653828A (zh) * | 2013-11-21 | 2015-05-27 | Vat控股公司 | 用于运行阀的方法 |
CN203683659U (zh) * | 2013-12-31 | 2014-07-02 | 中晟光电设备(上海)有限公司 | 用于多反应腔化学气相沉积设备的多腔双密封圈系统 |
CN105552001A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-05-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种真空系统 |
CN105842997A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-10 | 中国科学院光电研究院 | 一种动态气体锁的试验装置和试验方法 |
CN107142464A (zh) * | 2017-05-02 | 2017-09-08 | 惠科股份有限公司 | 一种化学气相沉膜装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110450195A (zh) * | 2019-09-06 | 2019-11-15 | 威格气体纯化科技(苏州)股份有限公司 | 气压调节室及具有其的密封箱 |
CN110610881A (zh) * | 2019-10-16 | 2019-12-24 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 腔室压力平衡方法、装置、系统及半导体加工设备 |
WO2023284018A1 (zh) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 长鑫存储技术有限公司 | 一种门阀装置、清洁方法和机械设备 |
US11933416B2 (en) | 2021-07-16 | 2024-03-19 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Gate valve device, cleaning method and mechanical apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107369600B (zh) | 2019-09-27 |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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